Prodotti Apparecchiature termiche Forno CVD e PECVD Forno tubolare CVD a più zone di riscaldamento Macchina CVD
Attiva/disattiva categorie
Forno tubolare CVD a più zone di riscaldamento Macchina CVD

Forno CVD e PECVD

Forno tubolare CVD a più zone di riscaldamento Macchina CVD

Numero articolo : KT-CTF14

Il prezzo varia in base a specifiche e personalizzazioni


Temperatura massima
1400 ℃
Temperatura di lavoro costante
1300 ℃
Diametro del tubo del forno
60 mm
Zona di riscaldamento
2x450 mm
Velocità di riscaldamento
0-10 ℃/min
ISO & CE icon

Spedizione:

Contattaci per ottenere i dettagli sulla spedizione. Buon divertimento Garanzia di spedizione puntuale.

Applicazioni

Il forno CVD multizona KT-CTF14 ha 2 zone di riscaldamento, la temperatura massima di lavoro è fino a 1200℃, il tubo del forno è un tubo di quarzo di 60 mm di diametro; misuratore di portata massica MFC a 4 canali con fonti di gas CH4, H2, O2 e N2; la stazione del vuoto è una pompa a vuoto rotativa a palette da 4L/S, la pressione massima del vuoto è fino a 10Pa. La pressione del vuoto è fino a 10Pa.

Caratteristiche

  • Zone di riscaldamento indipendenti in grado di creare un campo di temperatura costante più lungo e un gradiente di temperatura controllato.
  • Controllo della temperatura programmabile PID, eccellente precisione di controllo e supporto del controllo remoto e del controllo centralizzato
  • Controllo del flussimetro di massa MFC ad alta precisione, premiscelazione dei gas di origine e velocità di alimentazione del gas stabile
  • Flangia per vuoto in acciaio inox con varie porte di adattamento per soddisfare le diverse configurazioni della stazione di pompaggio a vuoto, buona tenuta e alto grado di vuoto
  • KT-CTF14 Pro applica un controllore touch screen TFT da 7 pollici, per un'impostazione più semplice dei programmi e un'analisi dei dati storici.

Dettaglio e parti

5 zone di riscaldamento del forno CVD con pompa ad alto vuoto
5 zone di riscaldamento forno CVD con pompa ad alto vuoto
4 zone di riscaldamento con forno cvd split
4 zone di riscaldamento forno cvd split.
Forno CVD a 2 zone di riscaldamento con touch screen Stazione gas MFC
2 zone di riscaldamento forno CVD con touch screen stazione di gas MFC
1600C Forno CVD a 3 zone di riscaldamento con flangia di raffreddamento ad acqua
1600C 3 zone di riscaldamento forno CVD con flangia di raffreddamento ad acqua

Specifiche tecniche

Modello del forno KT-CTF14-60
Temperatura massima 1400℃
Temperatura di lavoro costante 1300℃
Materiale del tubo del forno Tubo Al2O3 di elevata purezza
Diametro del tubo del forno 60 mm
Zona di riscaldamento 2x450mm
Materiale della camera Fibra policristallina di allumina
Elemento di riscaldamento Carburo di silicio
Velocità di riscaldamento 0-10℃/min
Coppia termica Tipo S
Regolatore di temperatura Controllore PID digitale/controllore PID touch screen
Precisione del controllo della temperatura ±1℃
Unità di controllo preciso del gas
Misuratore di portata Misuratore di portata massica MFC
Canali gas 4 canali
Portata MFC1: 0-5SCCM O2
MFC2: 0-20SCMCH4
MFC3: 0-100 SCCM H2
MFC4: 0-500 SCCM N2
Linearità ±0,5% F.S.
Ripetibilità ±0,2% F.S.
Linea di tubi e valvola Acciaio inossidabile
Pressione massima di esercizio 0,45MPa
Controllore del flussometro Controllore digitale a manopola/controller a schermo tattile
Unità di vuoto standard (opzionale)
Pompa per vuoto Pompa per vuoto rotativa a palette
Portata della pompa 4L/S
Porta di aspirazione del vuoto KF25
Vacuometro Vacuometro Pirani/Resistenza al silicone
Pressione nominale del vuoto 10Pa
Unità per alto vuoto (opzionale)  
Pompa per vuoto Pompa rotativa a palette+pompa molecolare
Portata della pompa 4L/S+110L/S
Porta di aspirazione del vuoto KF25
Vacuometro Vacuometro composto
Pressione nominale del vuoto 6x10-5Pa
Le specifiche e le configurazioni di cui sopra possono essere personalizzate

