Forno di grafitizzazione
Forno di grafitizzazione ad altissima temperatura
Numero articolo : GF-09
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Il forno di grafitizzazione ad altissima temperatura utilizza un riscaldamento a induzione a media frequenza in un ambiente sotto vuoto o con gas inerte. La bobina di induzione genera un campo magnetico alternato, inducendo correnti parassite nel crogiolo di grafite, che si riscalda e irradia calore al pezzo, portandolo alla temperatura desiderata. Questo forno è utilizzato principalmente per la grafitizzazione e la sinterizzazione di materiali di carbonio, fibre di carbonio e altri materiali compositi. Comprende un corpo del forno, un coperchio, un sensore di riscaldamento, uno strato isolante, un dispositivo di estrazione degli elettrodi, un sistema di distribuzione dell'acqua, un sistema di vuoto, un sistema di controllo della temperatura e altro ancora. Il sistema elettrico comprende un alimentatore a frequenza intermedia a transistor IGBT da 60 KVA e un cavo raffreddato ad acqua, dotato di vari strumenti di indicazione e funzioni di allarme. La parte di controllo impiega un touch screen da 15 pollici e un controllore programmabile PLC.
Dettagli e parti
Applicazioni
Il forno di grafitizzazione ad altissima temperatura trova applicazione in un'ampia gamma di settori, tra cui:
- Cottura della ceramica
- Crescita del carburo
- Carbonizzazione
- Grafitizzazione
- Sinterizzazione
- Ricottura
- Brasatura
- Degassificazione
Caratteristiche
Il forno di grafitizzazione ad altissima temperatura offre una serie di caratteristiche avanzate che garantiscono vantaggi significativi agli utenti:
- Capacità di lavorare ad alta temperatura: Il forno può raggiungere temperature fino a 2200°C, rendendolo adatto a un'ampia gamma di applicazioni ad alta temperatura.
- Alta efficienza: Il forno a base di grafite è estremamente efficiente, con conseguente riduzione del consumo energetico e tempi di riscaldamento più rapidi.
- Riscaldamento uniforme: Il design del forno assicura un riscaldamento uniforme in tutta la camera, garantendo risultati costanti.
- Ambiente sotto vuoto o con gas inerte: Il forno può funzionare in un ambiente sotto vuoto o con gas inerte, consentendo un controllo preciso dell'atmosfera che circonda il pezzo.
- Sistema di controllo intelligente: Il forno è dotato di un avanzato touch screen e di un controller programmabile per un controllo e un monitoraggio precisi della temperatura.
- Caratteristiche di sicurezza: Il forno è dotato di allarmi acustici e visivi per la sovratensione, la sovracorrente e l'interruzione dell'acqua, per garantire un funzionamento sicuro.
Principio
Il forno di grafitizzazione ad altissima temperatura funziona in base al principio del riscaldamento a induzione a media frequenza. La bobina di induzione genera un campo magnetico alternato, inducendo correnti parassite nel crogiolo di grafite. Questo genera alte temperature che si irradiano al pezzo in lavorazione, portandolo alla temperatura desiderata. Questo forno viene utilizzato per la grafitizzazione e la sinterizzazione di materiali di carbonio, fibre di carbonio e materiali compositi.
Vantaggi
- Alta temperatura: Il forno di grafitizzazione ad altissima temperatura può raggiungere una temperatura di 2500°C, adatta a una varietà di applicazioni di trattamento ad alta temperatura e di grafitizzazione.
- Alta efficienza: Il forno di grafitizzazione ad altissima temperatura utilizza il principio del riscaldamento a induzione a media frequenza, che presenta i vantaggi dell'alta efficienza e del riscaldamento uniforme.
- Riscaldamento uniforme: Il forno di grafitizzazione ad altissima temperatura utilizza un crogiolo di grafite per generare un'alta temperatura e irradiare il pezzo da lavorare, ottenendo così un riscaldamento uniforme del pezzo.
