Forno CVD e PECVD
Forno tubolare CVD a camera split con macchina CVD a stazione sottovuoto
Numero articolo : KT-CTF12
Il prezzo varia in base a specifiche e personalizzazioni
- Temperatura massima
- 1200 ℃
- Temperatura di lavoro costante
- 1100 ℃
- Diametro del tubo del forno
- 60 mm
- Lunghezza zona di riscaldamento
- 1x450 mm
- Velocità di riscaldamento
- 0-20 ℃/min
Spedizione:
Contattaci per ottenere i dettagli sulla spedizione. Buon divertimento Garanzia di spedizione puntuale.
Richiedi il tuo preventivo personalizzato 👋
Richiedi il tuo preventivo ora! Lasciate un messaggio Ottieni un preventivo rapido Via WhatsappIntroduzione
Il forno tubolare CVD a camera divisa con stazione del vuoto è un'apparecchiatura da laboratorio versatile e ad alte prestazioni progettata per applicazioni di deposizione di vapore chimico (CVD). È dotato di una camera di forno divisa che consente un facile accesso ai campioni di reazione e un rapido raffreddamento. Il tubo del forno è realizzato in quarzo ad alta temperatura e ha un diametro di 60 mm. Il sistema comprende un misuratore di portata massica MFC a 4 canali con gas di partenza CH4, H2, O2 e N2, che fornisce un controllo preciso delle portate di gas. La stazione del vuoto è dotata di una pompa per vuoto rotativa a palette da 4L/S, che raggiunge una pressione massima di 10 Pa. Grazie alle sue caratteristiche e capacità avanzate, il forno tubolare CVD a camera divisa con stazione del vuoto è la scelta ideale per varie applicazioni di ricerca e sviluppo nella scienza dei materiali, nella lavorazione dei semiconduttori e in altri campi.
Dettaglio&Particolari
Applicazioni
Il forno CVD a camera divisa con stazione del vuoto è un'apparecchiatura versatile e avanzata progettata per una varietà di applicazioni nei settori della scienza dei materiali, della produzione di semiconduttori e della ricerca e sviluppo. Questa macchina è particolarmente utile per i processi che richiedono un controllo preciso della temperatura, del flusso di gas e dei livelli di vuoto, rendendola uno strumento essenziale per la sintesi e la lavorazione di materiali di alta qualità.
- Sintesi di nanomateriali: Il forno è ideale per la crescita di nanofili, nanofilm e altri materiali nanostrutturati, fondamentali per lo sviluppo di dispositivi elettronici e optoelettronici avanzati.
- Rivestimento sotto vuoto: È ampiamente utilizzato per la deposizione di film sottili su vari substrati, tra cui film metallici, film ceramici e film compositi, essenziali per migliorare le proprietà dei materiali in applicazioni come l'ottica e l'elettronica.
- Trattamento dei materiali per batterie: Il forno è adatto all'essiccazione e alla sinterizzazione dei materiali per batterie, una fase fondamentale nella produzione di batterie ad alte prestazioni.
- Essiccazione e sinterizzazione dei materiali: Viene utilizzato per la sinterizzazione ad alta temperatura di ceramiche, materiali refrattari e materiali speciali, garantendo il consolidamento e la densificazione di questi materiali.
- Trattamento termico in atmosfera e sottovuoto: La configurazione del forno a tubi verticali consente di eseguire operazioni di tempra, ricottura e rinvenimento di piccole parti in acciaio, nonché di eseguire rivestimenti CVD verticali, rendendolo una risorsa preziosa nei processi metallurgici.
- Ricerca e sviluppo: È ampiamente utilizzato nelle università, negli istituti di ricerca e nelle imprese industriali e minerarie per condurre esperimenti ad alta temperatura, sinterizzazione in atmosfera, atmosfera riducente ed esperimenti CVD/CVI, contribuendo al progresso della scienza e della tecnologia dei materiali.
Caratteristiche
Il forno tubolare CVD a camera divisa con macchina CVD a stazione di vuoto è un'apparecchiatura sofisticata progettata per processi avanzati di deposizione di vapore chimico (CVD). Questo forno integra una tecnologia all'avanguardia per migliorare l'efficienza e la qualità della deposizione di film, rendendolo ideale per la ricerca e le applicazioni industriali. Ecco le caratteristiche principali e i loro vantaggi:
- Alta velocità di deposizione del film: Utilizzando la tecnologia del bagliore a radiofrequenza, questo forno aumenta in modo significativo la velocità di deposizione del film, raggiungendo fino a 10Å/S. Questa rapida deposizione è fondamentale per la produzione e la ricerca ad alto rendimento, per risparmiare tempo e aumentare la produttività.
