Prodotti Apparecchiature termiche Forno CVD e PECVD Forno tubolare Slide PECVD con gassificatore liquido Macchina PECVD
Attiva/disattiva categorie
Forno tubolare Slide PECVD con gassificatore liquido Macchina PECVD

Forno CVD e PECVD

Forno tubolare Slide PECVD con gassificatore liquido Macchina PECVD

Numero articolo : KT-PE12

Il prezzo varia in base a specifiche e personalizzazioni


Temperatura massima
1200 ℃
Temperatura di lavoro costante
1100 ℃
Diametro del tubo del forno
60 mm
Lunghezza zona di riscaldamento
1x450 mm
Velocità di riscaldamento
0-20 ℃/min
Distanza di scorrimento
600 mm
ISO & CE icon

Spedizione:

Contattaci per ottenere i dettagli sulla spedizione. Buon divertimento Garanzia di spedizione puntuale.

Applicazioni

Il sistema PECVD a scorrimento KT-PE12 con gassificatore liquido è composto da una sorgente di plasma RF da 500 W, un forno a scorrimento TF-1200, 4 unità di controllo preciso del gas MFC e una stazione di vuoto standard. Il sistema di scorrimento su rotaia della camera del forno è in grado di realizzare il riscaldamento e il raffreddamento rapidi; è possibile installare un ventilatore ausiliario opzionale a circolazione d'aria forzata per accelerare la velocità di raffreddamento; il movimento di scorrimento opzionale funziona automaticamente; la temperatura di lavoro massima è di 1200℃, mentre la temperatura di esercizio di 1200℃ è di 1,5°C. La temperatura di lavoro è fino a 1200℃, il tubo della fornace è un tubo di quarzo di 60 mm di diametro; misuratore di portata massica MFC a 4 canali con fonti di gas CH4, H2, O2 e N2; la stazione del vuoto è una pompa a vuoto rotativa a palette da 4L/S, la pressione massima del vuoto è fino a 10Pa. La pressione del vuoto è fino a 10Pa.

Vantaggi

  • Sorgente di plasma RF ad accoppiamento automatico, ampia gamma di potenza di uscita 5-500W, uscita stabile
  • Sistema di scorrimento della camera del forno per il riscaldamento ad alta velocità e il raffreddamento in tempi brevi; sono disponibili il raffreddamento rapido ausiliario e il movimento di scorrimento automatico.
  • Controllo della temperatura programmabile PID, eccellente precisione di controllo e supporto del controllo remoto e del controllo centralizzato
  • Controllo del flussimetro di massa MFC ad alta precisione, premiscelazione dei gas di origine e velocità di alimentazione del gas stabile
  • Flangia per vuoto in acciaio inox con varie porte di adattamento per soddisfare le diverse configurazioni della stazione di pompaggio a vuoto, buona tenuta e alto grado di vuoto
  • CTF Pro applica un controller touch screen TFT da 7 pollici, per un'impostazione più semplice dei programmi e un'analisi dei dati storici.

Disponibilità di sistemi CVD a diverse temperature e configurazioni

Sistema PECVD a slitta con gassificatore a liquido
Sistema PECVD a slitta con gassificatore liquido
Sistema PECVD a slitta con forno a doppio tubo split
Sistema PECVD a slitta con forno a doppio tubo split
Sistema PECVD split con tubo di grande diametro
Sistema PECVD split con tubo di grande diametro
Sistema PECVD MFC a 4 canali con stazione ad alto vuoto
Sistema PECVD MFC a 4 canali con stazione ad alto vuoto

Vantaggi per la sicurezza

  • Il forno a tubi Kindle Tech possiede una protezione da sovracorrente e una funzione di allarme da sovratemperatura; il forno spegnerà automaticamente l'alimentazione.
  • Il forno è dotato di una funzione di rilevamento della coppia termica, il forno interromperà il riscaldamento e l'allarme sarà attivo una volta rilevato un guasto o una rottura
  • PE Pro supporta la funzione di riavvio dell'interruzione di corrente, la fornace riprenderà il programma di riscaldamento della fornace quando il potere è in arrivo dopo il fallimento