Pacchetto standard

No. Descrizione Quantità
1 Forno 1
2 Tubo di quarzo 1
3 Flangia per il vuoto 2
4 Blocco termico del tubo 2
5 Gancio del blocco termico a tubo 1
6 Guanto resistente al calore 1
7 Controllo preciso del gas 1
8 Unità per il vuoto 1
9 Manuale operativo 1

Configurazione opzionale

  • Rilevamento e monitoraggio dei gas nel tubo, come H2, O2 e così via
  • Monitoraggio e registrazione indipendente della temperatura del forno
  • Porta di comunicazione RS 485 per il controllo remoto del PC e l'esportazione dei dati
  • Controllo della portata di alimentazione dei gas inseriti, come flussimetro di massa e flussimetro a galleggiante
  • Controllore di temperatura touch screen con funzioni versatili e di facile utilizzo per l'operatore
  • Configurazione della stazione di pompaggio ad alto vuoto, come pompa a vuoto a palette, pompa molecolare, pompa a diffusione

Avvertenze

La sicurezza dell'operatore è la questione più importante! Si prega di utilizzare l'apparecchiatura con cautele. Lavorare con gas infiammabili, esplosivi o tossici è molto complicato pericoloso, gli operatori devono prendere tutte le precauzioni necessarie prima di avviare il attrezzatura. Lavorare con pressione positiva all'interno dei reattori o delle camere lo è pericoloso, l'operatore deve rispettare rigorosamente le procedure di sicurezza. Extra è necessario prestare attenzione anche quando si opera con materiali reattivi all'aria, soprattutto sotto vuoto. Una perdita può far entrare aria nell'apparecchio e causare a si verifichi una reazione violenta.

Progettato per te

KinTek fornisce servizi e attrezzature su misura ai clienti di tutto il mondo, il nostro lavoro di squadra specializzato e gli ingegneri esperti e ricchi sono in grado di farlo intraprendere la personalizzazione dei requisiti hardware e software di personalizzazione, e aiutare i nostri clienti a costruire attrezzature esclusive e personalizzate e soluzione!

Vuoi comunicarci le tue idee, i nostri ingegneri sono pronti per te adesso!

FAQ

Che Cos'è Il Forno CVD?

La deposizione chimica da vapore (CVD) è una tecnologia che utilizza varie fonti di energia, come il riscaldamento, l'eccitazione del plasma o la radiazione luminosa, per far reagire chimicamente sostanze chimiche gassose o vaporizzate in fase gassosa o nell'interfaccia gas-solido e formare depositi solidi nel reattore per mezzo di una reazione chimica.

Il forno CVD è un sistema combinato di forni con unità di forni a tubo ad alta temperatura, unità di controllo dei gas e unità di vuoto, ampiamente utilizzato per la sperimentazione e la produzione di preparazione di materiali compositi, processi microelettronici, semiconduttori optoelettronici, utilizzo dell'energia solare, comunicazione in fibra ottica, tecnologia dei superconduttori, campo dei rivestimenti protettivi.

Che Cos'è Un Forno A Tubi?

Il forno per tubi da laboratorio è un classico forno per tubi ad alta temperatura a riscaldamento esterno, chiamato anche forno per riscaldamento a parete calda.

In base alle diverse temperature di lavoro, il materiale del tubo del forno può essere costituito da tubi di quarzo trasparente, tubi di ceramica di allumina ad alta purezza e tubi di leghe metalliche ad alta resistenza.

Per soddisfare diversi scopi di ricerca termica, il forno a tubi può essere progettato con più zone di riscaldamento, in modo da avere un controllo flessibile del gradiente di temperatura nella camera di lavoro del tubo; il tubo del forno può lavorare in un ambiente di lavoro ad atmosfera controllata o in un ambiente di lavoro ad alto vuoto.

Come Funziona Il Forno CVD?

Il sistema di forni CVD è costituito da un'unità di forni tubolari ad alta temperatura, da un'unità di controllo preciso della fonte di gas di reazione, da una stazione di pompa a vuoto e da parti di assemblaggio corrispondenti.

La pompa a vuoto serve a rimuovere l'aria dal tubo di reazione e ad assicurarsi che non vi siano gas indesiderati all'interno del tubo di reazione, dopodiché il forno tubolare riscalderà il tubo di reazione fino a raggiungere la temperatura desiderata, quindi l'unità di controllo preciso della fonte di gas di reazione potrà introdurre gas diversi con un rapporto prestabilito nel tubo del forno per la reazione chimica, e la deposizione di vapore chimico si formerà nel forno CVD.

