macchina cvd

Abbiamo le migliori soluzioni di macchine CVD che supereranno le vostre aspettative, indipendentemente dal vostro budget. Il nostro ampio portafoglio garantisce la possibilità di soddisfare le vostre esigenze con una soluzione standard appropriata, mentre per le applicazioni uniche, il nostro servizio di progettazione su misura è in grado di soddisfare quasi tutte le richieste dei clienti. Le nostre macchine CVD sono protette da acidi, basi, contaminanti gassosi e organici per ridurre il rischio di contaminazione e tutti gli altri problemi critici. Le nostre macchine sono versatili e possono sintetizzare rivestimenti, polveri, fibre, nanotubi e componenti monolitici, compresi semiconduttori e leghe metalliche. Offriamo anche PECVD e sputtering attivato per le nuove generazioni di sistemi.

Applicazioni della macchina CVD

• Sintesi di rivestimenti, polveri, fibre, nanotubi e componenti monolitici.
• Produzione della maggior parte dei metalli e delle leghe metalliche e dei loro composti, come carburi, nitruri e ossidi
• Preparazione di semiconduttori, tra cui il carbonio e il silicio, e di sistemi non metallici come gli ossidi metallici.
• Generazione di nuovi sistemi come PECVD e sputtering attivato
• Sviluppo di film sottili nell'industria dei semiconduttori

Vantaggi delle macchine CVD

• Le macchine CVD offrono la possibilità di depositare una varietà di materiali di rivestimento, tra cui metalli, leghe e ceramiche.
• Il processo è facilmente scalabile e controllabile, il che lo rende ideale per la produzione in lotti e consente di risparmiare sui costi grazie alle economie di scala.
• La CVD deposita film molto puri, con una purezza superiore al 99,995%, e sono in genere a grana fine, consentendo un elevato grado di durezza, come i rivestimenti in carbonio simile al diamante (DLC).
• Le macchine CVD non richiedono un vuoto così elevato come i processi PVD e sono autopulenti, ad eccezione dei sottoprodotti chimici derivanti dalle reazioni.
• Le macchine CVD possono produrre film uniformi e altamente conformi su superfici di forma irregolare, grazie alle caratteristiche fisiche del flusso dei gas sulla superficie del substrato.
• Il processo CVD consente una certa flessibilità durante la deposizione, come la codifica di materiali diversi, l'inclusione di plasma o iniziatori per migliorare la reattività e il funzionamento a pressione atmosferica.
• Le macchine CVD hanno consentito la produzione di fogli di grafene su larga scala, che sono fogli atomicamente sottili di atomi di carbonio ibridati disposti in una struttura a nido d'ape, utilizzati per un'ampia gamma di applicazioni, dai display televisivi a grande schermo ai sistemi di filtraggio dell'acqua.

La nostra macchina CVD offre una soluzione perfetta grazie alla combinazione di convenienza e personalizzazione. La nostra vasta gamma di prodotti e il servizio di progettazione personalizzata assicurano che la nostra macchina CVD sia adattata ai vostri requisiti specifici, fornendovi una soluzione efficiente ed efficace. Le nostre apparecchiature e il processo CVD sono protetti da tutti i tipi di contaminanti, garantendo un risultato finale di altissima qualità.

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