Forno CVD e PECVD
Forno tubolare CVD a camera split con macchina CVD a stazione sottovuoto
Numero articolo : KT-CTF12
Il prezzo varia in base a specifiche e personalizzazioni
- Temperatura massima
- 1200 ℃
- Temperatura di lavoro costante
- 1100 ℃
- Diametro del tubo del forno
- 60 mm
- Lunghezza zona di riscaldamento
- 1x450 mm
- Velocità di riscaldamento
- 0-20 ℃/min
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Il forno tubolare CVD a camera divisa con stazione del vuoto è un'apparecchiatura da laboratorio versatile e ad alte prestazioni progettata per applicazioni di deposizione di vapore chimico (CVD). È dotato di una camera di forno divisa che consente un facile accesso ai campioni di reazione e un rapido raffreddamento. Il tubo del forno è realizzato in quarzo ad alta temperatura e ha un diametro di 60 mm. Il sistema comprende un misuratore di portata massica MFC a 4 canali con gas di partenza CH4, H2, O2 e N2, che fornisce un controllo preciso delle portate di gas. La stazione del vuoto è dotata di una pompa per vuoto rotativa a palette da 4L/S, che raggiunge una pressione massima di 10 Pa. Grazie alle sue caratteristiche e capacità avanzate, il forno tubolare CVD a camera divisa con stazione del vuoto è la scelta ideale per varie applicazioni di ricerca e sviluppo nella scienza dei materiali, nella lavorazione dei semiconduttori e in altri campi.
Dettaglio&Particolari
Applicazioni
Il forno CVD a camera divisa con stazione del vuoto è un'apparecchiatura versatile e avanzata progettata per una varietà di applicazioni nei settori della scienza dei materiali, della produzione di semiconduttori e della ricerca e sviluppo. Questa macchina è particolarmente utile per i processi che richiedono un controllo preciso della temperatura, del flusso di gas e dei livelli di vuoto, rendendola uno strumento essenziale per la sintesi e la lavorazione di materiali di alta qualità.
- Sintesi di nanomateriali: Il forno è ideale per la crescita di nanofili, nanofilm e altri materiali nanostrutturati, fondamentali per lo sviluppo di dispositivi elettronici e optoelettronici avanzati.
- Rivestimento sotto vuoto: È ampiamente utilizzato per la deposizione di film sottili su vari substrati, tra cui film metallici, film ceramici e film compositi, essenziali per migliorare le proprietà dei materiali in applicazioni come l'ottica e l'elettronica.
- Trattamento dei materiali per batterie: Il forno è adatto all'essiccazione e alla sinterizzazione dei materiali per batterie, una fase fondamentale nella produzione di batterie ad alte prestazioni.
- Essiccazione e sinterizzazione dei materiali: Viene utilizzato per la sinterizzazione ad alta temperatura di ceramiche, materiali refrattari e materiali speciali, garantendo il consolidamento e la densificazione di questi materiali.
- Trattamento termico in atmosfera e sottovuoto: La configurazione del forno a tubi verticali consente di eseguire operazioni di tempra, ricottura e rinvenimento di piccole parti in acciaio, nonché di eseguire rivestimenti CVD verticali, rendendolo una risorsa preziosa nei processi metallurgici.
- Ricerca e sviluppo: È ampiamente utilizzato nelle università, negli istituti di ricerca e nelle imprese industriali e minerarie per condurre esperimenti ad alta temperatura, sinterizzazione in atmosfera, atmosfera riducente ed esperimenti CVD/CVI, contribuendo al progresso della scienza e della tecnologia dei materiali.
Caratteristiche
Il forno tubolare CVD a camera divisa con macchina CVD a stazione di vuoto è un'apparecchiatura sofisticata progettata per processi avanzati di deposizione di vapore chimico (CVD). Questo forno integra una tecnologia all'avanguardia per migliorare l'efficienza e la qualità della deposizione di film, rendendolo ideale per la ricerca e le applicazioni industriali. Ecco le caratteristiche principali e i loro vantaggi:
- Alta velocità di deposizione del film: Utilizzando la tecnologia del bagliore a radiofrequenza, questo forno aumenta in modo significativo la velocità di deposizione del film, raggiungendo fino a 10Å/S. Questa rapida deposizione è fondamentale per la produzione e la ricerca ad alto rendimento, per risparmiare tempo e aumentare la produttività.