Qual è Il Principio Di Base Della CVD?

Il principio di base della deposizione chimica da vapore (CVD) consiste nell'esporre un substrato a uno o più precursori volatili che reagiscono o si decompongono sulla sua superficie per produrre un deposito di film sottile. Questo processo può essere utilizzato per diverse applicazioni, come film di modellazione, materiali isolanti e strati metallici conduttori. La CVD è un processo versatile che può sintetizzare rivestimenti, polveri, fibre, nanotubi e componenti monolitici. È anche in grado di produrre la maggior parte dei metalli e delle leghe metalliche e dei loro composti, semiconduttori e sistemi non metallici. La deposizione di un solido su una superficie riscaldata a seguito di una reazione chimica in fase di vapore caratterizza il processo CVD.

Come Funziona Un Forno A Tubi?

Gli elementi riscaldanti del forno a tubo sono posizionati intorno alla cavità cilindrica; il forno può riscaldare i campioni nella cavità cilindrica solo attraverso la radiazione termica indiretta, poiché il tubo del forno può evitare che il materiale del campione entri in contatto con gli elementi riscaldanti del forno e i materiali isolanti; il forno a tubo crea quindi una camera di calore isolata e pulita e riduce i rischi di contaminazione del materiale del campione da parte del forno.

Quale Gas Viene Utilizzato Nel Processo CVD?

Ci sono diverse fonti di gas che possono essere utilizzate nel processo CVD, le reazioni chimiche comuni della CVD includono pirolisi, fotolisi, riduzione, ossidazione, ossidoriduzione, quindi i gas coinvolti in queste reazioni chimiche possono essere utilizzati nel processo CVD.

Prendiamo ad esempio la crescita di grafene CVD, i gas utilizzati nel processo CVD saranno CH4, H2, O2 e N2.

Quali Sono I Diversi Tipi Di Metodi CVD?

I diversi tipi di metodi CVD comprendono la CVD a pressione atmosferica (APCVD), la CVD a bassa pressione (LPCVD), la CVD ad altissimo vuoto, la CVD supportata da aerosol, la CVD a iniezione diretta di liquidi, la CVD a parete calda, la CVD a parete fredda, la CVD al plasma a microonde, la CVD potenziata al plasma (PECVD), la CVD potenziata al plasma a distanza, la CVD potenziata al plasma a bassa energia, la CVD a strato atomico, la CVD a combustione e la CVD a filamento caldo. Questi metodi si differenziano per il meccanismo di innesco delle reazioni chimiche e per le condizioni operative.

Quali Sono Le Applicazioni Del Forno A Tubi?

Il forno tubolare è utilizzato principalmente in metallurgia, vetro, trattamento termico, materiali anodici e catodici al litio, nuove energie, abrasivi e altre industrie, ed è un'apparecchiatura professionale per la misurazione dei materiali in determinate condizioni di temperatura.

Il forno tubolare è caratterizzato da una struttura semplice, un funzionamento facile, un controllo facile e una produzione continua.

Il forno tubolare è anche ampiamente applicato nei sistemi CVD (deposizione di vapore chimico) e CVD potenziati al plasma.

Qual è Il Vantaggio Del Sistema CVD?

  • È possibile produrre un'ampia gamma di film, film metallici, film non metallici e film in lega multicomponente, a seconda delle esigenze. Allo stesso tempo, può preparare cristalli di alta qualità difficilmente ottenibili con altri metodi, come GaN, BP, ecc.
  • La velocità di formazione del film è rapida, di solito diversi micron al minuto o addirittura centinaia di micron al minuto. È possibile depositare simultaneamente grandi quantità di rivestimenti con una composizione uniforme, cosa incomparabile con altri metodi di preparazione del film, come l'epitassia in fase liquida (LPE) e l'epitassia a fascio molecolare (MBE).
  • Le condizioni di lavoro sono realizzate in condizioni di pressione normale o di basso vuoto, quindi il rivestimento ha una buona diffrazione e i pezzi con forme complesse possono essere rivestiti uniformemente, il che è molto superiore alla PVD.
  • La deposizione chimica da vapore può ottenere una superficie di deposizione liscia. Rispetto all'LPE, infatti, la deposizione da vapore chimico (CVD) avviene in condizioni di elevata saturazione, con un alto tasso di nucleazione, un'alta densità di nucleazione e una distribuzione uniforme su tutto il piano, con il risultato di una superficie macroscopica liscia. Allo stesso tempo, nella deposizione da vapore chimico, il percorso libero medio delle molecole (atomi) è molto più grande di quello dell'LPE, quindi la distribuzione spaziale delle molecole è più uniforme, il che favorisce la formazione di una superficie di deposizione liscia.
  • Basso danno da radiazioni, che è una condizione necessaria per la produzione di semiconduttori in ossido di metallo (MOS) e altri dispositivi