- Uniformità su un'ampia area: Grazie all'avanzata tecnologia di alimentazione RF a più punti e alla distribuzione specializzata del percorso del gas, il forno garantisce un'uniformità del film fino all'8%. Questa uniformità è essenziale per creare rivestimenti coerenti e di alta qualità su substrati di grandi dimensioni, migliorando l'affidabilità dei materiali prodotti.
- Deposizione uniforme: Il design incorpora concetti avanzati dell'industria dei semiconduttori, con una deviazione inferiore al 2% tra i substrati. Questo elevato livello di coerenza è fondamentale per le applicazioni che richiedono risultati precisi e ripetibili, come nella produzione di componenti elettronici.
- Controllo stabile del processo: L'elevata stabilità dell'apparecchiatura garantisce la continuità e la coerenza del processo CVD. Questa affidabilità è fondamentale per mantenere l'integrità del processo e ridurre il rischio di difetti o guasti durante il funzionamento.
- Sistema di controllo intelligente: Brevettato da Bonage, il sistema di controllo integrato comprende un sistema di controllo della temperatura ad alte prestazioni che utilizza un meccanismo di feedback negativo ad anello chiuso. Questo sistema, unito a componenti elettrici importati di alta qualità, migliora le prestazioni complessive e l'affidabilità dell'apparecchiatura, rendendola praticamente esente da manutenzione.
- Applicazioni versatili: Adatto a depositare vari tipi di film, tra cui quelli metallici, ceramici e compositi, il forno supporta processi di crescita continua e può essere facilmente ampliato con funzioni aggiuntive come la pulizia e l'incisione al plasma. Questa versatilità lo rende una risorsa preziosa per diverse esigenze di ricerca e produzione.
Il principio
Il forno tubolare CVD a camera divisa con macchina CVD a stazione sottovuoto è un forno sottovuoto ad alta temperatura utilizzato per i processi di deposizione di vapore chimico (CVD). La CVD è un processo in cui un film sottile di materiale viene depositato su un substrato mediante la reazione chimica di un gas o di un vapore. Il forno tubolare CVD a camera divisa con stazione del vuoto utilizza una camera di forno divisa per consentire un facile accesso al substrato durante il processo CVD. La stazione del vuoto viene utilizzata per creare un vuoto nella camera del forno, che aiuta a rimuovere le impurità e a migliorare la qualità del film depositato.
Vantaggi
- Osservazione intuitiva del campione e raffreddamento rapido: La camera del forno divisa consente l'osservazione diretta dei campioni di reazione e il raffreddamento rapido.
- Capacità di lavorare ad alta temperatura: Temperatura massima di lavoro fino a 1200℃ per applicazioni versatili.
- Controllo preciso del gas: il misuratore di portata massica MFC a 4 canali con sorgenti CH4, H2, O2 e N2 garantisce un'alimentazione accurata e stabile del gas.
- Compatibilità con il vuoto: La stazione del vuoto con una pompa per vuoto rotativa a palette da 4L/S raggiunge una pressione massima di 10Pa, consentendo vari processi sotto vuoto.
- Riscaldamento e raffreddamento ad alta velocità: Il sistema di scorrimento della camera del forno facilita il riscaldamento e il raffreddamento rapido per un'efficiente elaborazione dei campioni.
- Controllo avanzato della temperatura: Controllo della temperatura programmabile PID con eccellente precisione, controllo remoto e capacità di controllo centralizzato.
- Interfaccia facile da usare: Il controller CTF Pro con touch screen TFT da 7 pollici offre un'impostazione intuitiva dei programmi e l'analisi dei dati.
- Configurazione versatile del vuoto: La flangia per vuoto in acciaio inox con porte adattabili consente di alloggiare diverse stazioni di pompe per vuoto per ambienti personalizzati.
- Efficienza energetica: Il sistema di raffreddamento ad acqua e il design del post-flusso del gas riducono al minimo il consumo energetico.
- Ampia applicabilità: Adatto per CVD, diffusione e altri trattamenti termici in condizioni di vuoto e protezione atmosferica.
Vantaggi per la sicurezza
- Il forno tubolare Kindle Tech possiede una protezione da sovracorrente e una funzione di allarme da sovratemperatura; il forno spegnerà automaticamente l'alimentazione.