- Uniformità su un'ampia area: Grazie all'avanzata tecnologia di alimentazione RF a più punti e alla distribuzione specializzata del percorso del gas, il forno garantisce un'uniformità del film fino all'8%. Questa uniformità è essenziale per creare rivestimenti coerenti e di alta qualità su substrati di grandi dimensioni, migliorando l'affidabilità dei materiali prodotti.
- Deposizione uniforme: Il design incorpora concetti avanzati dell'industria dei semiconduttori, con una deviazione inferiore al 2% tra i substrati. Questo elevato livello di coerenza è fondamentale per le applicazioni che richiedono risultati precisi e ripetibili, come nella produzione di componenti elettronici.
- Controllo stabile del processo: L'elevata stabilità dell'apparecchiatura garantisce la continuità e la coerenza del processo CVD. Questa affidabilità è fondamentale per mantenere l'integrità del processo e ridurre il rischio di difetti o guasti durante il funzionamento.
- Sistema di controllo intelligente: Brevettato da Bonage, il sistema di controllo integrato comprende un sistema di controllo della temperatura ad alte prestazioni che utilizza un meccanismo di feedback negativo ad anello chiuso. Questo sistema, unito a componenti elettrici importati di alta qualità, migliora le prestazioni complessive e l'affidabilità dell'apparecchiatura, rendendola praticamente esente da manutenzione.
- Applicazioni versatili: Adatto a depositare vari tipi di film, tra cui quelli metallici, ceramici e compositi, il forno supporta processi di crescita continua e può essere facilmente ampliato con funzioni aggiuntive come la pulizia e l'incisione al plasma. Questa versatilità lo rende una risorsa preziosa per diverse esigenze di ricerca e produzione.
Il principio
Il forno tubolare CVD a camera divisa con macchina CVD a stazione sottovuoto è un forno sottovuoto ad alta temperatura utilizzato per i processi di deposizione di vapore chimico (CVD). La CVD è un processo in cui un film sottile di materiale viene depositato su un substrato mediante la reazione chimica di un gas o di un vapore. Il forno tubolare CVD a camera divisa con stazione del vuoto utilizza una camera di forno divisa per consentire un facile accesso al substrato durante il processo CVD. La stazione del vuoto viene utilizzata per creare un vuoto nella camera del forno, che aiuta a rimuovere le impurità e a migliorare la qualità del film depositato.
Vantaggi
- Osservazione intuitiva del campione e raffreddamento rapido: La camera del forno divisa consente l'osservazione diretta dei campioni di reazione e il raffreddamento rapido.
- Capacità di lavorare ad alta temperatura: Temperatura massima di lavoro fino a 1200℃ per applicazioni versatili.
- Controllo preciso del gas: il misuratore di portata massica MFC a 4 canali con sorgenti CH4, H2, O2 e N2 garantisce un'alimentazione accurata e stabile del gas.
- Compatibilità con il vuoto: La stazione del vuoto con una pompa per vuoto rotativa a palette da 4L/S raggiunge una pressione massima di 10Pa, consentendo vari processi sotto vuoto.
- Riscaldamento e raffreddamento ad alta velocità: Il sistema di scorrimento della camera del forno facilita il riscaldamento e il raffreddamento rapido per un'efficiente elaborazione dei campioni.
- Controllo avanzato della temperatura: Controllo della temperatura programmabile PID con eccellente precisione, controllo remoto e capacità di controllo centralizzato.
- Interfaccia facile da usare: Il controller CTF Pro con touch screen TFT da 7 pollici offre un'impostazione intuitiva dei programmi e l'analisi dei dati.
- Configurazione versatile del vuoto: La flangia per vuoto in acciaio inox con porte adattabili consente di alloggiare diverse stazioni di pompe per vuoto per ambienti personalizzati.
- Efficienza energetica: Il sistema di raffreddamento ad acqua e il design del post-flusso del gas riducono al minimo il consumo energetico.
- Ampia applicabilità: Adatto per CVD, diffusione e altri trattamenti termici in condizioni di vuoto e protezione atmosferica.
Vantaggi per la sicurezza
- Il forno tubolare Kindle Tech possiede una protezione da sovracorrente e una funzione di allarme da sovratemperatura; il forno spegnerà automaticamente l'alimentazione.
