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Forno tubolare multizona

Forno a tubo

Forno tubolare multizona

Numero articolo : KT-MTF

Il prezzo varia in base a specifiche e personalizzazioni


Temperatura massima
1700 ℃
Temperatura di lavoro costante
1650 ℃
Diametro del tubo del forno
30 / 40 / 60 / 80 / 100 / 150 / 230 mm
Lunghezza della zona di riscaldamento
300 / 450 / 600 / 800 mm
Quantità di zone di riscaldamento
1-10 zone
ISO & CE icon

Spedizione:

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Introduzione

Il forno tubolare a più zone è un'apparecchiatura da laboratorio versatile, progettata per applicazioni ad alta temperatura. È dotato di più zone di riscaldamento controllate in modo indipendente, che consentono di ottenere gradienti di temperatura precisi o un riscaldamento uniforme. Il forno è tipicamente dotato di tubi di quarzo o allumina di elevata purezza per il contenimento e il riscaldamento dei campioni.

Questo sistema avanzato offre un'ampia gamma di temperature (300-1600℃), un controllo preciso della temperatura e un efficiente isolamento termico. Le sue applicazioni comprendono processi di sinterizzazione, rivestimento, decomposizione termica e deposizione di vapore chimico (CVD) in ambienti sotto vuoto o con gas inerte. Le zone di riscaldamento multiple consentono profili di temperatura personalizzati, migliorando l'efficienza e l'accuratezza dei test e delle analisi termiche.

Applicazioni

I forni tubolari multizona sono ampiamente utilizzati in varie applicazioni, tra cui:

  • Sinterizzazione
  • Rivestimento
  • Decomposizione termica
  • Processo CVD
  • Test di tempra
  • Misure di temperatura
  • Deposizione chimica da vapore
  • Trattamento termico ad alta temperatura
  • Materiali metallici
  • Materiali ceramici
  • Nano-materiali
  • Materiali per semiconduttori
  • Metallurgia delle polveri
  • Nuovi materiali
  • Petrolchimico
  • Aerospaziale
Parte anteriore del forno tubolare multizona
Parte anteriore del forno tubolare multizona
Lato del forno tubolare multizona
Lato del forno tubolare multizona

Caratteristiche

Il forno tubolare multizona offre una serie di funzioni avanzate progettate per migliorare l'efficienza e l'accuratezza dei processi di laboratorio:

  • Controllo preciso della temperatura: Il controllo indipendente di ciascuna zona di riscaldamento assicura una distribuzione precisa della temperatura e riduce al minimo i gradienti di temperatura.
  • Capacità di alta temperatura: Con una temperatura massima di 1600℃, questo forno è adatto a un'ampia gamma di applicazioni ad alta temperatura.
  • Zone di riscaldamento versatili: Disponibile in 2, 3 o 5 zone di riscaldamento, il forno consente profili di temperatura personalizzati e requisiti di riscaldamento su misura.
  • Isolamento termico efficiente: Il design a doppio guscio del forno con circolazione forzata dell'aria riduce al minimo la perdita di calore e mantiene una bassa temperatura superficiale.
  • Funzionamento semplice: Il controllo della temperatura programmabile PID e il touch screen di facile utilizzo semplificano il funzionamento e il monitoraggio.
  • Controllo remoto: Le funzionalità di controllo remoto e di controllo centralizzato consentono un funzionamento comodo ed efficiente.
  • Compatibilità con il vuoto: La flangia per vuoto in acciaio inox con porte multiple garantisce un'eccellente tenuta e un'elevata pressione di vuoto per le applicazioni basate sul vuoto.
  • Registrazione e analisi dei dati: Il controller touch screen TFT consente una facile impostazione dei programmi, l'analisi dei dati storici e la memorizzazione delle ricette.