- Il forno è dotato di una funzione di rilevamento delle coppie termiche, che interrompe il riscaldamento e attiva l'allarme una volta rilevata la rottura o il guasto.
- KT-CTF12 Pro supporta la funzione di riavvio dell'interruzione di corrente, la fornace riprenderà il programma di riscaldamento della fornace quando il potere è in arrivo dopo il fallimento
Specifiche tecniche
Modello di forno | KT-CTF12-60 |
---|---|
Temperatura massima | 1200℃ |
Temperatura di lavoro costante | 1100℃ |
Materiale del tubo del forno | Quarzo di elevata purezza |
Diametro del tubo del forno | 60 mm |
Lunghezza della zona di riscaldamento | 1x450mm |
Materiale della camera | Fibra di allumina giapponese |
Elemento di riscaldamento | Bobina di filo Cr2Al2Mo2 |
Velocità di riscaldamento | 0-20℃/min |
Coppia termica | Costruire in tipo K |
Regolatore di temperatura | Controllore PID digitale/controllore PID touch screen |
Precisione del controllo della temperatura | ±1℃ |
Distanza di scorrimento | 600 mm |
Unità di controllo preciso del gas | |
Misuratore di portata | Misuratore di portata massica MFC |
Canali gas | 4 canali |
Portata | MFC1: 0-5SCCM O2 MFC2: 0-20SCMCH4 MFC3: 0-100 SCCM H2 MFC4: 0-500 SCCM N2 |
Linearità | ±0,5% F.S. |
Ripetibilità | ±0,2% F.S. |
Linea di tubi e valvola | Acciaio inossidabile |
Pressione massima di esercizio | 0,45MPa |
Controllore del flussometro | Controllore digitale a manopola/controller touch screen |
Unità di vuoto standard (opzionale) | |
Pompa per vuoto | Pompa per vuoto rotativa a palette |
Portata della pompa | 4L/S |
Porta di aspirazione del vuoto | KF25 |
Vacuometro | Vacuometro Pirani/Resistenza al silicone |
Pressione nominale del vuoto | 10Pa |
Unità per alto vuoto (opzionale) | |
Pompa per vuoto | Pompa rotativa a palette+pompa molecolare |
Portata della pompa | 4L/S+110L/S |
Porta di aspirazione del vuoto | KF25 |
Vacuometro | Vacuometro composto |
Pressione nominale del vuoto | 6x10-5Pa |
Le specifiche e le configurazioni di cui sopra possono essere personalizzate |
Pacchetto standard
No. | Descrizione | Quantità |
---|---|---|
1 | Forno | 1 |
2 | Tubo di quarzo | 1 |
3 | Flangia per il vuoto | 2 |
4 | Blocco termico del tubo | 2 |
5 | Gancio del blocco termico a tubo | 1 |
6 | Guanto resistente al calore | 1 |
7 | Controllo preciso del gas | 1 |
8 | Unità per il vuoto | 1 |
9 | Manuale operativo | 1 |
Configurazione opzionale
- Rilevamento e monitoraggio dei gas in tubo, come H2, O2 e così via
- Monitoraggio e registrazione indipendente della temperatura del forno
- Porta di comunicazione RS 485 per il controllo remoto del PC e l'esportazione dei dati
- Controllo della portata di alimentazione dei gas inseriti, come flussimetro di massa e flussimetro a galleggiante
- Controllore di temperatura touch screen con funzioni versatili e di facile utilizzo per l'operatore
- Configurazione della stazione di pompaggio ad alto vuoto, come pompa a vuoto a palette, pompa molecolare, pompa a diffusione
Avvertenze
La sicurezza dell'operatore è la questione più importante! Si prega di utilizzare l'apparecchiatura con cautele. Lavorare con gas infiammabili, esplosivi o tossici è molto complicato pericoloso, gli operatori devono prendere tutte le precauzioni necessarie prima di avviare il attrezzatura. Lavorare con pressione positiva all'interno dei reattori o delle camere lo è pericoloso, l'operatore deve rispettare rigorosamente le procedure di sicurezza. Extra è necessario prestare attenzione anche quando si opera con materiali reattivi all'aria, soprattutto sotto vuoto. Una perdita può far entrare aria nell'apparecchio e causare a si verifichi una reazione violenta.
