Forno CVD e PECVD
Fornace a Tubo CVD a Camera Divisa con Stazione Sottovuoto Sistema di Deposizione Chimica da Vapore Attrezzatura Macchina
Numero articolo : KT-CTF12
Il prezzo varia in base a specifiche e personalizzazioni
- Temperatura massima
- 1200 ℃
- Temperatura di lavoro costante
- 1100 ℃
- Diametro del tubo del forno
- 60 mm
- Lunghezza della zona di riscaldamento
- 1x450 mm
- Velocità di riscaldamento
- 0-20 ℃/min
Spedizione:
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Introduzione
La Fornace a Tubo CVD a Camera Divisa con Stazione Sottovuoto è un'attrezzatura da laboratorio versatile e ad alte prestazioni progettata per applicazioni di deposizione chimica da vapore (CVD). È dotata di una camera del forno divisa che consente un facile accesso ai campioni di reazione e un rapido raffreddamento. Il tubo del forno è realizzato in quarzo ad alta temperatura e ha un diametro di 60 mm. Il sistema include un flussimetro di massa MFC a 4 canali con gas sorgente CH4, H2, O2 e N2, che fornisce un controllo preciso delle portate di gas. La stazione sottovuoto è dotata di una pompa per vuoto a palette rotanti da 4 L/S, raggiungendo una pressione di vuoto massima di 10 Pa. Con le sue caratteristiche e capacità avanzate, la Fornace a Tubo CVD a Camera Divisa con Stazione Sottovuoto è una scelta ideale per varie applicazioni di ricerca e sviluppo nella scienza dei materiali, nella lavorazione dei semiconduttori e in altri campi.
Dettagli e Parti
Applicazioni
La Macchina Fornace a Tubo CVD a Camera Divisa con Stazione Sottovuoto è un'attrezzatura versatile e avanzata progettata per una varietà di applicazioni nei campi della scienza dei materiali, della produzione di semiconduttori e della ricerca e sviluppo. Questa macchina è particolarmente utile per processi che richiedono un controllo preciso della temperatura, del flusso di gas e dei livelli di vuoto, rendendola uno strumento essenziale per la sintesi e la lavorazione di materiali di alta qualità.
- Sintesi di Nanomateriali: La fornace è ideale per la crescita di nanofili, nanofilm e altri materiali nanostrutturati, che sono cruciali nello sviluppo di dispositivi elettronici e optoelettronici avanzati.
- Rivestimento Sottovuoto: È ampiamente utilizzata per la deposizione di film sottili su vari substrati, inclusi film metallici, ceramici e compositi, che sono essenziali per migliorare le proprietà dei materiali in applicazioni come l'ottica e l'elettronica.
- Lavorazione di Materiali per Batterie: La fornace è adatta per l'essiccazione e la sinterizzazione di materiali per batterie, che è una fase critica nella produzione di batterie ad alte prestazioni.
- Essiccazione e Sinterizzazione di Materiali: Viene utilizzata nella sinterizzazione ad alta temperatura di ceramiche, materiali refrattari e materiali speciali, garantendo il consolidamento e la densificazione di questi materiali.
- Trattamento Termico in Atmosfera e Sottovuoto: La configurazione del forno a tubo verticale consente la tempra, la ricottura e la distensione di piccole parti in acciaio, nonché il rivestimento CVD verticale, rendendola una risorsa preziosa nei processi metallurgici.
- Ricerca e Sviluppo: È ampiamente utilizzata in università, istituti di ricerca e imprese industriali e minerarie per condurre esperimenti ad alta temperatura, sinterizzazione in atmosfera, atmosfera riducente ed esperimenti CVD/CVI, contribuendo al progresso della scienza e della tecnologia dei materiali.
Caratteristiche
La Macchina Fornace a Tubo CVD a Camera Divisa con Stazione Sottovuoto è un'attrezzatura sofisticata progettata per processi avanzati di deposizione chimica da vapore (CVD). Questa fornace integra tecnologie all'avanguardia per migliorare l'efficienza e la qualità della deposizione di film, rendendola ideale per applicazioni di ricerca e industriali. Ecco le caratteristiche chiave e i loro vantaggi:
- Elevata Velocità di Deposizione di Film: Utilizzando la tecnologia a bagliore a radiofrequenza, questa fornace aumenta significativamente la velocità di deposizione di film, raggiungendo fino a 10Å/S. Questa rapida deposizione è cruciale per la produzione e la ricerca ad alto rendimento, risparmiando tempo e aumentando la produttività.
