La macchina PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) è uno strumento utilizzato nell'industria dei semiconduttori per depositare film sottili su un substrato. La macchina utilizza un plasma a bassa temperatura per generare una scarica a bagliore per riscaldare il campione e introdurre una quantità adeguata di gas di processo. Il processo prevede reazioni chimiche e al plasma per formare un film solido sulla superficie del campione. Le apparecchiature PECVD sono composte principalmente da sistemi di controllo del vuoto e della pressione, sistemi di precipitazione, controllo del gas e del flusso, controllo computerizzato e sistemi di protezione di sicurezza. La macchina è utilizzata per il rivestimento continuo e la modifica di materiali in polvere con il metodo CVD in un ambiente protetto dall'atmosfera.
Attiva/disattiva categorie
Scorciatoia
Chatta con noi per una comunicazione veloce e diretta.
Risposta immediata nei giorni lavorativi (entro 8 ore nei giorni festivi)
macchina pecvd
Forno tubolare Slide PECVD con gassificatore liquido Macchina PECVD
Numero articolo : KT-PE12
Numero articolo : KT-PE16
Macchina di rivestimento PECVD con evaporazione potenziata da plasma
Numero articolo : KT-PED
Sistema RF PECVD Deposizione di vapore chimico potenziata da plasma a radiofrequenza
Numero articolo : KT-RFPE
Richiedi il tuo preventivo personalizzato 👋
Richiedi il tuo preventivo ora! Lasciate un messaggio Ottieni un preventivo rapido Via WhatsappLa nostra vasta gamma di prodotti garantisce una soluzione standard adeguata alle vostre esigenze. Offriamo anche servizi di progettazione su misura per soddisfare le esigenze specifiche dei clienti. Le nostre macchine PECVD sono strumenti essenziali nella moderna produzione di semiconduttori, in quanto offrono un'eccellente uniformità del film, un processo a bassa temperatura e un'elevata produttività. Le nostre macchine sono utilizzate in un'ampia gamma di applicazioni, tra cui la deposizione di film sottili per dispositivi microelettronici, celle fotovoltaiche e pannelli di visualizzazione.
Applicazioni della macchina PECVD
- Deposizione di film sottili per dispositivi microelettronici
- Produzione di celle fotovoltaiche
- Produzione di pannelli di visualizzazione
- Deposizione di film di biossido di silicio
- Deposizione di film di nitruro di silicio
- Deposizione di film di silicio amorfo
- Deposizione di film su substrati a basso budget termico
- Produzione di dispositivi a semiconduttore di potenza
- Produzione di optoelettronica
- Utilizzo nei data center
- Produzione di apparecchiature per reti 5G
- Produzione di apparecchiature per veicoli autonomi
- Produzione di dispositivi per le energie rinnovabili
- Produzione di apparecchiature per la guerra elettronica
- Produzione di illuminazione intelligente
Vantaggi della macchina PECVD
- Basse temperature di deposizione
- Buona conformità e copertura dei gradini su superfici irregolari
- Controllo più stretto del processo di film sottile
- Elevata velocità di deposizione
- Adatta alla fabbricazione di film con composizioni e microstrutture diverse, permette di variare continuamente le caratteristiche del film in funzione della profondità
- Fornisce tassi di deposizione elevati, sostanzialmente superiori a quelli di altre tecniche tradizionali basate sul vuoto.
- Possibilità di rivestire uniformemente substrati di forme diverse (anche 3D)
- I film depositati hanno basse sollecitazioni meccaniche
- Buona copertura conforme del gradino ed eccellente uniformità dello spessore dei film sul bordo del gradino e sulla superficie piana
- Deposita film sottili con buone proprietà dielettriche
- Prestazioni elettriche ad alta efficienza e incollaggio secondo standard molto elevati
La nostra macchina PECVD è una soluzione economica per tutte le vostre esigenze di deposizione di film sottili. Con la nostra vasta gamma di prodotti, vi forniamo una soluzione standard adatta alle vostre esigenze, mentre per le applicazioni più particolari, il nostro servizio di progettazione personalizzata ci aiuterà a soddisfare i vostri requisiti specifici.
FAQ
Che Cos'è Il Metodo PECVD?
A Cosa Serve La PECVD?
Quali Sono I Vantaggi Della PECVD?
Qual è La Differenza Tra ALD E PECVD?
Qual è La Differenza Tra PECVD E Sputtering?
RICHIEDI UN PREVENTIVO
Il nostro team professionale ti risponderà entro un giorno lavorativo. Non esitare a contattarci!