Progettato per te
KinTek fornisce servizi e attrezzature su misura ai clienti di tutto il mondo, il nostro lavoro di squadra specializzato e gli ingegneri esperti e ricchi sono in grado di farlo intraprendere la personalizzazione dei requisiti hardware e software di personalizzazione, e aiutare i nostri clienti a costruire attrezzature esclusive e personalizzate e soluzione!
FAQ
Che cos'è il forno CVD?
La deposizione chimica da vapore (CVD) è una tecnologia che utilizza varie fonti di energia, come il riscaldamento, l'eccitazione del plasma o la radiazione luminosa, per far reagire chimicamente sostanze chimiche gassose o vaporizzate in fase gassosa o nell'interfaccia gas-solido e formare depositi solidi nel reattore per mezzo di una reazione chimica.
Il forno CVD è un sistema combinato di forni con unità di forni a tubo ad alta temperatura, unità di controllo dei gas e unità di vuoto, ampiamente utilizzato per la sperimentazione e la produzione di preparazione di materiali compositi, processi microelettronici, semiconduttori optoelettronici, utilizzo dell'energia solare, comunicazione in fibra ottica, tecnologia dei superconduttori, campo dei rivestimenti protettivi.
Che cos'è una pressa da laboratorio?
Come funziona il forno CVD?
Il sistema di forni CVD è costituito da un'unità di forni tubolari ad alta temperatura, da un'unità di controllo preciso della fonte di gas di reazione, da una stazione di pompa a vuoto e da parti di assemblaggio corrispondenti.
La pompa a vuoto serve a rimuovere l'aria dal tubo di reazione e ad assicurarsi che non vi siano gas indesiderati all'interno del tubo di reazione, dopodiché il forno tubolare riscalderà il tubo di reazione fino a raggiungere la temperatura desiderata, quindi l'unità di controllo preciso della fonte di gas di reazione potrà introdurre gas diversi con un rapporto prestabilito nel tubo del forno per la reazione chimica, e la deposizione di vapore chimico si formerà nel forno CVD.
Che cos'è il metodo PECVD?
Qual è il principio di base della CVD?
Che cos'è l'Mpcvd?
Come funziona il PACVD?
Che cos'è la PECVD RF?
Quali sono i metodi utilizzati per depositare film sottili?
Qual è lo scopo di una pressa idraulica in laboratorio?
Quale gas viene utilizzato nel processo CVD?
Ci sono diverse fonti di gas che possono essere utilizzate nel processo CVD, le reazioni chimiche comuni della CVD includono pirolisi, fotolisi, riduzione, ossidazione, ossidoriduzione, quindi i gas coinvolti in queste reazioni chimiche possono essere utilizzati nel processo CVD.
Prendiamo ad esempio la crescita di grafene CVD, i gas utilizzati nel processo CVD saranno CH4, H2, O2 e N2.
A cosa serve la PECVD?
Quali sono i diversi tipi di metodi CVD?
Che cos'è la macchina Mpcvd?
PACVD è PECVD?
Come funziona la PECVD a radiofrequenza?
Cosa sono le apparecchiature per la deposizione di film sottili?
Quali sono i diversi tipi di presse da laboratorio?
Qual è il vantaggio del sistema CVD?
- È possibile produrre un'ampia gamma di film, film metallici, film non metallici e film in lega multicomponente, a seconda delle esigenze. Allo stesso tempo, può preparare cristalli di alta qualità difficilmente ottenibili con altri metodi, come GaN, BP, ecc.
- La velocità di formazione del film è rapida, di solito diversi micron al minuto o addirittura centinaia di micron al minuto. È possibile depositare simultaneamente grandi quantità di rivestimenti con una composizione uniforme, cosa incomparabile con altri metodi di preparazione del film, come l'epitassia in fase liquida (LPE) e l'epitassia a fascio molecolare (MBE).
- Le condizioni di lavoro sono realizzate in condizioni di pressione normale o di basso vuoto, quindi il rivestimento ha una buona diffrazione e i pezzi con forme complesse possono essere rivestiti uniformemente, il che è molto superiore alla PVD.
- La deposizione chimica da vapore può ottenere una superficie di deposizione liscia. Rispetto all'LPE, infatti, la deposizione da vapore chimico (CVD) avviene in condizioni di elevata saturazione, con un alto tasso di nucleazione, un'alta densità di nucleazione e una distribuzione uniforme su tutto il piano, con il risultato di una superficie macroscopica liscia. Allo stesso tempo, nella deposizione da vapore chimico, il percorso libero medio delle molecole (atomi) è molto più grande di quello dell'LPE, quindi la distribuzione spaziale delle molecole è più uniforme, il che favorisce la formazione di una superficie di deposizione liscia.