Principio

Il forno tubolare multizona funziona riscaldando un campione in un ambiente controllato. Il forno è dotato di più zone di riscaldamento, ciascuna delle quali può essere controllata in modo indipendente per creare un gradiente di temperatura specifico. Ciò consente un controllo preciso del processo di riscaldamento e può essere utilizzato per una varietà di applicazioni, come la ricottura, la sinterizzazione e la CVD. Il forno è inoltre dotato di una pompa a vuoto per creare un ambiente sottovuoto, che può essere utilizzato per rimuovere i gas dal campione o per creare un'atmosfera controllata.

Vantaggi

  • Controllo preciso della temperatura: Ogni zona di riscaldamento può essere controllata in modo indipendente, consentendo gradienti di temperatura precisi e un riscaldamento uniforme in tutto il tubo.
  • Capacità di temperatura elevata: Con una temperatura massima di 1600℃, il forno tubolare multizona è in grado di gestire applicazioni complesse che richiedono temperature elevate.
  • Compatibilità con il vuoto e i gas inerti: Il forno può essere utilizzato sotto vuoto o in condizioni di flusso di gas inerte, rendendolo adatto a vari processi quali tempra, sinterizzazione e CVD.
  • Materiali di elevata purezza: Il tubo del forno è realizzato in quarzo o allumina di elevata purezza, per garantire una contaminazione minima e misure di temperatura accurate.
  • Isolamento termico efficiente: Il design a doppio guscio del forno e il flusso d'aria forzato tra il guscio interno e quello esterno riducono al minimo la perdita di calore e mantengono bassa la temperatura superficiale.
  • Interfaccia facile da usare: Il controller touch screen TFT con funzionalità intuitive di programmazione e analisi dei dati semplifica il funzionamento e il monitoraggio.
  • Versatilità: Adatto a diverse applicazioni in ambienti di ricerca, sviluppo e produzione, tra cui la lavorazione dei materiali, le misure di temperatura e i test.

Vantaggi per la sicurezza

  • Il forno tubolare Kindle Tech possiede una protezione da sovracorrente e una funzione di allarme da sovratemperatura; il forno spegnerà automaticamente l'alimentazione una volta rilevata la sovracorrente.
  • Il forno è dotato di una funzione di rilevamento della coppia termica, che interrompe il riscaldamento e attiva l'allarme una volta rilevata la rottura della coppia termica o un guasto.
  • TFM Pro supporta la funzione di riavvio dell'interruzione di corrente, la fornace riprenderà il programma di riscaldamento della fornace quando il potere è in arrivo dopo il fallimento

Specifiche tecniche

Modello del forno KT-MTF KT-MTF Pro
Regolatore di temperatura Controllore PID digitale Controllore PID touch screen
Multi programma preimpostato no
Riavvio in caso di interruzione di corrente no
Temperatura massima 1700℃
Temperatura di lavoro costante 1650℃
Materiale del tubo del forno Quarzo di alta qualità/allumina Al2O3
Diametro del tubo del forno 30 / 40 / 60 / 80 / 100 / 150 / 230 mm
Lunghezza della zona di riscaldamento 300 / 450 / 600 / 800 mm
Quantità di zone di riscaldamento 1-10 zone
Soluzione di tenuta del vuoto Flangia SS 304 con O ring
Pressione nominale del vuoto 0,001Pa/10E5 torr
Pressione positiva nominale 0,02Mpa/150 torr
Materiale della camera Fibra di allumina giapponese Al2O3
Elemento di riscaldamento Bobina di filo Cr2Al2Mo2
Coppia termica Tipo K /S/B
Precisione di controllo della temperatura ±1℃
Uniformità della temperatura ±5℃
Alimentazione elettrica AC110-220V, 50/60HZ
L'altra dimensione del tubo di allumina Al2O3 e la lunghezza della zona di riscaldamento possono essere personalizzate

Pacchetto standard

No. Descrizione Quantità
1 Forno 1
2 Tubo di allumina 1
3 Flangia per il vuoto 2
4 Blocco termico del tubo 2
5 Gancio del blocco termico a tubo 1
6 Guanto resistente al calore 1
7 Manuale operativo 1