Specifiche tecniche

Modello di forno KT-PE12-60
Temperatura massima 1200℃
Temperatura di lavoro costante 1100℃
Materiale del tubo del forno Quarzo di elevata purezza
Diametro del tubo del forno 60 mm
Lunghezza della zona di riscaldamento 1x450mm
Materiale della camera Fibra di allumina giapponese
Elemento di riscaldamento Bobina di filo Cr2Al2Mo2
Velocità di riscaldamento 0-20℃/min
Coppia termica Costruire in tipo K
Regolatore di temperatura Controllore PID digitale/controllore PID touch screen
Precisione del controllo della temperatura ±1℃
Distanza di scorrimento 600 mm
Unità al plasma RF
Potenza di uscita 5 -500W regolabile con una stabilità di ±1%
Frequenza RF 13,56 MHz ±0,005% di stabilità
Potenza di riflessione 350W max.
Corrispondenza Automatico
Rumore <50 dB
Raffreddamento Raffreddamento ad aria.
Unità di controllo precisa del gas
Misuratore di portata Misuratore di portata massica MFC
Canali del gas 4 canali
Portata MFC1: 0-5SCCM O2
MFC2: 0-20SCMCH4
MFC3: 0-100SCCM H2
MFC4: 0-500 SCCM N2
Linearità ±0,5% F.S.
Ripetibilità ±0,2% F.S.
Linea di tubi e valvola Acciaio inossidabile
Pressione massima di esercizio 0,45MPa
Controllore del flussometro Controllore digitale a manopola/controller a schermo tattile
Unità di vuoto standard (opzionale)
Pompa per vuoto Pompa per vuoto rotativa a palette
Portata della pompa 4L/S
Porta di aspirazione del vuoto KF25
Vacuometro Vacuometro Pirani/Resistenza al silicone
Pressione nominale del vuoto 10Pa
Unità per alto vuoto (opzionale)
Pompa per vuoto Pompa rotativa a palette+pompa molecolare
Portata della pompa 4L/S+110L/S
Porta di aspirazione del vuoto KF25
Vacuometro Vacuometro composto
Pressione nominale del vuoto 6x10-5Pa
Le specifiche e le configurazioni di cui sopra possono essere personalizzate

Pacchetto standard

No. Descrizione Quantità
1 Forno 1
2 Tubo di quarzo 1
3 Flangia per il vuoto 2
4 Blocco termico del tubo 2
5 Gancio del blocco termico a tubo 1
6 Guanto resistente al calore 1
7 Sorgente di plasma RF 1
8 Controllo preciso del gas 1
9 Unità per il vuoto 1
10 Manuale operativo 1

Configurazione opzionale

  • Rilevamento e monitoraggio dei gas in tubo, come H2, O2 e così via
  • Monitoraggio e registrazione indipendente della temperatura del forno
  • Porta di comunicazione RS 485 per il controllo remoto del PC e l'esportazione dei dati
  • Controllo della portata di alimentazione dei gas inseriti, come flussimetro di massa e flussimetro a galleggiante
  • Controllore di temperatura touch screen con funzioni versatili e di facile utilizzo per l'operatore
  • Configurazione della stazione di pompaggio ad alto vuoto, come pompa a vuoto a palette, pompa molecolare, pompa a diffusione

Avvertenze

La sicurezza dell'operatore è la questione più importante! Si prega di utilizzare l'apparecchiatura con cautele. Lavorare con gas infiammabili, esplosivi o tossici è molto complicato pericoloso, gli operatori devono prendere tutte le precauzioni necessarie prima di avviare il attrezzatura. Lavorare con pressione positiva all'interno dei reattori o delle camere lo è pericoloso, l'operatore deve rispettare rigorosamente le procedure di sicurezza. Extra è necessario prestare attenzione anche quando si opera con materiali reattivi all'aria, soprattutto sotto vuoto. Una perdita può far entrare aria nell'apparecchio e causare a si verifichi una reazione violenta.

