Lo sputtering è un processo che si basa sul trasferimento di quantità di moto da parte di ioni energetici ad atomi in un materiale solido di destinazione.
Questo trasferimento porta all'espulsione di questi atomi nella fase gassosa.
Il processo è essenziale per la deposizione di film sottili e per varie tecniche analitiche.
Su quale trasferimento si basa lo sputtering? 5 punti chiave spiegati
1. Bombardamento di ioni
Nel processo di sputtering, gli ioni di un gas inerte, in genere argon, sono accelerati da un campo elettrico verso un materiale bersaglio.
Questi ioni sono carichi positivamente e sono attratti dal bersaglio carico negativamente ad alta velocità.
2. Trasferimento di quantità di moto
Al momento dell'impatto, gli ioni energetici trasferiscono la loro quantità di moto agli atomi del materiale bersaglio.
Questo trasferimento è in parte anelastico, il che significa che parte dell'energia cinetica degli ioni viene convertita in energia vibrazionale all'interno del materiale bersaglio.
3. Espulsione degli atomi del bersaglio
La quantità di moto trasferita è sufficiente a superare l'energia di legame tra gli atomi bersaglio.
Ciò provoca l'espulsione degli atomi dal reticolo del materiale allo stato gassoso all'interno della camera di rivestimento.
Questa espulsione di atomi è nota come sputtering.
4. Deposizione su substrati
Gli atomi o le particelle sputate attraversano lo spazio vuoto e si depositano su un substrato, formando un film sottile.
La deposizione può avvenire in linea visiva oppure le particelle possono essere nuovamente ionizzate e accelerate da forze elettriche verso il substrato.
5. Versatilità di applicazione
Poiché lo sputtering non richiede la fusione del materiale di partenza, può essere applicato a vari orientamenti e forme complesse.
Questo lo rende un metodo versatile per rivestire diversi tipi di superfici.
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