- Basso danno da radiazioni, che è una condizione necessaria per la produzione di semiconduttori in ossido di metallo (MOS) e altri dispositivi
Quali sono i vantaggi della PECVD?
Quali sono i vantaggi dell'utilizzo di macchine per la deposizione da vapore chimico?
Quali sono i vantaggi dell'Mpcvd?
Quali sono i vantaggi dell'uso del PACVD?
Quali sono i vantaggi della PECVD a radiofrequenza?
Che cos'è la tecnologia di deposizione a film sottile?
Che cosa significa PECVD?
PECVD è una tecnologia che utilizza il plasma per attivare il gas di reazione, promuovere la reazione chimica sulla superficie del substrato o nello spazio vicino alla superficie e generare un film solido. Il principio di base della tecnologia di deposizione di vapore chimico al plasma è che, sotto l'azione di un campo elettrico RF o DC, il gas di partenza viene ionizzato per formare un plasma, il plasma a bassa temperatura viene utilizzato come fonte di energia, viene introdotta una quantità appropriata di gas di reazione e la scarica di plasma viene utilizzata per attivare il gas di reazione e realizzare la deposizione di vapore chimico.
Secondo il metodo di generazione del plasma, può essere suddiviso in plasma RF, plasma DC e microonde CVD, ecc.
Qual è la differenza tra ALD e PECVD?
Quali sono le applicazioni delle macchine per la deposizione di vapore chimico?
I diamanti CVD sono veri o falsi?
Quali sono le applicazioni più comuni del PACVD?
Quali sono i vantaggi dell'utilizzo di apparecchiature per la deposizione di film sottili?
Qual è la differenza tra CVD e PECVD?
La differenza tra PECVD e la tecnologia CVD tradizionale è che il plasma contiene un gran numero di elettroni ad alta energia, in grado di fornire l'energia di attivazione necessaria nel processo di deposizione di vapore chimico, cambiando così la modalità di approvvigionamento energetico del sistema di reazione. Poiché la temperatura degli elettroni nel plasma raggiunge i 10000K, la collisione tra gli elettroni e le molecole di gas può promuovere la rottura dei legami chimici e la ricombinazione delle molecole di gas di reazione per generare più gruppi chimici attivi, mentre l'intero sistema di reazione mantiene una temperatura più bassa.
Quindi, rispetto al processo CVD, la PECVD può realizzare lo stesso processo di deposizione chimica da vapore con una temperatura più bassa.
Qual è la differenza tra PECVD e sputtering?
Quali sono i fattori da considerare nella scelta di una macchina per la deposizione di vapore chimico?
Quali sono i fattori da considerare nella scelta di un sistema PACVD?
Quali sono i fattori da considerare nella scelta di un'apparecchiatura per la deposizione di film sottili?
Le macchine per la deposizione chimica da vapore possono essere utilizzate per la deposizione di film sottili multistrato?
Quali sono le considerazioni sulla sicurezza associate al funzionamento delle apparecchiature di deposizione di film sottili?
4.8
out of
5
I'm impressed with the speed of delivery. I received my order within a week of placing it.
4.9
out of
5
This product is worth every penny. The build quality is top-notch, and it performs even better than advertised.
4.7
out of
5
I'm amazed by the technological advancement of this product. It's like having a mini-lab in my own laboratory.
4.8
out of
5
The split chamber design is a game-changer. It makes it so easy to load and unload samples.
4.9
out of
5
The vacuum station is a great addition. It allows me to create a controlled environment for my experiments.
4.7
out of
5
I'm very satisfied with the durability of this product. It's been through a lot of use, and it's still going strong.
4.8
out of
5
The customer service from KINTEK SOLUTION is exceptional. They're always quick to respond to my inquiries and help me troubleshoot any issues.
4.9
out of
5
I highly recommend this product to any laboratory manager looking for a reliable and high-quality CVD tube furnace.
4.7
out of
5
This product has exceeded my expectations. It's easy to use and maintain, and it produces excellent results.
4.8
out of
5
I'm very happy with my purchase. This product is a great addition to my laboratory.
4.9
out of
5
I'm impressed with the quality of this product. It's well-made and performs flawlessly.
4.7
out of
5
This product is a must-have for any laboratory. It's a versatile and powerful tool that can be used for a variety of applications.
4.8
out of
5
I'm very satisfied with this product. It's a great value for the price.