Progettato per te

KinTek fornisce servizi e attrezzature su misura ai clienti di tutto il mondo, il nostro lavoro di squadra specializzato e gli ingegneri esperti e ricchi sono in grado di farlo intraprendere la personalizzazione dei requisiti hardware e software di personalizzazione, e aiutare i nostri clienti a costruire attrezzature esclusive e personalizzate e soluzione!

Vuoi comunicarci le tue idee, i nostri ingegneri sono pronti per te adesso!

FAQ

Che Cos'è Il Metodo PECVD?

La PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) è un processo utilizzato nella produzione di semiconduttori per depositare film sottili su dispositivi microelettronici, celle fotovoltaiche e pannelli di visualizzazione. Nella PECVD, un precursore viene introdotto nella camera di reazione allo stato gassoso e l'assistenza di mezzi reattivi al plasma dissocia il precursore a temperature molto più basse rispetto alla CVD. I sistemi PECVD offrono un'eccellente uniformità del film, un processo a bassa temperatura e un'elevata produttività. Sono utilizzati in un'ampia gamma di applicazioni e svolgeranno un ruolo sempre più importante nell'industria dei semiconduttori con la continua crescita della domanda di dispositivi elettronici avanzati.

Che Cos'è L'Mpcvd?

MPCVD è l'acronimo di Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition ed è un processo di deposito di film sottili su una superficie. Utilizza una camera a vuoto, un generatore di microonde e un sistema di erogazione di gas per creare un plasma composto da sostanze chimiche che reagiscono e dai catalizzatori necessari. L'MPCVD è molto utilizzato nella rete ANFF per depositare strati di diamante utilizzando metano e idrogeno per far crescere nuovo diamante su un substrato con seme di diamante. Si tratta di una tecnologia promettente per la produzione di diamanti di grandi dimensioni a basso costo e di alta qualità ed è ampiamente utilizzata nell'industria dei semiconduttori e del taglio dei diamanti.

A Cosa Serve La PECVD?

Il metodo PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) è ampiamente utilizzato nell'industria dei semiconduttori per la fabbricazione di circuiti integrati e nei settori fotovoltaico, tribologico, ottico e biomedico. Viene utilizzata per depositare film sottili per dispositivi microelettronici, celle fotovoltaiche e pannelli di visualizzazione. La PECVD può produrre composti e film unici che non possono essere creati solo con le comuni tecniche CVD e film che dimostrano un'elevata resistenza ai solventi e alla corrosione e una stabilità chimica e termica. Viene inoltre utilizzata per produrre polimeri organici e inorganici omogenei su ampie superfici e carbonio simile al diamante (DLC) per applicazioni tribologiche.

Che Cos'è La Macchina Mpcvd?

La macchina MPCVD (Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition) è un'apparecchiatura di laboratorio utilizzata per la produzione di film di diamante di alta qualità. Utilizza un gas contenente carbonio e un plasma a microonde per creare una sfera di plasma sopra il substrato di diamante, che lo riscalda a una temperatura specifica. La sfera di plasma non entra in contatto con la parete della cavità, rendendo il processo di crescita del diamante privo di impurità e migliorando la qualità del diamante. Il sistema MPCVD è composto da una camera a vuoto, un generatore di microonde e un sistema di erogazione del gas che controlla il flusso di gas nella camera.

Quali Sono I Vantaggi Della PECVD?

I vantaggi principali della PECVD sono la capacità di operare a temperature di deposizione più basse, garantendo una migliore conformità e una copertura a gradini su superfici irregolari, un controllo più stretto del processo di film sottile e tassi di deposizione elevati. La PECVD consente applicazioni di successo in situazioni in cui le temperature CVD convenzionali potrebbero potenzialmente danneggiare il dispositivo o il substrato da rivestire. Operando a una temperatura più bassa, la PECVD crea meno stress tra gli strati di film sottile, consentendo prestazioni elettriche ad alta efficienza e incollaggi secondo standard molto elevati.