Articoli correlati
Confronto tra i più comuni processi di ricottura dei semiconduttori
Una panoramica dei diversi metodi di ricottura dei semiconduttori e delle loro caratteristiche.
Tecnologia PECVD: Principi, materiali, vantaggi e applicazioni
Un'analisi approfondita della tecnologia PECVD, dei suoi principi, dei materiali, dei parametri di processo, dei vantaggi e delle applicazioni in vari settori.
Preparazione del grafene mediante deposizione chimica da vapore (CVD)
Questo articolo illustra i vari metodi di preparazione del grafene, concentrandosi sulla tecnica della deposizione chimica da vapore (CVD) e sui suoi progressi.
Vantaggi della deposizione chimica da vapore
Esplora i vantaggi della deposizione da vapore chimico, tra cui la velocità di formazione del film, la forza di adesione e il basso danno da radiazioni.
Deposizione di vapore chimico a bassa pressione (LPCVD) nella produzione di semiconduttori
Analizzare la tecnologia di base dell'LPCVD nella produzione di semiconduttori, dai principi ai tipi di macchine.
Conoscere la tecnologia di deposizione da vapore chimico di metalli organici (MOCVD)
Un'esplorazione approfondita della tecnologia MOCVD, dei suoi principi, delle attrezzature e delle applicazioni nella crescita dei semiconduttori.
Scelta del forno a tubi giusto per l'uso in laboratorio
Guida alla scelta di un forno a tubi in base alla temperatura, alle dimensioni del campione, alle zone di temperatura, alle funzioni e ai sistemi di vuoto.
Come la PECVD tubolare si adatta ai wafer di grandi dimensioni
Esplorazione delle sfide e delle soluzioni per la PECVD tubolare nella gestione di wafer di silicio di grandi dimensioni.
Processi e parametri dettagliati della PECVD per la deposizione di TiN e Si3N4
Un'esplorazione approfondita dei processi PECVD per TiN e Si3N4, compresa la configurazione delle apparecchiature, le fasi operative e i parametri chiave del processo.
Cause comuni di rilavorazione e soluzioni per i rivestimenti tubolari PECVD
Questo articolo esamina le cause comuni di rilavorazione nel rivestimento PECVD per celle solari in silicio cristallino e fornisce soluzioni praticabili per migliorare la qualità e ridurre i costi.
Cause anomale comuni e soluzioni per il rivestimento PECVD nelle celle solari in silicio cristallino
Analizza i problemi comuni del rivestimento PECVD nelle celle solari e fornisce soluzioni per migliorare la qualità e ridurre i costi.
Introduzione al processo di deposizione PECVD di silicio amorfo nella formazione di film a scoppio
Spiega il meccanismo di formazione del film di rottura nella deposizione PECVD di silicio amorfo e le soluzioni per prevenirlo.
I principali ostacoli alla tecnologia di nanorivestimento PECVD
Esplora i principali ostacoli allo sviluppo e all'applicazione della tecnologia di nanorivestimento PECVD.
Ottimizzazione dei processi di rivestimento PECVD per i dispositivi MEMS
Guida alla configurazione e all'ottimizzazione dei processi PECVD per film di ossido e nitruro di silicio di alta qualità nei dispositivi MEMS.
Barche di grafite in PECVD per il rivestimento delle celle
Esplorazione dell'uso di barche di grafite in PECVD per un rivestimento efficiente delle celle.
Comprendere la scarica a bagliore nel processo PECVD
Esplora il concetto, le caratteristiche e gli effetti della scarica a bagliore in PECVD per la deposizione di film.
Tipi di processo PECVD, struttura dell'apparecchiatura e principio di processo
Una panoramica dei processi PECVD, delle strutture delle apparecchiature e dei problemi comuni, con particolare attenzione ai vari tipi di PECVD e alle loro applicazioni.
Applicazioni della tecnologia di nanorivestimento PECVD nei dispositivi elettronici
La tecnologia di nanorivestimento PECVD migliora la durata e l'affidabilità di vari dispositivi elettronici.
Applicazioni del nanorivestimento PECVD oltre l'impermeabilizzazione e la prevenzione della corrosione
Esplora diverse applicazioni di nanorivestimento PECVD, tra cui film impermeabili, anticorrosione, antibatterici, idrofili e resistenti all'usura.
Panoramica tecnica dei materiali anodici di silicio-carbonio preparati con metodo CVD
Questo articolo discute i principali aspetti tecnici dei materiali anodici silicio-carbonio preparati tramite CVD, concentrandosi sulla loro sintesi, sui miglioramenti delle prestazioni e sul potenziale di applicazione industriale.