Configurazione opzionale

  • Rilevamento e monitoraggio dei gas in tubo, come H2, O2 e così via
  • Monitoraggio e registrazione indipendente della temperatura del forno
  • Porta di comunicazione RS 485 per il controllo remoto del PC e l'esportazione dei dati
  • Controllo della portata di alimentazione dei gas inseriti, come flussimetro di massa e flussimetro a galleggiante
  • Controllore di temperatura touch screen con funzioni versatili e di facile utilizzo per l'operatore
  • Configurazione della stazione di pompaggio ad alto vuoto, come pompa a vuoto a palette, pompa molecolare, pompa a diffusione

Avvertenze

La sicurezza dell'operatore è la questione più importante! Si prega di utilizzare l'apparecchiatura con cautele. Lavorare con gas infiammabili, esplosivi o tossici è molto complicato pericoloso, gli operatori devono prendere tutte le precauzioni necessarie prima di avviare il attrezzatura. Lavorare con pressione positiva all'interno dei reattori o delle camere lo è pericoloso, l'operatore deve rispettare rigorosamente le procedure di sicurezza. Extra è necessario prestare attenzione anche quando si opera con materiali reattivi all'aria, soprattutto sotto vuoto. Una perdita può far entrare aria nell'apparecchio e causare a si verifichi una reazione violenta.

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FAQ

Che Cos'è Un Forno A Tubi?

Il forno per tubi da laboratorio è un classico forno per tubi ad alta temperatura a riscaldamento esterno, chiamato anche forno per riscaldamento a parete calda.

In base alle diverse temperature di lavoro, il materiale del tubo del forno può essere costituito da tubi di quarzo trasparente, tubi di ceramica di allumina ad alta purezza e tubi di leghe metalliche ad alta resistenza.

Per soddisfare diversi scopi di ricerca termica, il forno a tubi può essere progettato con più zone di riscaldamento, in modo da avere un controllo flessibile del gradiente di temperatura nella camera di lavoro del tubo; il tubo del forno può lavorare in un ambiente di lavoro ad atmosfera controllata o in un ambiente di lavoro ad alto vuoto.

Che Cos'è Il Forno CVD?

La deposizione chimica da vapore (CVD) è una tecnologia che utilizza varie fonti di energia, come il riscaldamento, l'eccitazione del plasma o la radiazione luminosa, per far reagire chimicamente sostanze chimiche gassose o vaporizzate in fase gassosa o nell'interfaccia gas-solido e formare depositi solidi nel reattore per mezzo di una reazione chimica.

Il forno CVD è un sistema combinato di forni con unità di forni a tubo ad alta temperatura, unità di controllo dei gas e unità di vuoto, ampiamente utilizzato per la sperimentazione e la produzione di preparazione di materiali compositi, processi microelettronici, semiconduttori optoelettronici, utilizzo dell'energia solare, comunicazione in fibra ottica, tecnologia dei superconduttori, campo dei rivestimenti protettivi.

Come Funziona Un Forno A Tubi?

Gli elementi riscaldanti del forno a tubo sono posizionati intorno alla cavità cilindrica; il forno può riscaldare i campioni nella cavità cilindrica solo attraverso la radiazione termica indiretta, poiché il tubo del forno può evitare che il materiale del campione entri in contatto con gli elementi riscaldanti del forno e i materiali isolanti; il forno a tubo crea quindi una camera di calore isolata e pulita e riduce i rischi di contaminazione del materiale del campione da parte del forno.

Come Funziona Il Forno CVD?

Il sistema di forni CVD è costituito da un'unità di forni tubolari ad alta temperatura, da un'unità di controllo preciso della fonte di gas di reazione, da una stazione di pompa a vuoto e da parti di assemblaggio corrispondenti.

