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La CVD offre una versatilità dei materiali e un'indipendenza dal substrato superiori rispetto all'ossidazione, consentendo strutture multistrato complesse nella produzione di semiconduttori.
Il mercato globale della CVD è stato valutato 27,6 miliardi di dollari nel 2020 e si prevede che crescerà fino a 53,2 miliardi di dollari entro il 2028, trainato dalla domanda nell'elettronica e nei materiali avanzati.
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CVD vs. ALD: Comprendi i compromessi tra velocità e precisione per le tue esigenze di deposizione di film sottili. Scopri quale metodo è il migliore per la tua applicazione.
Scopri come la deposizione applica strati sottili e uniformi di materiale sui wafer di silicio, formando i componenti essenziali dei circuiti integrati e dei microchip.
Le velocità di deposizione CVD variano ampiamente, da angstrom/minuto per ALD di precisione a micrometri/minuto per rivestimenti ad alta produttività. Scopri come scegliere il processo giusto.
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CVD sta per Deposizione Chimica da Vapore (Chemical Vapor Deposition). Scopri come un reattore CVD crea film sottili ad alte prestazioni per semiconduttori, materiali avanzati e altro ancora.
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