Forno di grafitizzazione
Fornace di grafitazione sottovuoto a temperatura ultra-elevata in grafite
Numero articolo : GF-09
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Introduzione
La fornace di grafitazione a temperatura ultra-elevata utilizza il riscaldamento a induzione a media frequenza in un ambiente sottovuoto o di gas inerte. La bobina di induzione genera un campo magnetico alternato, inducendo correnti parassite nel crogiolo di grafite, che si riscalda ed emette calore al pezzo, portandolo alla temperatura desiderata. Questa fornace è utilizzata principalmente per la grafitazione e la sinterizzazione di materiali a base di carbonio, materiali in fibra di carbonio e altri materiali compositi. Comprende un corpo fornace, un coperchio, un sensore di riscaldamento, uno strato isolante, un dispositivo di estrazione degli elettrodi, un sistema di distribuzione della circolazione dell'acqua, un sistema sottovuoto, un sistema di controllo della temperatura e altro ancora. Il sistema elettrico include un alimentatore a media frequenza a transistor IGBT da 60 KVA e un cavo raffreddato ad acqua, dotato di vari strumenti di indicazione e funzioni di allarme. La parte di controllo impiega un touch screen da 15 pollici e un controller programmabile PLC.
Dettagli e parti
Applicazioni
La fornace di grafitazione a temperatura ultra-elevata trova applicazione in una vasta gamma di settori, tra cui:
- Cottura ceramica
- Crescita di carburi
- Carbonizzazione
- Grafitazione
- Sinterizzazione
- Ricottura
- Brasatura
- Degasaggio
Caratteristiche
La fornace di grafitazione a temperatura ultra-elevata offre una serie di caratteristiche avanzate che forniscono benefici significativi agli utenti:
- Capacità di alta temperatura: La fornace può raggiungere temperature fino a 2200°C, rendendola adatta per una vasta gamma di applicazioni ad alta temperatura.
- Alta efficienza: La fornace a base di grafite è estremamente efficiente, con conseguente minor consumo energetico e tempi di riscaldamento più rapidi.
- Riscaldamento uniforme: Il design della fornace garantisce un riscaldamento uniforme in tutta la camera, fornendo risultati coerenti.
- Ambiente sottovuoto o di gas inerte: La fornace può essere utilizzata in un ambiente sottovuoto o di gas inerte, consentendo un controllo preciso dell'atmosfera circostante il pezzo.
- Sistema di controllo intelligente: La fornace è dotata di un touch screen avanzato e di un controller programmabile per un controllo e un monitoraggio precisi della temperatura.
- Funzioni di sicurezza: La fornace include allarmi acustici e visivi per sovratensione, sovracorrente e interruzione dell'acqua, garantendo un funzionamento sicuro.
Principio
La fornace di grafitazione a temperatura ultra-elevata opera secondo il principio del riscaldamento a induzione a media frequenza. La bobina di induzione genera un campo magnetico alternato, inducendo correnti parassite nel crogiolo di grafite. Questo genera alte temperature che si irradiano al pezzo, portandolo alla temperatura desiderata. Questa fornace è impiegata per la grafitazione e la sinterizzazione di materiali a base di carbonio, materiali in fibra di carbonio e materiali compositi.
Vantaggi
- Alta temperatura: La fornace di grafitazione a temperatura ultra-elevata può raggiungere una temperatura di 2500°C, adatta per una varietà di applicazioni di trattamento ad alta temperatura e di grafitazione.
- Alta efficienza: La fornace di grafitazione a temperatura ultra-elevata utilizza il principio del riscaldamento a induzione a media frequenza, che presenta i vantaggi di alta efficienza e riscaldamento uniforme.
- Riscaldamento uniforme: La fornace di grafitazione a temperatura ultra-elevata utilizza un crogiolo di grafite per generare alte temperature e irradiare al pezzo, ottenendo un riscaldamento uniforme del pezzo.
- Ampia applicazione: La fornace di grafitazione a temperatura ultra-elevata è adatta per la grafitazione e la sinterizzazione di materiali a base di carbonio, materiali in fibra di carbonio e altri materiali compositi.