- Uniformità su Ampia Area: Con la tecnologia avanzata di alimentazione RF multipunto e la distribuzione specializzata del percorso del gas, la fornace garantisce un'uniformità del film fino all'8%. Questa uniformità è essenziale per creare rivestimenti coerenti e di alta qualità su substrati di grandi dimensioni, migliorando l'affidabilità dei materiali prodotti.
- Deposizione Coerente: Il design incorpora concetti avanzati dell'industria dei semiconduttori, con una deviazione inferiore al 2% tra i substrati. Questo elevato livello di coerenza è vitale per applicazioni che richiedono risultati precisi e ripetibili, come nella produzione di componenti elettronici.
- Controllo Stabile del Processo: L'elevata stabilità dell'attrezzatura garantisce la continuità e la coerenza del processo CVD. Questa affidabilità è fondamentale per mantenere l'integrità del processo e ridurre il rischio di difetti o guasti durante il funzionamento.
- Sistema di Controllo Intelligente: Brevettato da Bonage, il sistema di controllo integrato include un sistema di controllo della temperatura ad alte prestazioni che utilizza un meccanismo di feedback negativo ad anello chiuso. Questo sistema, combinato con componenti elettrici importati di alta qualità, migliora le prestazioni complessive e l'affidabilità dell'attrezzatura, rendendola virtualmente esente da manutenzione.
- Applicazioni Versatili: Adatta per la deposizione di vari tipi di film, inclusi film metallici, ceramici e compositi, la fornace supporta processi di crescita continua e può essere facilmente ampliata con funzioni aggiuntive come la pulizia al plasma e l'incisione. Questa versatilità la rende una risorsa preziosa per diverse esigenze di ricerca e produzione.
Principio
La Macchina Fornace a Tubo CVD a Camera Divisa con Stazione Sottovuoto è una fornace sottovuoto ad alta temperatura utilizzata per processi di deposizione chimica da vapore (CVD). La CVD è un processo in cui un film sottile di materiale viene depositato su un substrato tramite la reazione chimica di un gas o vapore. La Macchina Fornace a Tubo CVD a Camera Divisa con Stazione Sottovuoto utilizza una camera del forno divisa per consentire un facile accesso al substrato durante il processo CVD. La stazione sottovuoto viene utilizzata per creare un vuoto nella camera del forno, che aiuta a rimuovere le impurità e migliorare la qualità del film depositato.
Vantaggi
- Osservazione intuitiva del campione e raffreddamento rapido: La camera del forno divisa consente l'osservazione diretta dei campioni di reazione e un rapido raffreddamento.
- Capacità di alta temperatura: Temperatura di lavoro massima fino a 1200℃ per applicazioni versatili.
- Controllo preciso del gas: Il flussimetro di massa MFC a 4 canali con sorgenti CH4, H2, O2 e N2 garantisce un'alimentazione di gas accurata e stabile.
- Compatibilità con vuoto: La stazione sottovuoto con una pompa per vuoto a palette rotanti da 4 L/S raggiunge una pressione di vuoto massima fino a 10 Pa, consentendo vari processi sottovuoto.
- Riscaldamento e raffreddamento ad alta velocità: Il sistema di scorrimento della camera del forno facilita il rapido riscaldamento e raffreddamento per un'efficiente lavorazione dei campioni.
- Controllo avanzato della temperatura: Controllo della temperatura programmabile PID con eccellente precisione, controllo remoto e capacità di controllo centralizzato.
- Interfaccia user-friendly: Il controller CTF Pro con schermo tattile TFT da 7 pollici offre un'impostazione intuitiva dei programmi e un'analisi dei dati.
- Configurazione sottovuoto versatile: La flangia sottovuoto in acciaio inossidabile con porte adattabili ospita diverse stazioni pompa per vuoto per ambienti sottovuoto personalizzati.
- Efficienza energetica: Il sistema di raffreddamento ad acqua e il design del post-flusso del gas minimizzano il consumo energetico.
- Ampia applicabilità: Adatto per CVD, diffusione e altri trattamenti termici sotto vuoto e protezione atmosferica.
Vantaggio di Sicurezza
- La fornace a tubo Kindle Tech dispone di protezione da sovracorrente e funzione di allarme di sovratemperatura, la fornace spegnerà automaticamente l'alimentazione.