Quali Sono I Vantaggi Dell'utilizzo Di Macchine Per La Deposizione Da Vapore Chimico?

Le macchine per la deposizione di vapore chimico offrono diversi vantaggi nella deposizione di film sottili. Consentono un controllo preciso delle proprietà del film, come lo spessore, la composizione e l'uniformità. La CVD può depositare film su grandi superfici e forme complesse, rendendola adatta a un'ampia gamma di applicazioni. La tecnica consente la deposizione di una varietà di materiali, tra cui metalli, semiconduttori, ceramiche e composti organici. I film CVD possono presentare un'eccellente adesione, purezza e conformità alla superficie del substrato. Inoltre, le macchine CVD possono operare a temperature relativamente basse, riducendo lo stress termico sul substrato e consentendo la deposizione su materiali sensibili alla temperatura.

Quanti Tipi Diversi Di Forno A Tubi?

Il forno a tubi può lavorare con diverse funzioni meccaniche senza problemi, quindi ci sono molti tipi diversi di forni a tubi per diversi scopi di sperimentazione, i tipici forni a tubi sono i seguenti:

  • Forno a tubo orizzontale
  • Forno a tubo verticale
  • Forno a tubo diviso
  • Forno a tubo rotante
  • Forno a tubo inclinabile
  • Forno a tubo scorrevole
  • Forno a tubo a riscaldamento e raffreddamento rapido
  • Forno a tubo ad alimentazione e scarico continui

Che Cosa Significa PECVD?

PECVD è una tecnologia che utilizza il plasma per attivare il gas di reazione, promuovere la reazione chimica sulla superficie del substrato o nello spazio vicino alla superficie e generare un film solido. Il principio di base della tecnologia di deposizione di vapore chimico al plasma è che, sotto l'azione di un campo elettrico RF o DC, il gas di partenza viene ionizzato per formare un plasma, il plasma a bassa temperatura viene utilizzato come fonte di energia, viene introdotta una quantità appropriata di gas di reazione e la scarica di plasma viene utilizzata per attivare il gas di reazione e realizzare la deposizione di vapore chimico.

Secondo il metodo di generazione del plasma, può essere suddiviso in plasma RF, plasma DC e microonde CVD, ecc.

Quali Sono Le Applicazioni Delle Macchine Per La Deposizione Di Vapore Chimico?

Le macchine per la deposizione chimica da vapore trovano applicazione in diversi settori industriali e di ricerca. Nell'industria dei semiconduttori, la CVD viene utilizzata per depositare film sottili per circuiti integrati, come il biossido di silicio e il nitruro di silicio. La CVD è impiegata anche nella produzione di celle solari a film sottile, dove vengono depositati materiali come il tellururo di cadmio o il seleniuro di rame-indio-gallio. Altre applicazioni includono la deposizione di rivestimenti protettivi, come i film di carbonio simile al diamante, i rivestimenti resistenti all'usura e i rivestimenti antiriflesso. La CVD viene utilizzata anche nella produzione di rivestimenti ottici, come i film sottili per specchi, filtri e guide d'onda.

Quali Sono I Vantaggi Dell'utilizzo Di Un Forno A Tubi?

I forni a tubi offrono diversi vantaggi per le applicazioni ad alta temperatura. In primo luogo, forniscono un controllo preciso e uniforme della temperatura, consentendo processi di riscaldamento accurati e ripetibili. Questo è fondamentale per la ricerca sui materiali e per le applicazioni di trattamento termico, dove la costanza della temperatura è essenziale. In secondo luogo, i forni a tubi hanno un design compatto, che li rende adatti all'uso in spazi limitati di laboratorio o industriali. Sono anche versatili e possono ospitare un'ampia gamma di dimensioni e forme di campioni. Inoltre, i forni a tubi sono efficienti dal punto di vista energetico, poiché in genere hanno un buon isolamento e possono raggiungere rapidamente temperature elevate. Alcuni modelli offrono anche profili di temperatura programmabili, consentendo cicli di riscaldamento e raffreddamento automatizzati. In generale, i forni a tubi consentono processi ad alta temperatura efficienti e controllati in vari settori scientifici e industriali.