4.9
out of
5
I highly recommend this product to any laboratory manager looking for a reliable and affordable CVD tube furnace.
4.7
out of
5
This product is a great addition to my laboratory. It's easy to use and produces excellent results.
4.8
out of
5
I'm very happy with my purchase. This product is a great value for the price.
4.9
out of
5
I highly recommend this product to any laboratory manager looking for a reliable and affordable CVD tube furnace.
PDF - Forno tubolare CVD a camera split con macchina CVD a stazione sottovuoto
disabled = false, 3000)"> ScaricaCatalogo di Forno Cvd E Pecvd
disabled = false, 3000)"> ScaricaCatalogo di Forno Cvd
disabled = false, 3000)"> ScaricaCatalogo di Macchina Pecvd
disabled = false, 3000)"> ScaricaCatalogo di Macchina Cvd
disabled = false, 3000)"> ScaricaCatalogo di Macchina Mpcvd
disabled = false, 3000)"> ScaricaCatalogo di Pacvd
disabled = false, 3000)"> ScaricaCatalogo di Rf Pecvd
disabled = false, 3000)"> ScaricaCatalogo di Apparecchiature Per La Deposizione Di Film Sottili
disabled = false, 3000)"> ScaricaCatalogo di Stampa Di Laboratorio
disabled = false, 3000)"> ScaricaRICHIEDI UN PREVENTIVO
Il nostro team professionale ti risponderà entro un giorno lavorativo. Non esitare a contattarci!
Prodotti correlati
Macchina CVD versatile con forno a tubo CVD, realizzata dal cliente
Ottenete il vostro forno CVD esclusivo con KT-CTF16 Customer Made Versatile Furnace. Funzioni di scorrimento, rotazione e inclinazione personalizzabili per reazioni precise. Ordinate ora!
Forno tubolare CVD a più zone di riscaldamento Macchina CVD
Forno CVD a più zone di riscaldamento KT-CTF14 - Controllo preciso della temperatura e del flusso di gas per applicazioni avanzate. Temperatura massima fino a 1200℃, misuratore di portata massica MFC a 4 canali e controller touch screen TFT da 7".
Vi presentiamo il nostro forno PECVD rotativo inclinato per la deposizione precisa di film sottili. La sorgente si abbina automaticamente, il controllo della temperatura programmabile PID e il controllo del flussimetro di massa MFC ad alta precisione. Funzioni di sicurezza integrate per la massima tranquillità.
Elevate i vostri esperimenti con il nostro forno verticale a tubo. Il design versatile consente di operare in diversi ambienti e applicazioni di trattamento termico. Ordinate ora per ottenere risultati precisi!
Forno tubolare Slide PECVD con gassificatore liquido Macchina PECVD
Sistema PECVD a scorrimento KT-PE12: Ampio range di potenza, controllo programmabile della temperatura, riscaldamento/raffreddamento rapido con sistema a scorrimento, controllo del flusso di massa MFC e pompa del vuoto.
Forno a caldo per tubi sottovuoto
Riducete la pressione di formatura e abbreviate il tempo di sinterizzazione con il forno a caldo a tubi sottovuoto per materiali ad alta densità e a grana fine. Ideale per i metalli refrattari.
Forno a tubi rotanti a funzionamento continuo sigillato sotto vuoto
Provate il trattamento efficiente dei materiali con il nostro forno a tubi rotanti sigillati sotto vuoto. Perfetto per esperimenti o produzione industriale, dotato di funzioni opzionali per un'alimentazione controllata e risultati ottimizzati. Ordinate ora.
1700℃ Forno ad atmosfera controllata
Forno ad atmosfera controllata KT-17A: riscaldamento a 1700℃, tecnologia di sigillatura sottovuoto, controllo della temperatura PID e versatile controller TFT smart touch screen per laboratorio e uso industriale.
Sperimentate test termici precisi ed efficienti con il nostro forno tubolare multizona. Le zone di riscaldamento indipendenti e i sensori di temperatura consentono di ottenere campi di riscaldamento controllati a gradiente di temperatura elevato. Ordinate ora per un'analisi termica avanzata!
1400℃ Forno ad atmosfera controllata
Ottenete un trattamento termico preciso con il forno ad atmosfera controllata KT-14A. Sigillato sotto vuoto e dotato di un controller intelligente, è ideale per l'uso in laboratorio e nell'industria fino a 1400℃.
1400℃ Forno a tubo con tubo di allumina
Cercate un forno a tubi per applicazioni ad alta temperatura? Il nostro forno a tubo da 1400℃ con tubo in allumina è perfetto per la ricerca e l'uso industriale.