Quali Sono I Vantaggi Dell'Mpcvd?

L'MPCVD presenta diversi vantaggi rispetto ad altri metodi di produzione dei diamanti, come una maggiore purezza, un minore consumo energetico e la possibilità di produrre diamanti più grandi.

Qual è La Differenza Tra ALD E PECVD?

L'ALD è un processo di deposizione di film sottili che consente una risoluzione atomica dello spessore dello strato, un'eccellente uniformità delle superfici ad alto rapporto d'aspetto e strati privi di fori. Ciò si ottiene grazie alla formazione continua di strati atomici in una reazione autolimitante. La PECVD, invece, prevede la miscelazione del materiale di partenza con uno o più precursori volatili, utilizzando un plasma per interagire chimicamente e scomporre il materiale di partenza. I processi utilizzano il calore con pressioni più elevate, che portano a un film più riproducibile in cui lo spessore del film può essere gestito in base al tempo/alla potenza. Questi film sono più stechiometrici, più densi e sono in grado di produrre film isolanti di qualità superiore.

I Diamanti CVD Sono Veri O Falsi?

I diamanti CVD sono diamanti veri e non falsi. Vengono coltivati in laboratorio attraverso un processo chiamato Chemical Vapor Deposition (CVD). A differenza dei diamanti naturali, che vengono estratti dal sottosuolo, i diamanti CVD vengono creati in laboratorio con tecnologie avanzate. Questi diamanti sono composti al 100% da carbonio e rappresentano la forma più pura di diamante, nota come diamante di tipo IIa. Hanno le stesse proprietà ottiche, termiche, fisiche e chimiche dei diamanti naturali. L'unica differenza è che i diamanti CVD vengono creati in laboratorio e non estratti dalla terra.

Qual è La Differenza Tra PECVD E Sputtering?

PECVD e sputtering sono entrambe tecniche di deposizione fisica da vapore utilizzate per la deposizione di film sottili. La PECVD è un processo diffusivo guidato da gas che produce film sottili di alta qualità, mentre lo sputtering è un processo di deposizione a vista. La PECVD consente una migliore copertura su superfici irregolari come trincee, pareti e un'elevata conformità e può produrre composti e film unici. D'altra parte, lo sputtering è ottimo per la deposizione di strati sottili di diversi materiali, ideale per creare sistemi di rivestimento multistrato e multigraduato. La PECVD è utilizzata principalmente nell'industria dei semiconduttori, nei settori tribologico, ottico e biomedico, mentre lo sputtering è utilizzato soprattutto per i materiali dielettrici e le applicazioni tribologiche.
Visualizza altre domande frequenti per questo prodotto

4.9

out of

5

I'm amazed by the quick delivery and the quality of the product. It's a game-changer for our lab.

Martina Pavan

4.8

out of

5

The Slide PECVD tube furnace has exceeded our expectations. It's a valuable addition to our research facility.

Edwin Delacroix

4.7

out of

5

This PECVD machine is a lifesaver! It has helped us achieve remarkable results in our research.

Rhea Kapoor

4.9

out of

5

The durability of this product is exceptional. It has withstood rigorous use in our lab.

Robert Lewandowski

4.8

out of

5

The technological advancements in this PECVD system have revolutionized our research capabilities.

Isabella Garcia

4.7

out of

5

I highly recommend this product. It's worth every penny and has enhanced our research efficiency.

Jack Miller

4.9

out of

5

The Slide PECVD tube furnace is a fantastic investment. It has accelerated our research progress significantly.

Olivia Jones

4.8

out of

5

This PECVD system is user-friendly and has simplified our research procedures.

Sebastian Meyer

4.7

out of

5

The technical support provided by KINTEK SOLUTION is outstanding. They're always ready to assist us.

Aisha Khan

4.9

out of

5

The Slide PECVD tube furnace has revolutionized our research methodology. It's a must-have for any lab.