La pompa a vuoto serve a rimuovere l'aria dal tubo di reazione e ad assicurarsi che non vi siano gas indesiderati all'interno del tubo di reazione, dopodiché il forno tubolare riscalderà il tubo di reazione fino a raggiungere la temperatura desiderata, quindi l'unità di controllo preciso della fonte di gas di reazione potrà introdurre gas diversi con un rapporto prestabilito nel tubo del forno per la reazione chimica, e la deposizione di vapore chimico si formerà nel forno CVD.

Quali Sono Le Applicazioni Del Forno A Tubi?

Il forno tubolare è utilizzato principalmente in metallurgia, vetro, trattamento termico, materiali anodici e catodici al litio, nuove energie, abrasivi e altre industrie, ed è un'apparecchiatura professionale per la misurazione dei materiali in determinate condizioni di temperatura.

Il forno tubolare è caratterizzato da una struttura semplice, un funzionamento facile, un controllo facile e una produzione continua.

Il forno tubolare è anche ampiamente applicato nei sistemi CVD (deposizione di vapore chimico) e CVD potenziati al plasma.

Quale Gas Viene Utilizzato Nel Processo CVD?

Ci sono diverse fonti di gas che possono essere utilizzate nel processo CVD, le reazioni chimiche comuni della CVD includono pirolisi, fotolisi, riduzione, ossidazione, ossidoriduzione, quindi i gas coinvolti in queste reazioni chimiche possono essere utilizzati nel processo CVD.

Prendiamo ad esempio la crescita di grafene CVD, i gas utilizzati nel processo CVD saranno CH4, H2, O2 e N2.

Quanti Tipi Diversi Di Forno A Tubi?

Il forno a tubi può lavorare con diverse funzioni meccaniche senza problemi, quindi ci sono molti tipi diversi di forni a tubi per diversi scopi di sperimentazione, i tipici forni a tubi sono i seguenti:

  • Forno a tubo orizzontale
  • Forno a tubo verticale
  • Forno a tubo diviso
  • Forno a tubo rotante
  • Forno a tubo inclinabile
  • Forno a tubo scorrevole
  • Forno a tubo a riscaldamento e raffreddamento rapido
  • Forno a tubo ad alimentazione e scarico continui

Qual è Il Vantaggio Del Sistema CVD?

  • È possibile produrre un'ampia gamma di film, film metallici, film non metallici e film in lega multicomponente, a seconda delle esigenze. Allo stesso tempo, può preparare cristalli di alta qualità difficilmente ottenibili con altri metodi, come GaN, BP, ecc.
  • La velocità di formazione del film è rapida, di solito diversi micron al minuto o addirittura centinaia di micron al minuto. È possibile depositare simultaneamente grandi quantità di rivestimenti con una composizione uniforme, cosa incomparabile con altri metodi di preparazione del film, come l'epitassia in fase liquida (LPE) e l'epitassia a fascio molecolare (MBE).
  • Le condizioni di lavoro sono realizzate in condizioni di pressione normale o di basso vuoto, quindi il rivestimento ha una buona diffrazione e i pezzi con forme complesse possono essere rivestiti uniformemente, il che è molto superiore alla PVD.
  • La deposizione chimica da vapore può ottenere una superficie di deposizione liscia. Rispetto all'LPE, infatti, la deposizione da vapore chimico (CVD) avviene in condizioni di elevata saturazione, con un alto tasso di nucleazione, un'alta densità di nucleazione e una distribuzione uniforme su tutto il piano, con il risultato di una superficie macroscopica liscia. Allo stesso tempo, nella deposizione da vapore chimico, il percorso libero medio delle molecole (atomi) è molto più grande di quello dell'LPE, quindi la distribuzione spaziale delle molecole è più uniforme, il che favorisce la formazione di una superficie di deposizione liscia.
  • Basso danno da radiazioni, che è una condizione necessaria per la produzione di semiconduttori in ossido di metallo (MOS) e altri dispositivi

Quali Sono I Vantaggi Dell'utilizzo Di Un Forno A Tubi?