- La fornace integra la funzione di rilevamento della termocoppia, la fornace smetterà di riscaldare e l'allarme si attiverà una volta rilevato un guasto o un malfunzionamento.
- KT-CTF12 Pro supporta la funzione di riavvio dopo interruzione di corrente, la fornace riprenderà il programma di riscaldamento della fornace quando l'alimentazione verrà ripristinata dopo un guasto.
Specifiche tecniche
| Modello fornace | KT-CTF12-60 |
|---|---|
| Temperatura max. | 1200℃ |
| Temperatura di lavoro costante | 1100℃ |
| Materiale tubo fornace | Quarzo ad alta purezza |
| Diametro tubo fornace | 60mm |
| Lunghezza zona riscaldante | 1x450mm |
| Materiale camera | Fibra di allumina giapponese |
| Elemento riscaldante | Bobina di filo Cr2Al2Mo2 |
| Velocità di riscaldamento | 0-20℃/min |
| Termocoppia | Integrata tipo K |
| Controller temperatura | Controller PID digitale/Controller PID touch screen |
| Precisione controllo temperatura | ±1℃ |
| Distanza di scorrimento | 600mm |
| Unità di controllo preciso del gas | |
| Flussimetro | Flussimetro di massa MFC |
| Canali gas | 4 canali |
| Portata | MFC1: 0-5SCCM O2 MFC2: 0-20SCMCH4 MFC3: 0- 100SCCM H2 MFC4: 0-500 SCCM N2 |
| Linearità | ±0,5% F.S. |
| Ripetibilità | ±0,2% F.S. |
| Linea tubi e valvola | Acciaio inossidabile |
| Pressione operativa massima | 0,45 MPa |
| Controller flussimetro | Controller a manopola digitale/Controller touch screen |
| Unità sottovuoto standard (Opzionale) | |
| Pompa per vuoto | Pompa per vuoto a palette rotanti |
| Portata pompa | 4L/S |
| Bocca di aspirazione vuoto | KF25 |
| Manometro per vuoto | Manometro per vuoto a Pirani/Resistenza al silicio |
| Pressione di vuoto nominale | 10Pa |
| Unità ad alto vuoto (Opzionale) | |
| Pompa per vuoto | Pompa a palette rotanti + Pompa molecolare |
| Portata pompa | 4L/S+110L/S |
| Bocca di aspirazione vuoto | KF25 |
| Manometro per vuoto | Manometro a vuoto composto |
| Pressione di vuoto nominale | 6x10-5Pa |
| Le specifiche e le configurazioni sopra riportate possono essere personalizzate | |
Pacchetto Standard
| N. | Descrizione | Quantità |
|---|---|---|
| 1 | Fornace | 1 |
| 2 | Tubo di quarzo | 1 |
| 3 | Flangia sottovuoto | 2 |
| 4 | Blocco termico tubo | 2 |
| 5 | Gancio blocco termico tubo | 1 |
| 6 | Guanto resistente al calore | 1 |
| 7 | Controllo gas preciso | 1 |
| 8 | Unità sottovuoto | 1 |
| 9 | Manuale operativo | 1 |
Configurazione Opzionale
- Rilevamento e monitoraggio gas in tubo, come H2, O2 e così via
- Monitoraggio e registrazione indipendente della temperatura della fornace
- Porta di comunicazione RS 485 per controllo remoto PC ed esportazione dati
- Controllo della portata dei gas di inserimento, come flussimetro di massa e flussimetro a galleggiante
- Controller di temperatura touch screen con funzioni versatili e user-friendly
- Configurazioni di stazioni pompa ad alto vuoto, come pompa per vuoto a palette, pompa molecolare, pompa a diffusione
Avvertenze
La sicurezza dell'operatore è la questione più importante! Si prega di utilizzare l'apparecchiatura con cautele. Lavorare con gas infiammabili, esplosivi o tossici è molto complicato pericoloso, gli operatori devono prendere tutte le precauzioni necessarie prima di avviare il attrezzatura. Lavorare con pressione positiva all'interno dei reattori o delle camere lo è pericoloso, l'operatore deve rispettare rigorosamente le procedure di sicurezza. Extra è necessario prestare attenzione anche quando si opera con materiali reattivi all'aria, soprattutto sotto vuoto. Una perdita può far entrare aria nell'apparecchio e causare a si verifichi una reazione violenta.