Qual è La Differenza Tra CVD E PECVD?

La differenza tra PECVD e la tecnologia CVD tradizionale è che il plasma contiene un gran numero di elettroni ad alta energia, in grado di fornire l'energia di attivazione necessaria nel processo di deposizione di vapore chimico, cambiando così la modalità di approvvigionamento energetico del sistema di reazione. Poiché la temperatura degli elettroni nel plasma raggiunge i 10000K, la collisione tra gli elettroni e le molecole di gas può promuovere la rottura dei legami chimici e la ricombinazione delle molecole di gas di reazione per generare più gruppi chimici attivi, mentre l'intero sistema di reazione mantiene una temperatura più bassa.

Quindi, rispetto al processo CVD, la PECVD può realizzare lo stesso processo di deposizione chimica da vapore con una temperatura più bassa.

Quali Sono I Fattori Da Considerare Nella Scelta Di Una Macchina Per La Deposizione Di Vapore Chimico?

La scelta di una macchina per la deposizione chimica da vapore deve tenere conto di diversi fattori. Le proprietà del film richieste, come la composizione, lo spessore e l'uniformità, devono essere in linea con le capacità della macchina. Le dimensioni della camera di deposizione devono adattarsi alle dimensioni e alla forma del substrato desiderato. L'intervallo di temperatura e pressione della macchina deve corrispondere ai requisiti specifici di deposizione. È inoltre importante considerare la disponibilità e la compatibilità dei gas precursori per la deposizione del materiale desiderato. Altre considerazioni riguardano la facilità di funzionamento, i requisiti di manutenzione e il livello di automazione o le capacità di controllo. Inoltre, la consultazione con esperti o produttori può fornire indicazioni preziose per la scelta della macchina CVD più adatta a un'applicazione specifica.

Quali Sono Le Precauzioni Di Sicurezza Da Adottare Quando Si Utilizza Un Forno A Tubi?

Quando si utilizza un forno a tubi, è importante seguire le precauzioni di sicurezza per evitare incidenti e garantire la sicurezza dell'operatore e del campione. In primo luogo, è necessario fornire una formazione adeguata al personale che utilizza il forno per assicurarsi che ne comprenda il funzionamento, le caratteristiche di sicurezza e le procedure di emergenza. In secondo luogo, è necessario indossare adeguati dispositivi di protezione individuale (DPI), come guanti resistenti al calore, occhiali e camici da laboratorio, per proteggersi da ustioni e potenziali rischi. In terzo luogo, è fondamentale caricare correttamente il campione o il materiale all'interno del forno, assicurandosi che sia posizionato in modo sicuro e che non ostruisca il flusso d'aria. È necessario prevedere un'adeguata ventilazione per eliminare eventuali gas o fumi generati durante il riscaldamento. È inoltre importante ispezionare e mantenere regolarmente il forno, controllando anche gli elementi riscaldanti e i collegamenti elettrici, per garantire un funzionamento sicuro e affidabile.

Le Macchine Per La Deposizione Chimica Da Vapore Possono Essere Utilizzate Per La Deposizione Di Film Sottili Multistrato?

Sì, le macchine per la deposizione di vapore chimico possono essere utilizzate per la deposizione di film sottili multistrato. Controllando i parametri di deposizione e introducendo in sequenza diversi gas precursori, è possibile depositare più strati di materiali diversi su un substrato. Ciò consente di creare strutture complesse di film sottili con proprietà e funzionalità personalizzate. La sequenza di deposizione, la temperatura, la pressione e la portata dei gas per ogni strato possono essere controllate con precisione per ottenere la composizione e lo spessore del film desiderati. I film sottili multistrato trovano applicazione in diversi campi, come la microelettronica, l'optoelettronica e l'ingegneria delle superfici, dove i diversi strati svolgono funzioni specifiche o migliorano le prestazioni complessive del sistema materiale.
Visualizza altre domande frequenti per questo prodotto

4.8

out of

5

KINTEK SOLUTION's CVD tube furnace is a game-changer in our lab. The precise temperature control and uniform heating ensure consistent results every time.