I forni a tubi offrono diversi vantaggi per le applicazioni ad alta temperatura. In primo luogo, forniscono un controllo preciso e uniforme della temperatura, consentendo processi di riscaldamento accurati e ripetibili. Questo è fondamentale per la ricerca sui materiali e per le applicazioni di trattamento termico, dove la costanza della temperatura è essenziale. In secondo luogo, i forni a tubi hanno un design compatto, che li rende adatti all'uso in spazi limitati di laboratorio o industriali. Sono anche versatili e possono ospitare un'ampia gamma di dimensioni e forme di campioni. Inoltre, i forni a tubi sono efficienti dal punto di vista energetico, poiché in genere hanno un buon isolamento e possono raggiungere rapidamente temperature elevate. Alcuni modelli offrono anche profili di temperatura programmabili, consentendo cicli di riscaldamento e raffreddamento automatizzati. In generale, i forni a tubi consentono processi ad alta temperatura efficienti e controllati in vari settori scientifici e industriali.

Che Cosa Significa PECVD?

PECVD è una tecnologia che utilizza il plasma per attivare il gas di reazione, promuovere la reazione chimica sulla superficie del substrato o nello spazio vicino alla superficie e generare un film solido. Il principio di base della tecnologia di deposizione di vapore chimico al plasma è che, sotto l'azione di un campo elettrico RF o DC, il gas di partenza viene ionizzato per formare un plasma, il plasma a bassa temperatura viene utilizzato come fonte di energia, viene introdotta una quantità appropriata di gas di reazione e la scarica di plasma viene utilizzata per attivare il gas di reazione e realizzare la deposizione di vapore chimico.

Secondo il metodo di generazione del plasma, può essere suddiviso in plasma RF, plasma DC e microonde CVD, ecc.

Quali Sono Le Precauzioni Di Sicurezza Da Adottare Quando Si Utilizza Un Forno A Tubi?

Quando si utilizza un forno a tubi, è importante seguire le precauzioni di sicurezza per evitare incidenti e garantire la sicurezza dell'operatore e del campione. In primo luogo, è necessario fornire una formazione adeguata al personale che utilizza il forno per assicurarsi che ne comprenda il funzionamento, le caratteristiche di sicurezza e le procedure di emergenza. In secondo luogo, è necessario indossare adeguati dispositivi di protezione individuale (DPI), come guanti resistenti al calore, occhiali e camici da laboratorio, per proteggersi da ustioni e potenziali rischi. In terzo luogo, è fondamentale caricare correttamente il campione o il materiale all'interno del forno, assicurandosi che sia posizionato in modo sicuro e che non ostruisca il flusso d'aria. È necessario prevedere un'adeguata ventilazione per eliminare eventuali gas o fumi generati durante il riscaldamento. È inoltre importante ispezionare e mantenere regolarmente il forno, controllando anche gli elementi riscaldanti e i collegamenti elettrici, per garantire un funzionamento sicuro e affidabile.

Qual è La Differenza Tra CVD E PECVD?

La differenza tra PECVD e la tecnologia CVD tradizionale è che il plasma contiene un gran numero di elettroni ad alta energia, in grado di fornire l'energia di attivazione necessaria nel processo di deposizione di vapore chimico, cambiando così la modalità di approvvigionamento energetico del sistema di reazione. Poiché la temperatura degli elettroni nel plasma raggiunge i 10000K, la collisione tra gli elettroni e le molecole di gas può promuovere la rottura dei legami chimici e la ricombinazione delle molecole di gas di reazione per generare più gruppi chimici attivi, mentre l'intero sistema di reazione mantiene una temperatura più bassa.

Quindi, rispetto al processo CVD, la PECVD può realizzare lo stesso processo di deposizione chimica da vapore con una temperatura più bassa.

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Ana Silva

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