- Il forno è dotato di una funzione di rilevamento delle coppie termiche, che interrompe il riscaldamento e attiva l'allarme una volta rilevata la rottura o il guasto.
- KT-CTF12 Pro supporta la funzione di riavvio dell'interruzione di corrente, la fornace riprenderà il programma di riscaldamento della fornace quando il potere è in arrivo dopo il fallimento
Specifiche tecniche
| Modello di forno | KT-CTF12-60 |
|---|---|
| Temperatura massima | 1200℃ |
| Temperatura di lavoro costante | 1100℃ |
| Materiale del tubo del forno | Quarzo di elevata purezza |
| Diametro del tubo del forno | 60 mm |
| Lunghezza della zona di riscaldamento | 1x450mm |
| Materiale della camera | Fibra di allumina giapponese |
| Elemento di riscaldamento | Bobina di filo Cr2Al2Mo2 |
| Velocità di riscaldamento | 0-20℃/min |
| Coppia termica | Costruire in tipo K |
| Regolatore di temperatura | Controllore PID digitale/controllore PID touch screen |
| Precisione del controllo della temperatura | ±1℃ |
| Distanza di scorrimento | 600 mm |
| Unità di controllo preciso del gas | |
| Misuratore di portata | Misuratore di portata massica MFC |
| Canali gas | 4 canali |
| Portata | MFC1: 0-5SCCM O2 MFC2: 0-20SCMCH4 MFC3: 0-100 SCCM H2 MFC4: 0-500 SCCM N2 |
| Linearità | ±0,5% F.S. |
| Ripetibilità | ±0,2% F.S. |
| Linea di tubi e valvola | Acciaio inossidabile |
| Pressione massima di esercizio | 0,45MPa |
| Controllore del flussometro | Controllore digitale a manopola/controller touch screen |
| Unità di vuoto standard (opzionale) | |
| Pompa per vuoto | Pompa per vuoto rotativa a palette |
| Portata della pompa | 4L/S |
| Porta di aspirazione del vuoto | KF25 |
| Vacuometro | Vacuometro Pirani/Resistenza al silicone |
| Pressione nominale del vuoto | 10Pa |
| Unità per alto vuoto (opzionale) | |
| Pompa per vuoto | Pompa rotativa a palette+pompa molecolare |
| Portata della pompa | 4L/S+110L/S |
| Porta di aspirazione del vuoto | KF25 |
| Vacuometro | Vacuometro composto |
| Pressione nominale del vuoto | 6x10-5Pa |
| Le specifiche e le configurazioni di cui sopra possono essere personalizzate | |
Pacchetto standard
| No. | Descrizione | Quantità |
|---|---|---|
| 1 | Forno | 1 |
| 2 | Tubo di quarzo | 1 |
| 3 | Flangia per il vuoto | 2 |
| 4 | Blocco termico del tubo | 2 |
| 5 | Gancio del blocco termico a tubo | 1 |
| 6 | Guanto resistente al calore | 1 |
| 7 | Controllo preciso del gas | 1 |
| 8 | Unità per il vuoto | 1 |
| 9 | Manuale operativo | 1 |
Configurazione opzionale
- Rilevamento e monitoraggio dei gas in tubo, come H2, O2 e così via
- Monitoraggio e registrazione indipendente della temperatura del forno
- Porta di comunicazione RS 485 per il controllo remoto del PC e l'esportazione dei dati
- Controllo della portata di alimentazione dei gas inseriti, come flussimetro di massa e flussimetro a galleggiante
- Controllore di temperatura touch screen con funzioni versatili e di facile utilizzo per l'operatore
- Configurazione della stazione di pompaggio ad alto vuoto, come pompa a vuoto a palette, pompa molecolare, pompa a diffusione
Avvertenze
La sicurezza dell'operatore è la questione più importante! Si prega di utilizzare l'apparecchiatura con cautele. Lavorare con gas infiammabili, esplosivi o tossici è molto complicato pericoloso, gli operatori devono prendere tutte le precauzioni necessarie prima di avviare il attrezzatura. Lavorare con pressione positiva all'interno dei reattori o delle camere lo è pericoloso, l'operatore deve rispettare rigorosamente le procedure di sicurezza. Extra è necessario prestare attenzione anche quando si opera con materiali reattivi all'aria, soprattutto sotto vuoto. Una perdita può far entrare aria nell'apparecchio e causare a si verifichi una reazione violenta.