Alessa Jamison

4.7

out of

5

The CVD machine is a highly versatile and reliable equipment. The multi-zone heating allows us to create various temperature profiles, making it suitable for a wide range of experiments.

Karina Silva

4.9

out of

5

The speed of delivery was impressive. We received the furnace within a week of placing the order, allowing us to start our experiments promptly.

Luis Levesque

4.8

out of

5

The value for money is exceptional. KINTEK SOLUTION provides high-quality equipment at a reasonable price, making it an excellent choice for labs with budget constraints.

Hanna Li

4.7

out of

5

The after-sales service is top-notch. The KINTEK SOLUTION team is always responsive and provides prompt support, ensuring our lab's smooth operation.

Mariam Andersson

4.9

out of

5

The durability of the CVD tube furnace is remarkable. We have been using it extensively for over a year, and it continues to perform flawlessly, delivering consistent results.

Gabriela Schmidt

4.8

out of

5

The technological advancement of this CVD machine is truly impressive. The multi-zone heating, precise temperature control, and user-friendly interface make it an invaluable asset to our lab.

Olivera Petrovic

4.7

out of

5

The CVD tube furnace has significantly improved the efficiency of our research. The fast heating and cooling rates allow us to conduct experiments more quickly, saving valuable time.

Benjamin Walker

4.9

out of

5

The CVD machine from KINTEK SOLUTION is a reliable workhorse in our lab. It operates smoothly, providing consistent and accurate results, which are crucial for our research.

Isabella Garcia

PDF - Forno tubolare CVD a più zone di riscaldamento Macchina CVD

Scarica

Catalogo di Forno Cvd E Pecvd

Scarica

Catalogo di Forno Cvd

Scarica

Catalogo di Macchina Cvd

Scarica

Catalogo di Forno A Tubi

Scarica

RICHIEDI UN PREVENTIVO

Il nostro team professionale ti risponderà entro un giorno lavorativo. Non esitare a contattarci!

Prodotti correlati

Forno tubolare CVD a camera split con macchina CVD a stazione sottovuoto

Forno tubolare CVD a camera split con macchina CVD a stazione sottovuoto

Efficiente forno CVD a camera divisa con stazione di vuoto per un controllo intuitivo del campione e un rapido raffreddamento. Temperatura massima di 1200℃ con controllo accurato del flussimetro di massa MFC.

Macchina per forno tubolare rotante inclinato per la deposizione chimica potenziata al plasma (PECVD)

Macchina per forno tubolare rotante inclinato per la deposizione chimica potenziata al plasma (PECVD)

Vi presentiamo il nostro forno PECVD rotativo inclinato per la deposizione precisa di film sottili. La sorgente si abbina automaticamente, il controllo della temperatura programmabile PID e il controllo del flussimetro di massa MFC ad alta precisione. Funzioni di sicurezza integrate per la massima tranquillità.

Forno a tubo verticale

Forno a tubo verticale

Elevate i vostri esperimenti con il nostro forno verticale a tubo. Il design versatile consente di operare in diversi ambienti e applicazioni di trattamento termico. Ordinate ora per ottenere risultati precisi!

Forno a tubi rotanti a più zone di riscaldamento

Forno a tubi rotanti a più zone di riscaldamento

Forno rotante multizona per il controllo della temperatura ad alta precisione con 2-8 zone di riscaldamento indipendenti. Ideale per materiali per elettrodi di batterie agli ioni di litio e reazioni ad alta temperatura. Può lavorare sotto vuoto e in atmosfera controllata.

Forno a caldo per tubi sottovuoto

Forno a caldo per tubi sottovuoto

Riducete la pressione di formatura e abbreviate il tempo di sinterizzazione con il forno a caldo a tubi sottovuoto per materiali ad alta densità e a grana fine. Ideale per i metalli refrattari.

Forno tubolare ad alta pressione

Forno tubolare ad alta pressione

Forno a tubo ad alta pressione KT-PTF: forno a tubo diviso compatto con forte resistenza alla pressione positiva. Temperatura di lavoro fino a 1100°C e pressione fino a 15Mpa. Funziona anche in atmosfera controllata o sotto vuoto spinto.

Forno a tubo riscaldante Rtp

Forno a tubo riscaldante Rtp

Riscaldate alla velocità della luce con il nostro forno a tubi a riscaldamento rapido RTP. Progettato per un riscaldamento e un raffreddamento precisi e ad alta velocità, con una comoda guida scorrevole e un controller TFT touch screen. Ordinate ora per un processo termico ideale!