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FAQ
Che Cos'è Il Forno CVD?
La deposizione chimica da vapore (CVD) è una tecnologia che utilizza varie fonti di energia, come il riscaldamento, l'eccitazione del plasma o la radiazione luminosa, per far reagire chimicamente sostanze chimiche gassose o vaporizzate in fase gassosa o nell'interfaccia gas-solido e formare depositi solidi nel reattore per mezzo di una reazione chimica.
Il forno CVD è un sistema combinato di forni con unità di forni a tubo ad alta temperatura, unità di controllo dei gas e unità di vuoto, ampiamente utilizzato per la sperimentazione e la produzione di preparazione di materiali compositi, processi microelettronici, semiconduttori optoelettronici, utilizzo dell'energia solare, comunicazione in fibra ottica, tecnologia dei superconduttori, campo dei rivestimenti protettivi.
Che Cos'è Un Forno A Tubi?
Il forno per tubi da laboratorio è un classico forno per tubi ad alta temperatura a riscaldamento esterno, chiamato anche forno per riscaldamento a parete calda.
In base alle diverse temperature di lavoro, il materiale del tubo del forno può essere costituito da tubi di quarzo trasparente, tubi di ceramica di allumina ad alta purezza e tubi di leghe metalliche ad alta resistenza.
Per soddisfare diversi scopi di ricerca termica, il forno a tubi può essere progettato con più zone di riscaldamento, in modo da avere un controllo flessibile del gradiente di temperatura nella camera di lavoro del tubo; il tubo del forno può lavorare in un ambiente di lavoro ad atmosfera controllata o in un ambiente di lavoro ad alto vuoto.
A Cosa Serve Un Forno A Vuoto?
Come Funziona Il Forno CVD?
Il sistema di forni CVD è costituito da un'unità di forni tubolari ad alta temperatura, da un'unità di controllo preciso della fonte di gas di reazione, da una stazione di pompa a vuoto e da parti di assemblaggio corrispondenti.
La pompa a vuoto serve a rimuovere l'aria dal tubo di reazione e ad assicurarsi che non vi siano gas indesiderati all'interno del tubo di reazione, dopodiché il forno tubolare riscalderà il tubo di reazione fino a raggiungere la temperatura desiderata, quindi l'unità di controllo preciso della fonte di gas di reazione potrà introdurre gas diversi con un rapporto prestabilito nel tubo del forno per la reazione chimica, e la deposizione di vapore chimico si formerà nel forno CVD.
Come Funziona Un Forno A Tubi?
Gli elementi riscaldanti del forno a tubo sono posizionati intorno alla cavità cilindrica; il forno può riscaldare i campioni nella cavità cilindrica solo attraverso la radiazione termica indiretta, poiché il tubo del forno può evitare che il materiale del campione entri in contatto con gli elementi riscaldanti del forno e i materiali isolanti; il forno a tubo crea quindi una camera di calore isolata e pulita e riduce i rischi di contaminazione del materiale del campione da parte del forno.
Che Cos'è L'Mpcvd?
Qual è Il Processo Di Un Forno A Vuoto?
Quale Gas Viene Utilizzato Nel Processo CVD?
Ci sono diverse fonti di gas che possono essere utilizzate nel processo CVD, le reazioni chimiche comuni della CVD includono pirolisi, fotolisi, riduzione, ossidazione, ossidoriduzione, quindi i gas coinvolti in queste reazioni chimiche possono essere utilizzati nel processo CVD.
Prendiamo ad esempio la crescita di grafene CVD, i gas utilizzati nel processo CVD saranno CH4, H2, O2 e N2.
Quali Sono Le Applicazioni Del Forno A Tubi?
Il forno tubolare è utilizzato principalmente in metallurgia, vetro, trattamento termico, materiali anodici e catodici al litio, nuove energie, abrasivi e altre industrie, ed è un'apparecchiatura professionale per la misurazione dei materiali in determinate condizioni di temperatura.
Il forno tubolare è caratterizzato da una struttura semplice, un funzionamento facile, un controllo facile e una produzione continua.
Il forno tubolare è anche ampiamente applicato nei sistemi CVD (deposizione di vapore chimico) e CVD potenziati al plasma.
Che Cos'è La Macchina Mpcvd?