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FAQ
Che Cos'è Il Forno CVD?
La deposizione chimica da vapore (CVD) è una tecnologia che utilizza varie fonti di energia, come il riscaldamento, l'eccitazione del plasma o la radiazione luminosa, per far reagire chimicamente sostanze chimiche gassose o vaporizzate in fase gassosa o nell'interfaccia gas-solido e formare depositi solidi nel reattore per mezzo di una reazione chimica.
Il forno CVD è un sistema combinato di forni con unità di forni a tubo ad alta temperatura, unità di controllo dei gas e unità di vuoto, ampiamente utilizzato per la sperimentazione e la produzione di preparazione di materiali compositi, processi microelettronici, semiconduttori optoelettronici, utilizzo dell'energia solare, comunicazione in fibra ottica, tecnologia dei superconduttori, campo dei rivestimenti protettivi.
Che Cos'è Un Forno A Tubi?
Il forno per tubi da laboratorio è un classico forno per tubi ad alta temperatura a riscaldamento esterno, chiamato anche forno per riscaldamento a parete calda.
In base alle diverse temperature di lavoro, il materiale del tubo del forno può essere costituito da tubi di quarzo trasparente, tubi di ceramica di allumina ad alta purezza e tubi di leghe metalliche ad alta resistenza.
Per soddisfare diversi scopi di ricerca termica, il forno a tubi può essere progettato con più zone di riscaldamento, in modo da avere un controllo flessibile del gradiente di temperatura nella camera di lavoro del tubo; il tubo del forno può lavorare in un ambiente di lavoro ad atmosfera controllata o in un ambiente di lavoro ad alto vuoto.
A Cosa Serve Un Forno A Vuoto?
Come Funziona Il Forno CVD?
Il sistema di forni CVD è costituito da un'unità di forni tubolari ad alta temperatura, da un'unità di controllo preciso della fonte di gas di reazione, da una stazione di pompa a vuoto e da parti di assemblaggio corrispondenti.
La pompa a vuoto serve a rimuovere l'aria dal tubo di reazione e ad assicurarsi che non vi siano gas indesiderati all'interno del tubo di reazione, dopodiché il forno tubolare riscalderà il tubo di reazione fino a raggiungere la temperatura desiderata, quindi l'unità di controllo preciso della fonte di gas di reazione potrà introdurre gas diversi con un rapporto prestabilito nel tubo del forno per la reazione chimica, e la deposizione di vapore chimico si formerà nel forno CVD.
Come Funziona Un Forno A Tubi?
Gli elementi riscaldanti del forno a tubo sono posizionati intorno alla cavità cilindrica; il forno può riscaldare i campioni nella cavità cilindrica solo attraverso la radiazione termica indiretta, poiché il tubo del forno può evitare che il materiale del campione entri in contatto con gli elementi riscaldanti del forno e i materiali isolanti; il forno a tubo crea quindi una camera di calore isolata e pulita e riduce i rischi di contaminazione del materiale del campione da parte del forno.
Che Cos'è L'Mpcvd?
Qual è Il Processo Di Un Forno A Vuoto?
Quale Gas Viene Utilizzato Nel Processo CVD?
Ci sono diverse fonti di gas che possono essere utilizzate nel processo CVD, le reazioni chimiche comuni della CVD includono pirolisi, fotolisi, riduzione, ossidazione, ossidoriduzione, quindi i gas coinvolti in queste reazioni chimiche possono essere utilizzati nel processo CVD.
Prendiamo ad esempio la crescita di grafene CVD, i gas utilizzati nel processo CVD saranno CH4, H2, O2 e N2.
Quali Sono Le Applicazioni Del Forno A Tubi?
Il forno tubolare è utilizzato principalmente in metallurgia, vetro, trattamento termico, materiali anodici e catodici al litio, nuove energie, abrasivi e altre industrie, ed è un'apparecchiatura professionale per la misurazione dei materiali in determinate condizioni di temperatura.
Il forno tubolare è caratterizzato da una struttura semplice, un funzionamento facile, un controllo facile e una produzione continua.
Il forno tubolare è anche ampiamente applicato nei sistemi CVD (deposizione di vapore chimico) e CVD potenziati al plasma.
Che Cos'è La Macchina Mpcvd?
Quale Gas Viene Utilizzato In Un Forno A Vuoto?