1700℃ Forno a tubo con tubo in allumina

1700℃ Forno a tubo con tubo in allumina

Cercate un forno tubolare ad alta temperatura? Scoprite il nostro forno tubolare da 1700℃ con tubo in allumina. Perfetto per applicazioni industriali e di ricerca fino a 1700°C.

Forno di sinterizzazione a vuoto per fili di molibdeno

Forno di sinterizzazione a vuoto per fili di molibdeno

Il forno di sinterizzazione a filo di molibdeno sottovuoto è una struttura verticale o a camera da letto, adatta al ritiro, alla brasatura, alla sinterizzazione e al degassamento di materiali metallici in condizioni di alto vuoto e alta temperatura. È adatto anche per il trattamento di deidrossilazione dei materiali di quarzo.

Tubo per forno in allumina (Al2O3) - Alta temperatura

Tubo per forno in allumina (Al2O3) - Alta temperatura

Il tubo per forni ad alta temperatura in allumina combina i vantaggi dell'elevata durezza dell'allumina, della buona inerzia chimica e dell'acciaio, e presenta un'eccellente resistenza all'usura, agli shock termici e agli shock meccanici.

Pressa per laminazione sottovuoto

Pressa per laminazione sottovuoto

Provate la laminazione pulita e precisa con la pressa per laminazione sottovuoto. Perfetta per l'incollaggio di wafer, le trasformazioni di film sottili e la laminazione di LCP. Ordinate ora!

Forno a tubi rotanti a funzionamento continuo sigillato sotto vuoto

Forno a tubi rotanti a funzionamento continuo sigillato sotto vuoto

Provate il trattamento efficiente dei materiali con il nostro forno a tubi rotanti sigillati sotto vuoto. Perfetto per esperimenti o produzione industriale, dotato di funzioni opzionali per un'alimentazione controllata e risultati ottimizzati. Ordinate ora.

laboratorio di tubi rotanti inclinati sottovuoto

laboratorio di tubi rotanti inclinati sottovuoto

Scoprite la versatilità del forno rotante da laboratorio: ideale per calcinazione, essiccazione, sinterizzazione e reazioni ad alta temperatura. Funzioni di rotazione e inclinazione regolabili per un riscaldamento ottimale. Adatto per ambienti sotto vuoto e in atmosfera controllata. Per saperne di più!

Forno ad atmosfera controllata con nastro a rete

Forno ad atmosfera controllata con nastro a rete

Scoprite il nostro forno di sinterizzazione a nastro KT-MB, perfetto per la sinterizzazione ad alta temperatura di componenti elettronici e isolanti in vetro. Disponibile per ambienti all'aperto o in atmosfera controllata.

Forno di deceraggio e pre-sinterizzazione ad alta temperatura

Forno di deceraggio e pre-sinterizzazione ad alta temperatura

KT-MD Forno di deceraggio e pre-sinterizzazione ad alta temperatura per materiali ceramici con vari processi di stampaggio. Ideale per componenti elettronici come MLCC e NFC.

Forno orizzontale per grafitizzazione ad alta temperatura

Forno orizzontale per grafitizzazione ad alta temperatura

Forno di grafitizzazione orizzontale: questo tipo di forno è progettato con gli elementi riscaldanti disposti orizzontalmente, per consentire un riscaldamento uniforme del campione. È adatto alla grafitizzazione di campioni grandi o voluminosi che richiedono un controllo preciso della temperatura e l'uniformità.

Grande forno verticale per grafitizzazione

Grande forno verticale per grafitizzazione

Un grande forno verticale per la grafitizzazione ad alta temperatura è un tipo di forno industriale utilizzato per la grafitizzazione di materiali di carbonio, come la fibra di carbonio e il nerofumo. Si tratta di un forno ad alta temperatura che può raggiungere temperature fino a 3100°C.

Forno ad arco sottovuoto Forno fusorio a induzione

Forno ad arco sottovuoto Forno fusorio a induzione

Scoprite la potenza del forno ad arco sottovuoto per la fusione di metalli attivi e refrattari. Alta velocità, notevole effetto di degassificazione e assenza di contaminazione. Per saperne di più!

Forno di sinterizzazione a pressione d'aria da 9MPa

Forno di sinterizzazione a pressione d'aria da 9MPa

Il forno di sinterizzazione ad aria compressa è un'apparecchiatura ad alta tecnologia comunemente utilizzata per la sinterizzazione di materiali ceramici avanzati. Combina le tecniche di sinterizzazione sotto vuoto e di sinterizzazione a pressione per ottenere ceramiche ad alta densità e ad alta resistenza.