- Facile da usare: La fornace di grafitazione a temperatura ultra-elevata è controllata da un touch screen da 15 pollici e da un controller programmabile PLC, facile da usare.
- Sicura e affidabile: La fornace di grafitazione a temperatura ultra-elevata dispone di funzioni di allarme acustico e visivo come sovratensione, sovracorrente e interruzione dell'acqua, che la rendono sicura e affidabile.
Specifiche tecniche
| Capacità dell'alimentatore | 60KVA |
| Alimentatore | 4000～8000Hz (inseguimento automatico) |
| Temperatura | 3000℃ |
| Precisione del controllo della temperatura | ±2℃ |
| Metodo di misurazione della temperatura | 1100℃～3000℃ |
| Dimensioni dell'area di lavoro effettiva | Φ200×200 mm (diametro×altezza) |
| Grado di vuoto limite a freddo | 133Pa |
| Aumento di pressione | 3,0 Pa/h |
| Atmosfera protettiva | Argon Azoto |
| Pressione di gonfiaggio | ≤ 0,03 MPa |
| Metodo di carico e scarico del materiale | Carico e scarico dall'alto |
| Condizioni di riscaldamento | Sinterizzazione in atmosfera (gas inerte) |
FAQ
Che Cos'è Un Forno Di Grafitizzazione?
What Is A Graphite Vacuum Furnace Used For?
Che Cos'è Il Forno CVD?
La deposizione chimica da vapore (CVD) è una tecnologia che utilizza varie fonti di energia, come il riscaldamento, l'eccitazione del plasma o la radiazione luminosa, per far reagire chimicamente sostanze chimiche gassose o vaporizzate in fase gassosa o nell'interfaccia gas-solido e formare depositi solidi nel reattore per mezzo di una reazione chimica.
Il forno CVD è un sistema combinato di forni con unità di forni a tubo ad alta temperatura, unità di controllo dei gas e unità di vuoto, ampiamente utilizzato per la sperimentazione e la produzione di preparazione di materiali compositi, processi microelettronici, semiconduttori optoelettronici, utilizzo dell'energia solare, comunicazione in fibra ottica, tecnologia dei superconduttori, campo dei rivestimenti protettivi.
Qual è Il Principio Di Funzionamento Di Un Forno Di Grafitizzazione Ad Altissima Temperatura?
Quali Sono I Componenti Principali Di Un Forno Di Grafitizzazione Ad Altissima Temperatura?
Come Mantenere Un Forno Di Grafitizzazione Ad Altissima Temperatura?
Quali Sono Le Principali Applicazioni Dei Forni Di Grafitizzazione?
What Are The Main Types Of Graphite Vacuum Furnaces?
Come Funziona Il Forno CVD?
Il sistema di forni CVD è costituito da un'unità di forni tubolari ad alta temperatura, da un'unità di controllo preciso della fonte di gas di reazione, da una stazione di pompa a vuoto e da parti di assemblaggio corrispondenti.
La pompa a vuoto serve a rimuovere l'aria dal tubo di reazione e ad assicurarsi che non vi siano gas indesiderati all'interno del tubo di reazione, dopodiché il forno tubolare riscalderà il tubo di reazione fino a raggiungere la temperatura desiderata, quindi l'unità di controllo preciso della fonte di gas di reazione potrà introdurre gas diversi con un rapporto prestabilito nel tubo del forno per la reazione chimica, e la deposizione di vapore chimico si formerà nel forno CVD.
Quali Sono I Diversi Tipi Di Forni Di Grafitizzazione?
How Does A Graphite Vacuum Furnace Work?
Quale Gas Viene Utilizzato Nel Processo CVD?
Ci sono diverse fonti di gas che possono essere utilizzate nel processo CVD, le reazioni chimiche comuni della CVD includono pirolisi, fotolisi, riduzione, ossidazione, ossidoriduzione, quindi i gas coinvolti in queste reazioni chimiche possono essere utilizzati nel processo CVD.