Pompa per vuoto rotativa a palette
Provate la velocità e la stabilità del pompaggio ad alto vuoto con la nostra pompa per vuoto rotativa a palette certificata UL. Valvola di zavorramento del gas a due turni e doppia protezione dell'olio. Facile manutenzione e riparazione.
1700℃ Forno a tubo con tubo in allumina
Cercate un forno tubolare ad alta temperatura? Scoprite il nostro forno tubolare da 1700℃ con tubo in allumina. Perfetto per applicazioni industriali e di ricerca fino a 1700°C.
Forno a vuoto con rivestimento in fibra ceramica
Forno a vuoto con rivestimento isolante in fibra ceramica policristallina per un eccellente isolamento termico e un campo di temperatura uniforme. È possibile scegliere tra una temperatura di lavoro massima di 1200℃ o 1700℃ con prestazioni di alto vuoto e un controllo preciso della temperatura.
Sistema RF PECVD Deposizione di vapore chimico potenziata da plasma a radiofrequenza
RF-PECVD è l'acronimo di "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". Deposita DLC (film di carbonio simile al diamante) su substrati di germanio e silicio. Viene utilizzato nella gamma di lunghezze d'onda dell'infrarosso da 3 a 12um.
1200℃ Forno a tubo diviso con tubo al quarzo
Forno a tubo diviso KT-TF12: isolamento di elevata purezza, bobine di filo riscaldante incorporate e temperatura massima di 1200C. 1200C. Ampiamente utilizzato per i nuovi materiali e la deposizione di vapore chimico.
Omogeneizzatore da laboratorio completamente automatico con cavità acrilica da 4 pollici
La macchina per l'erogazione di colla da laboratorio completamente automatica con cavità acrilica da 4 pollici è una macchina compatta, resistente alla corrosione e facile da usare, progettata per l'impiego in operazioni a guanto. È dotata di un coperchio trasparente con posizionamento a coppia costante per il posizionamento della catena, di una cavità interna integrata per l'apertura dello stampo e di un pulsante LCD per la maschera facciale a colori. La velocità di accelerazione e decelerazione è controllabile e regolabile ed è possibile impostare un programma di controllo delle operazioni in più fasi.
Piccolo forno di sinterizzazione del filo di tungsteno sotto vuoto
Il piccolo forno a vuoto per la sinterizzazione del filo di tungsteno è un forno a vuoto sperimentale compatto, appositamente progettato per università e istituti di ricerca scientifica. Il forno è dotato di un guscio saldato a CNC e di tubazioni per il vuoto che garantiscono un funzionamento senza perdite. I collegamenti elettrici a connessione rapida facilitano il trasferimento e il debugging, mentre il quadro elettrico standard è sicuro e comodo da usare.
Pompa per vuoto a circolazione d'acqua da banco
Avete bisogno di una pompa per vuoto a circolazione d'acqua per il vostro laboratorio o per un'industria di piccole dimensioni? La nostra pompa da banco per il vuoto a circolazione d'acqua è perfetta per l'evaporazione, la distillazione, la cristallizzazione e altro ancora.
1200℃ Forno ad atmosfera controllata
Scoprite il nostro forno ad atmosfera controllata KT-12A Pro - alta precisione, camera a vuoto per impieghi gravosi, versatile controller intelligente con touch screen ed eccellente uniformità di temperatura fino a 1200C. Ideale per applicazioni di laboratorio e industriali.
Ottenete una pressione negativa stabile ed efficiente con la nostra pompa per vuoto a membrana. Perfetta per l'evaporazione, la distillazione e altro ancora. Motore a bassa temperatura, materiali resistenti alle sostanze chimiche e rispettosi dell'ambiente. Provatela oggi stesso!
Ottenete un controllo del calore superiore con il nostro forno a muffola da 1700℃. Dotato di microprocessore intelligente per la temperatura, controller TFT touch screen e materiali isolanti avanzati per un riscaldamento preciso fino a 1700C. Ordinate ora!
4 pollici in lega di alluminio camera completamente automatica laboratorio colla omogeneizzatore
La macchina erogatrice di colla da laboratorio completamente automatica con cavità in lega di alluminio da 4 pollici è un dispositivo compatto e resistente alla corrosione progettato per l'uso in laboratorio. È dotata di un coperchio trasparente con posizionamento costante della coppia, di una cavità interna con apertura a stampo integrata per un facile smontaggio e pulizia e di un pulsante LCD a colori per la maschera facciale per una maggiore facilità d'uso.
