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Scopri come i sistemi di sputtering utilizzano il plasma per depositare film ultra-sottili e uniformi su vari substrati, dai wafer di silicio alle plastiche sensibili al calore.
Scopri i metodi di deposizione come PVD e sputtering per applicare rivestimenti a film sottile precisi e durevoli in un ambiente sottovuoto controllato.
Scopri i principi fondamentali della PVD, un processo basato sul vuoto per la creazione di film sottili durevoli e ad alta purezza per applicazioni industriali e ottiche.
Scopri come la deposizione fisica da vapore (PVD) crea film sottili durevoli in un ambiente sottovuoto per migliorare le prestazioni e la protezione dei materiali.
Scopri come la deposizione di film sottili sotto vuoto crea rivestimenti ultrasottili e ad alte prestazioni per una maggiore durabilità, elettronica e ottica.
Scopri come il rivestimento PVD applica film sottili e ad alte prestazioni per migliorare la resistenza all'usura, la protezione termica e le proprietà ottiche/elettroniche.
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Scopri il processo di deposizione con sputter coating passo dopo passo, una tecnica PVD per creare film sottili uniformi e ad alta purezza per SEM, ricerca e produzione.
Scopri perché la sputtering a magnetron è il metodo preferito per depositare film sottili superiori con elevata densità, purezza e adesione a basse temperature.
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Scopri come la pressione della camera influisce sulla densità, l'adesione e la conformità del film sottile nello sputtering a magnetron. Padroneggia questo parametro chiave per risultati migliori.
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Scopri come la deposizione di film sottili sotto vuoto crea rivestimenti ultra-puri per semiconduttori, ottica, dispositivi medici e materiali durevoli.
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Scopri come il rivestimento a sputtering crea film ultra-sottili e uniformi per la microelettronica, l'ottica e l'aerospaziale con purezza e durata senza pari.
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