Prendiamo ad esempio la crescita di grafene CVD, i gas utilizzati nel processo CVD saranno CH4, H2, O2 e N2.
Come Funziona Un Forno Di Grafitizzazione?
What Are The Advantages Of Using A Graphite Vacuum Furnace?
Qual è Il Vantaggio Del Sistema CVD?
- È possibile produrre un'ampia gamma di film, film metallici, film non metallici e film in lega multicomponente, a seconda delle esigenze. Allo stesso tempo, può preparare cristalli di alta qualità difficilmente ottenibili con altri metodi, come GaN, BP, ecc.
- La velocità di formazione del film è rapida, di solito diversi micron al minuto o addirittura centinaia di micron al minuto. È possibile depositare simultaneamente grandi quantità di rivestimenti con una composizione uniforme, cosa incomparabile con altri metodi di preparazione del film, come l'epitassia in fase liquida (LPE) e l'epitassia a fascio molecolare (MBE).
- Le condizioni di lavoro sono realizzate in condizioni di pressione normale o di basso vuoto, quindi il rivestimento ha una buona diffrazione e i pezzi con forme complesse possono essere rivestiti uniformemente, il che è molto superiore alla PVD.
- La deposizione chimica da vapore può ottenere una superficie di deposizione liscia. Rispetto all'LPE, infatti, la deposizione da vapore chimico (CVD) avviene in condizioni di elevata saturazione, con un alto tasso di nucleazione, un'alta densità di nucleazione e una distribuzione uniforme su tutto il piano, con il risultato di una superficie macroscopica liscia. Allo stesso tempo, nella deposizione da vapore chimico, il percorso libero medio delle molecole (atomi) è molto più grande di quello dell'LPE, quindi la distribuzione spaziale delle molecole è più uniforme, il che favorisce la formazione di una superficie di deposizione liscia.
- Basso danno da radiazioni, che è una condizione necessaria per la produzione di semiconduttori in ossido di metallo (MOS) e altri dispositivi
Quali Sono I Vantaggi Dell'utilizzo Di Un Forno Di Grafitizzazione?
What Temperature Range Can A Graphite Vacuum Furnace Achieve?
Che Cosa Significa PECVD?
PECVD è una tecnologia che utilizza il plasma per attivare il gas di reazione, promuovere la reazione chimica sulla superficie del substrato o nello spazio vicino alla superficie e generare un film solido. Il principio di base della tecnologia di deposizione di vapore chimico al plasma è che, sotto l'azione di un campo elettrico RF o DC, il gas di partenza viene ionizzato per formare un plasma, il plasma a bassa temperatura viene utilizzato come fonte di energia, viene introdotta una quantità appropriata di gas di reazione e la scarica di plasma viene utilizzata per attivare il gas di reazione e realizzare la deposizione di vapore chimico.
Secondo il metodo di generazione del plasma, può essere suddiviso in plasma RF, plasma DC e microonde CVD, ecc.
What Industries Benefit From Graphite Vacuum Furnaces?
Qual è La Differenza Tra CVD E PECVD?
La differenza tra PECVD e la tecnologia CVD tradizionale è che il plasma contiene un gran numero di elettroni ad alta energia, in grado di fornire l'energia di attivazione necessaria nel processo di deposizione di vapore chimico, cambiando così la modalità di approvvigionamento energetico del sistema di reazione. Poiché la temperatura degli elettroni nel plasma raggiunge i 10000K, la collisione tra gli elettroni e le molecole di gas può promuovere la rottura dei legami chimici e la ricombinazione delle molecole di gas di reazione per generare più gruppi chimici attivi, mentre l'intero sistema di reazione mantiene una temperatura più bassa.
Quindi, rispetto al processo CVD, la PECVD può realizzare lo stesso processo di deposizione chimica da vapore con una temperatura più bassa.
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The furnace is very efficient and has uniform heating, which greatly improves our work efficiency.
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The furnace is easy to operate and can be controlled by a touch screen, which is very convenient.
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