Ottenete un controllo preciso delle alte temperature fino a 1500℃ con il forno a muffola KT-14M. Dotato di un controller touch screen intelligente e di materiali isolanti avanzati.
Forno tubolare ad alta pressione
Forno a tubo ad alta pressione KT-PTF: forno a tubo diviso compatto con forte resistenza alla pressione positiva. Temperatura di lavoro fino a 1100°C e pressione fino a 15Mpa. Funziona anche in atmosfera controllata o sotto vuoto spinto.
Articoli correlati
Presentazione dei forni a tubi sottovuoto da laboratorio
Un forno a tubi sottovuoto è un tipo di forno che utilizza il vuoto per isolare l'atmosfera di processo dall'atmosfera esterna.
Vantaggi dell'uso del forno tubolare CVD per il rivestimento
I rivestimenti CVD presentano numerosi vantaggi rispetto ad altri metodi di rivestimento, come l'elevata purezza, la densità e l'uniformità, che li rendono ideali per molte applicazioni in vari settori.
Forno CVD per la crescita di nanotubi di carbonio
La tecnologia di deposizione chimica da vapore (CVD) è un metodo ampiamente utilizzato per la crescita di nanotubi di carbonio.
Esplorare l'uso di un forno a camera per applicazioni industriali e di laboratorio
Un forno a camera da laboratorio è un tipo di apparecchiatura di riscaldamento progettata specificamente per l'uso in laboratorio. In genere viene utilizzato per applicazioni che richiedono un controllo preciso della temperatura e l'uniformità, come l'incenerimento o il trattamento termico dei materiali.
Guida completa ai forni a tubi separati: Applicazioni, caratteristiche
È esatto che un forno a tubi divisi è un tipo di apparecchiatura di laboratorio che consiste in un tubo o camera cava che può essere aperta per consentire l'inserimento e la rimozione dei campioni o dei materiali da riscaldare.
Come scegliere il forno a muffola giusto per il vostro laboratorio?
Altre considerazioni importanti per il forno a muffola sono la temperatura massima desiderata, la durata del ciclo di processo e il metodo di carico o scarico. Per scegliere il forno a muffola più adatto alle proprie esigenze, è importante considerare innanzitutto le specifiche di progettazione richieste per la produzione o l'applicazione desiderata. Ciò include fattori quali le dimensioni del crogiolo, le dimensioni della camera e la tensione di ingresso. Una volta acquisite le nozioni di base, è possibile passare ad altre considerazioni importanti come la temperatura massima, la durata del ciclo di processo e il metodo di carico o scarico. Prendendo in considerazione tutti questi fattori, si può essere certi di scegliere il forno a muffola migliore per le proprie esigenze.
Forni ad atmosfera: Guida completa al trattamento termico controllato
Esplorate il mondo avanzato dei forni ad atmosfera con la nostra guida dettagliata. Scoprite il loro funzionamento, le applicazioni e i vantaggi in vari settori industriali. Perfetta per chi cerca conoscenze approfondite sul trattamento termico controllato.
Problemi comuni dei sistemi CVD e loro soluzione
Comprendere le basi dei sistemi CVD e la loro importanza è fondamentale per ottimizzare il processo e risolvere i problemi comuni riscontrati durante il funzionamento.
Forni da laboratorio a vuoto nella ricerca sui materiali avanzati
Oltre alle dimensioni, vi sono altre differenze fondamentali tra i forni a vuoto su scala industriale e quelli da laboratorio.
Rivoluzionare il controllo qualità: La guida definitiva agli analizzatori portatili di leghe
Scoprite le caratteristiche e i vantaggi avanzati degli analizzatori portatili di leghe, tra cui la rapidità di analisi, la gestione dei dati in tempo reale e le soluzioni economiche per il controllo della qualità industriale. Scoprite come questi dispositivi possono migliorare i vostri processi produttivi e garantire il 100% della qualità.
Installazione del raccordo del forno a tubo Tee
Introduce principalmente il metodo di installazione del raccordo a T del forno a tubi.
Guida completa all'MPCVD: Sintesi e applicazioni del diamante
Esplora i fondamenti, i vantaggi e le applicazioni della deposizione di vapore chimico al plasma a microonde (MPCVD) nella sintesi del diamante. Scoprite le sue capacità uniche e come si confronta con altri metodi di crescita del diamante.