- Ampia applicazione: Il forno di grafitizzazione ad altissima temperatura è adatto alla grafitizzazione e alla sinterizzazione di materiali in carbonio, materiali in fibra di carbonio e altri materiali compositi.
- Facile da usare: Il forno di grafitizzazione ad altissima temperatura è controllato da un touch screen da 15 pollici e da un controller PLC programmabile, facile da usare.
- Sicuro e affidabile: Il forno di grafitizzazione ad altissima temperatura è dotato di funzioni di allarme acustico e visivo, quali sovratensione, sovracorrente e interruzione dell'acqua, che lo rendono sicuro e affidabile.
Specifiche tecniche
| Capacità di alimentazione | 60KVA |
| Alimentazione elettrica | 4000～8000Hz (inseguimento automatico) |
| Temperatura di esercizio | 3000℃ |
| Precisione di controllo della temperatura | ±2℃ |
| Metodo di misurazione della temperatura | 1100℃～3000℃ |
| Dimensioni effettive dell'area di lavoro | Φ200×200 mm (diametro×altezza) |
| Grado di vuoto finale a freddo | 133Pa |
| Aumento di pressione | 3,0 Pa/h |
| Atmosfera protettiva | Argon Azoto |
| Pressione di gonfiaggio | ≤ 0,03MPa |
| Metodo di ingresso e uscita del materiale | Caricamento e scarico dall'alto |
| Condizioni di riscaldamento | Sinterizzazione in atmosfera (gas inerte) |
FAQ
Che Cos'è Un Forno Di Grafitizzazione?
What Is A Graphite Vacuum Furnace Used For?
Che Cos'è Il Forno CVD?
La deposizione chimica da vapore (CVD) è una tecnologia che utilizza varie fonti di energia, come il riscaldamento, l'eccitazione del plasma o la radiazione luminosa, per far reagire chimicamente sostanze chimiche gassose o vaporizzate in fase gassosa o nell'interfaccia gas-solido e formare depositi solidi nel reattore per mezzo di una reazione chimica.
Il forno CVD è un sistema combinato di forni con unità di forni a tubo ad alta temperatura, unità di controllo dei gas e unità di vuoto, ampiamente utilizzato per la sperimentazione e la produzione di preparazione di materiali compositi, processi microelettronici, semiconduttori optoelettronici, utilizzo dell'energia solare, comunicazione in fibra ottica, tecnologia dei superconduttori, campo dei rivestimenti protettivi.
Qual è Il Principio Di Funzionamento Di Un Forno Di Grafitizzazione Ad Altissima Temperatura?
Quali Sono I Componenti Principali Di Un Forno Di Grafitizzazione Ad Altissima Temperatura?
Come Mantenere Un Forno Di Grafitizzazione Ad Altissima Temperatura?
Quali Sono Le Principali Applicazioni Dei Forni Di Grafitizzazione?
What Are The Main Types Of Graphite Vacuum Furnaces?
Come Funziona Il Forno CVD?
Il sistema di forni CVD è costituito da un'unità di forni tubolari ad alta temperatura, da un'unità di controllo preciso della fonte di gas di reazione, da una stazione di pompa a vuoto e da parti di assemblaggio corrispondenti.
La pompa a vuoto serve a rimuovere l'aria dal tubo di reazione e ad assicurarsi che non vi siano gas indesiderati all'interno del tubo di reazione, dopodiché il forno tubolare riscalderà il tubo di reazione fino a raggiungere la temperatura desiderata, quindi l'unità di controllo preciso della fonte di gas di reazione potrà introdurre gas diversi con un rapporto prestabilito nel tubo del forno per la reazione chimica, e la deposizione di vapore chimico si formerà nel forno CVD.
Quali Sono I Diversi Tipi Di Forni Di Grafitizzazione?
How Does A Graphite Vacuum Furnace Work?
Quale Gas Viene Utilizzato Nel Processo CVD?
Ci sono diverse fonti di gas che possono essere utilizzate nel processo CVD, le reazioni chimiche comuni della CVD includono pirolisi, fotolisi, riduzione, ossidazione, ossidoriduzione, quindi i gas coinvolti in queste reazioni chimiche possono essere utilizzati nel processo CVD.