Quale Gas Viene Utilizzato In Un Forno A Vuoto?
Qual è Il Vantaggio Del Sistema CVD?
- È possibile produrre un'ampia gamma di film, film metallici, film non metallici e film in lega multicomponente, a seconda delle esigenze. Allo stesso tempo, può preparare cristalli di alta qualità difficilmente ottenibili con altri metodi, come GaN, BP, ecc.
- La velocità di formazione del film è rapida, di solito diversi micron al minuto o addirittura centinaia di micron al minuto. È possibile depositare simultaneamente grandi quantità di rivestimenti con una composizione uniforme, cosa incomparabile con altri metodi di preparazione del film, come l'epitassia in fase liquida (LPE) e l'epitassia a fascio molecolare (MBE).
- Le condizioni di lavoro sono realizzate in condizioni di pressione normale o di basso vuoto, quindi il rivestimento ha una buona diffrazione e i pezzi con forme complesse possono essere rivestiti uniformemente, il che è molto superiore alla PVD.
- La deposizione chimica da vapore può ottenere una superficie di deposizione liscia. Rispetto all'LPE, infatti, la deposizione da vapore chimico (CVD) avviene in condizioni di elevata saturazione, con un alto tasso di nucleazione, un'alta densità di nucleazione e una distribuzione uniforme su tutto il piano, con il risultato di una superficie macroscopica liscia. Allo stesso tempo, nella deposizione da vapore chimico, il percorso libero medio delle molecole (atomi) è molto più grande di quello dell'LPE, quindi la distribuzione spaziale delle molecole è più uniforme, il che favorisce la formazione di una superficie di deposizione liscia.
- Basso danno da radiazioni, che è una condizione necessaria per la produzione di semiconduttori in ossido di metallo (MOS) e altri dispositivi
Quanti Tipi Diversi Di Forno A Tubi?
Il forno a tubi può lavorare con diverse funzioni meccaniche senza problemi, quindi ci sono molti tipi diversi di forni a tubi per diversi scopi di sperimentazione, i tipici forni a tubi sono i seguenti:
- Forno a tubo orizzontale
- Forno a tubo verticale
- Forno a tubo diviso
- Forno a tubo rotante
- Forno a tubo inclinabile
- Forno a tubo scorrevole
- Forno a tubo a riscaldamento e raffreddamento rapido
- Forno a tubo ad alimentazione e scarico continui
Quali Sono I Vantaggi Dell'Mpcvd?
Qual è L'elemento Riscaldante Utilizzato In Un Forno A Vuoto?
Che Cosa Significa PECVD?
PECVD è una tecnologia che utilizza il plasma per attivare il gas di reazione, promuovere la reazione chimica sulla superficie del substrato o nello spazio vicino alla superficie e generare un film solido. Il principio di base della tecnologia di deposizione di vapore chimico al plasma è che, sotto l'azione di un campo elettrico RF o DC, il gas di partenza viene ionizzato per formare un plasma, il plasma a bassa temperatura viene utilizzato come fonte di energia, viene introdotta una quantità appropriata di gas di reazione e la scarica di plasma viene utilizzata per attivare il gas di reazione e realizzare la deposizione di vapore chimico.
Secondo il metodo di generazione del plasma, può essere suddiviso in plasma RF, plasma DC e microonde CVD, ecc.
Quali Sono I Vantaggi Dell'utilizzo Di Un Forno A Tubi?
I Diamanti CVD Sono Veri O Falsi?
Qual è La Differenza Tra CVD E PECVD?
La differenza tra PECVD e la tecnologia CVD tradizionale è che il plasma contiene un gran numero di elettroni ad alta energia, in grado di fornire l'energia di attivazione necessaria nel processo di deposizione di vapore chimico, cambiando così la modalità di approvvigionamento energetico del sistema di reazione. Poiché la temperatura degli elettroni nel plasma raggiunge i 10000K, la collisione tra gli elettroni e le molecole di gas può promuovere la rottura dei legami chimici e la ricombinazione delle molecole di gas di reazione per generare più gruppi chimici attivi, mentre l'intero sistema di reazione mantiene una temperatura più bassa.
Quindi, rispetto al processo CVD, la PECVD può realizzare lo stesso processo di deposizione chimica da vapore con una temperatura più bassa.
Quali Sono Le Precauzioni Di Sicurezza Da Adottare Quando Si Utilizza Un Forno A Tubi?
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