Qual è Il Vantaggio Del Sistema CVD?
- È possibile produrre un'ampia gamma di film, film metallici, film non metallici e film in lega multicomponente, a seconda delle esigenze. Allo stesso tempo, può preparare cristalli di alta qualità difficilmente ottenibili con altri metodi, come GaN, BP, ecc.
- La velocità di formazione del film è rapida, di solito diversi micron al minuto o addirittura centinaia di micron al minuto. È possibile depositare simultaneamente grandi quantità di rivestimenti con una composizione uniforme, cosa incomparabile con altri metodi di preparazione del film, come l'epitassia in fase liquida (LPE) e l'epitassia a fascio molecolare (MBE).
- Le condizioni di lavoro sono realizzate in condizioni di pressione normale o di basso vuoto, quindi il rivestimento ha una buona diffrazione e i pezzi con forme complesse possono essere rivestiti uniformemente, il che è molto superiore alla PVD.
- La deposizione chimica da vapore può ottenere una superficie di deposizione liscia. Rispetto all'LPE, infatti, la deposizione da vapore chimico (CVD) avviene in condizioni di elevata saturazione, con un alto tasso di nucleazione, un'alta densità di nucleazione e una distribuzione uniforme su tutto il piano, con il risultato di una superficie macroscopica liscia. Allo stesso tempo, nella deposizione da vapore chimico, il percorso libero medio delle molecole (atomi) è molto più grande di quello dell'LPE, quindi la distribuzione spaziale delle molecole è più uniforme, il che favorisce la formazione di una superficie di deposizione liscia.
- Basso danno da radiazioni, che è una condizione necessaria per la produzione di semiconduttori in ossido di metallo (MOS) e altri dispositivi
Quanti Tipi Diversi Di Forno A Tubi?
Il forno a tubi può lavorare con diverse funzioni meccaniche senza problemi, quindi ci sono molti tipi diversi di forni a tubi per diversi scopi di sperimentazione, i tipici forni a tubi sono i seguenti:
- Forno a tubo orizzontale
- Forno a tubo verticale
- Forno a tubo diviso
- Forno a tubo rotante
- Forno a tubo inclinabile
- Forno a tubo scorrevole
- Forno a tubo a riscaldamento e raffreddamento rapido
- Forno a tubo ad alimentazione e scarico continui
Quali Sono I Vantaggi Dell'Mpcvd?
Qual è L'elemento Riscaldante Utilizzato In Un Forno A Vuoto?
Che Cosa Significa PECVD?
PECVD è una tecnologia che utilizza il plasma per attivare il gas di reazione, promuovere la reazione chimica sulla superficie del substrato o nello spazio vicino alla superficie e generare un film solido. Il principio di base della tecnologia di deposizione di vapore chimico al plasma è che, sotto l'azione di un campo elettrico RF o DC, il gas di partenza viene ionizzato per formare un plasma, il plasma a bassa temperatura viene utilizzato come fonte di energia, viene introdotta una quantità appropriata di gas di reazione e la scarica di plasma viene utilizzata per attivare il gas di reazione e realizzare la deposizione di vapore chimico.
Secondo il metodo di generazione del plasma, può essere suddiviso in plasma RF, plasma DC e microonde CVD, ecc.
Quali Sono I Vantaggi Dell'utilizzo Di Un Forno A Tubi?
I Diamanti CVD Sono Veri O Falsi?
Qual è La Differenza Tra CVD E PECVD?
La differenza tra PECVD e la tecnologia CVD tradizionale è che il plasma contiene un gran numero di elettroni ad alta energia, in grado di fornire l'energia di attivazione necessaria nel processo di deposizione di vapore chimico, cambiando così la modalità di approvvigionamento energetico del sistema di reazione. Poiché la temperatura degli elettroni nel plasma raggiunge i 10000K, la collisione tra gli elettroni e le molecole di gas può promuovere la rottura dei legami chimici e la ricombinazione delle molecole di gas di reazione per generare più gruppi chimici attivi, mentre l'intero sistema di reazione mantiene una temperatura più bassa.
Quindi, rispetto al processo CVD, la PECVD può realizzare lo stesso processo di deposizione chimica da vapore con una temperatura più bassa.
Quali Sono Le Precauzioni Di Sicurezza Da Adottare Quando Si Utilizza Un Forno A Tubi?
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