Prendiamo ad esempio la crescita di grafene CVD, i gas utilizzati nel processo CVD saranno CH4, H2, O2 e N2.
Come Funziona Un Forno Di Grafitizzazione?
What Are The Advantages Of Using A Graphite Vacuum Furnace?
Qual è Il Vantaggio Del Sistema CVD?
- È possibile produrre un'ampia gamma di film, film metallici, film non metallici e film in lega multicomponente, a seconda delle esigenze. Allo stesso tempo, può preparare cristalli di alta qualità difficilmente ottenibili con altri metodi, come GaN, BP, ecc.
- La velocità di formazione del film è rapida, di solito diversi micron al minuto o addirittura centinaia di micron al minuto. È possibile depositare simultaneamente grandi quantità di rivestimenti con una composizione uniforme, cosa incomparabile con altri metodi di preparazione del film, come l'epitassia in fase liquida (LPE) e l'epitassia a fascio molecolare (MBE).
- Le condizioni di lavoro sono realizzate in condizioni di pressione normale o di basso vuoto, quindi il rivestimento ha una buona diffrazione e i pezzi con forme complesse possono essere rivestiti uniformemente, il che è molto superiore alla PVD.
- La deposizione chimica da vapore può ottenere una superficie di deposizione liscia. Rispetto all'LPE, infatti, la deposizione da vapore chimico (CVD) avviene in condizioni di elevata saturazione, con un alto tasso di nucleazione, un'alta densità di nucleazione e una distribuzione uniforme su tutto il piano, con il risultato di una superficie macroscopica liscia. Allo stesso tempo, nella deposizione da vapore chimico, il percorso libero medio delle molecole (atomi) è molto più grande di quello dell'LPE, quindi la distribuzione spaziale delle molecole è più uniforme, il che favorisce la formazione di una superficie di deposizione liscia.
- Basso danno da radiazioni, che è una condizione necessaria per la produzione di semiconduttori in ossido di metallo (MOS) e altri dispositivi
Quali Sono I Vantaggi Dell'utilizzo Di Un Forno Di Grafitizzazione?
What Temperature Range Can A Graphite Vacuum Furnace Achieve?
Che Cosa Significa PECVD?
PECVD è una tecnologia che utilizza il plasma per attivare il gas di reazione, promuovere la reazione chimica sulla superficie del substrato o nello spazio vicino alla superficie e generare un film solido. Il principio di base della tecnologia di deposizione di vapore chimico al plasma è che, sotto l'azione di un campo elettrico RF o DC, il gas di partenza viene ionizzato per formare un plasma, il plasma a bassa temperatura viene utilizzato come fonte di energia, viene introdotta una quantità appropriata di gas di reazione e la scarica di plasma viene utilizzata per attivare il gas di reazione e realizzare la deposizione di vapore chimico.
Secondo il metodo di generazione del plasma, può essere suddiviso in plasma RF, plasma DC e microonde CVD, ecc.
What Industries Benefit From Graphite Vacuum Furnaces?
Qual è La Differenza Tra CVD E PECVD?
La differenza tra PECVD e la tecnologia CVD tradizionale è che il plasma contiene un gran numero di elettroni ad alta energia, in grado di fornire l'energia di attivazione necessaria nel processo di deposizione di vapore chimico, cambiando così la modalità di approvvigionamento energetico del sistema di reazione. Poiché la temperatura degli elettroni nel plasma raggiunge i 10000K, la collisione tra gli elettroni e le molecole di gas può promuovere la rottura dei legami chimici e la ricombinazione delle molecole di gas di reazione per generare più gruppi chimici attivi, mentre l'intero sistema di reazione mantiene una temperatura più bassa.
Quindi, rispetto al processo CVD, la PECVD può realizzare lo stesso processo di deposizione chimica da vapore con una temperatura più bassa.
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The furnace is very efficient and has uniform heating, which greatly improves our work efficiency.
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