Articoli correlati

Forno CVD per la crescita di nanotubi di carbonio

Forno CVD per la crescita di nanotubi di carbonio

La tecnologia di deposizione chimica da vapore (CVD) è un metodo ampiamente utilizzato per la crescita di nanotubi di carbonio.

Scopri di più
Vantaggi dell'uso del forno tubolare CVD per il rivestimento

Vantaggi dell'uso del forno tubolare CVD per il rivestimento

I rivestimenti CVD presentano numerosi vantaggi rispetto ad altri metodi di rivestimento, come l'elevata purezza, la densità e l'uniformità, che li rendono ideali per molte applicazioni in vari settori.

Scopri di più
Presentazione dei forni a tubi sottovuoto da laboratorio

Presentazione dei forni a tubi sottovuoto da laboratorio

Un forno a tubi sottovuoto è un tipo di forno che utilizza il vuoto per isolare l'atmosfera di processo dall'atmosfera esterna.

Scopri di più
Esplorazione dei forni a vuoto per tungsteno: Funzionamento, applicazioni e vantaggi

Esplorazione dei forni a vuoto per tungsteno: Funzionamento, applicazioni e vantaggi

Scoprite il funzionamento, le applicazioni e i vantaggi dei forni a vuoto per tungsteno in laboratorio. Scoprite le caratteristiche avanzate di KinTek, i meccanismi di controllo e l'uso del tungsteno in ambienti ad alta temperatura.

Scopri di più
Esplorazione delle caratteristiche principali dei forni di riscaldamento a tubi

Esplorazione delle caratteristiche principali dei forni di riscaldamento a tubi

Un forno a tubi è un tipo specializzato di forno industriale che viene utilizzato in vari settori per riscaldare sostanze attraverso la combustione di combustibili.

Scopri di più
Forno PECVD Una soluzione a bassa potenza e bassa temperatura per la materia soffice

Forno PECVD Una soluzione a bassa potenza e bassa temperatura per la materia soffice

I forni PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) sono diventati una soluzione popolare per la deposizione di film sottili su superfici di materia morbida.

Scopri di più
La versatilità dei forni a tubi: Guida alle applicazioni e ai vantaggi

La versatilità dei forni a tubi: Guida alle applicazioni e ai vantaggi

Il forno a tubi da laboratorio è un dispositivo di riscaldamento specializzato utilizzato nei laboratori scientifici e industriali per una serie di applicazioni.

Scopri di più
Guida completa ai forni a tubi: Tipi, applicazioni e considerazioni

Guida completa ai forni a tubi: Tipi, applicazioni e considerazioni

Approfondite il tema dei forni a tubi, esplorando le loro tipologie, le diverse applicazioni nelle industrie e nei laboratori e i fattori cruciali da considerare per un utilizzo ottimale.

Scopri di più
Esplorare i forni a tubi rotanti: Una guida completa

Esplorare i forni a tubi rotanti: Una guida completa

Scoprite il funzionamento dei forni a tubi rotanti, le loro diverse applicazioni e i vantaggi principali. Scoprite come funzionano questi forni, la loro idoneità a diversi processi e i fattori da considerare quando se ne sceglie uno. Scoprite perché i forni a tubi rotanti sono i preferiti nella lavorazione dei materiali avanzati.

Scopri di più
Macchine CVD per la deposizione di film sottili

Macchine CVD per la deposizione di film sottili

La deposizione chimica da vapore (CVD) è una tecnica ampiamente utilizzata per la deposizione di film sottili su vari substrati.

Scopri di più
Guida completa ai forni a tubi separati: Applicazioni, caratteristiche

Guida completa ai forni a tubi separati: Applicazioni, caratteristiche

È esatto che un forno a tubi divisi è un tipo di apparecchiatura di laboratorio che consiste in un tubo o camera cava che può essere aperta per consentire l'inserimento e la rimozione dei campioni o dei materiali da riscaldare.

Scopri di più
Esplorare i vantaggi e le applicazioni dei forni rotativi: Una guida completa

Esplorare i vantaggi e le applicazioni dei forni rotativi: Una guida completa

I forni a tubi rotanti sono strumenti molto versatili che possono essere utilizzati per un'ampia gamma di applicazioni di trattamento fisico-chimico in laboratorio.

Scopri di più

Tag popolari

forno cvd macchina cvd forno a tubi