La deposizione chimica da vapore (CVD) è un processo complesso utilizzato per creare film sottili su vari substrati.
5 fasi chiave della reazione CVD
1) Introduzione dei precursori chimici
I precursori chimici vengono introdotti nel reattore CVD.
Queste sostanze chimiche sono i materiali di partenza che reagiscono per formare il film sottile desiderato.
2) Trasporto delle molecole di precursore
Una volta all'interno del reattore, le molecole dei precursori devono essere trasportate sulla superficie del substrato.
Questo avviene tipicamente attraverso una combinazione di trasporto fluido e diffusione.
3) Assorbimento sulla superficie del substrato
Le molecole di precursore che raggiungono la superficie del substrato devono poi subire un adsorbimento.
Per adsorbimento si intende il fissaggio di queste molecole sulla superficie del substrato.
Questa fase è fondamentale per il verificarsi delle reazioni successive.
4) Reazioni chimiche
Una volta adsorbite, le molecole del precursore reagiscono con la superficie del substrato per formare il film sottile desiderato.
Queste reazioni possono essere omogenee in fase gassosa o eterogenee che avvengono sulla/vicino alla superficie riscaldata del substrato.
5) Desorbimento dei sottoprodotti
Durante le reazioni chimiche si formano molecole di sottoprodotti.
Questi sottoprodotti devono essere desorbiti dalla superficie del substrato per fare spazio ad altre molecole di precursori in arrivo.
Il desorbimento si riferisce al rilascio di queste molecole nella fase gassosa.
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