Lucas Silva

4.8

out of

5

This PECVD machine is a game-changer. It has enabled us to achieve groundbreaking results in our research.

Mia Rodriguez

PDF - Forno tubolare Slide PECVD con gassificatore liquido Macchina PECVD

Scarica

Catalogo di Forno Cvd E Pecvd

Scarica

Catalogo di Macchina Pecvd

Scarica

Catalogo di Macchina Mpcvd

Scarica

RICHIEDI UN PREVENTIVO

Il nostro team professionale ti risponderà entro un giorno lavorativo. Non esitare a contattarci!

Prodotti correlati

Macchina CVD versatile con forno a tubo CVD, realizzata dal cliente

Macchina CVD versatile con forno a tubo CVD, realizzata dal cliente

Ottenete il vostro forno CVD esclusivo con KT-CTF16 Customer Made Versatile Furnace. Funzioni di scorrimento, rotazione e inclinazione personalizzabili per reazioni precise. Ordinate ora!

Sistema RF PECVD Deposizione di vapore chimico potenziata da plasma a radiofrequenza

Sistema RF PECVD Deposizione di vapore chimico potenziata da plasma a radiofrequenza

RF-PECVD è l'acronimo di "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". Deposita DLC (film di carbonio simile al diamante) su substrati di germanio e silicio. Viene utilizzato nella gamma di lunghezze d'onda dell'infrarosso da 3 a 12um.

Macchina diamantata MPCVD a risonatore cilindrico per la crescita del diamante in laboratorio

Macchina diamantata MPCVD a risonatore cilindrico per la crescita del diamante in laboratorio

Scoprite la macchina MPCVD con risonatore cilindrico, il metodo di deposizione di vapore chimico al plasma a microonde utilizzato per la crescita di gemme e film di diamante nell'industria dei gioielli e dei semiconduttori. Scoprite i suoi vantaggi economici rispetto ai metodi tradizionali HPHT.

Macchina diamantata MPCVD a 915 MHz

Macchina diamantata MPCVD a 915 MHz

La macchina diamantata MPCVD a 915MHz e la sua crescita multi-cristallo efficace, l'area massima può raggiungere 8 pollici, l'area massima di crescita efficace del cristallo singolo può raggiungere 5 pollici. Questa apparecchiatura è utilizzata principalmente per la produzione di pellicole di diamante policristallino di grandi dimensioni, per la crescita di lunghi diamanti a cristallo singolo, per la crescita a bassa temperatura di grafene di alta qualità e per altri materiali che richiedono energia fornita dal plasma a microonde per la crescita.

Distillazione a percorso breve 5L

Distillazione a percorso breve 5L

Sperimentate una distillazione efficiente e di alta qualità a percorso breve da 5L con la nostra resistente vetreria in borosilicato, il mantello a riscaldamento rapido e il delicato dispositivo di montaggio. Estraete e purificate i vostri liquidi miscelati con facilità in condizioni di alto vuoto. Scoprite subito i suoi vantaggi!

Forno per pressa a caldo sottovuoto

Forno per pressa a caldo sottovuoto

Scoprite i vantaggi del forno a caldo sottovuoto! Produzione di metalli e composti refrattari densi, ceramiche e compositi ad alta temperatura e pressione.

Forno ad atmosfera di idrogeno

Forno ad atmosfera di idrogeno

Forno ad atmosfera di idrogeno KT-AH - forno a gas a induzione per sinterizzazione/ricottura con funzioni di sicurezza integrate, design a doppio guscio ed efficienza a risparmio energetico. Ideale per il laboratorio e l'industria.

Macchina automatica per la stampa di calore ad alta temperatura

Macchina automatica per la stampa di calore ad alta temperatura

La pressa a caldo per alte temperature è una macchina progettata specificamente per la pressatura, la sinterizzazione e la lavorazione di materiali in un ambiente ad alta temperatura. È in grado di operare nell'intervallo da centinaia di gradi Celsius a migliaia di gradi Celsius per una varietà di requisiti di processo ad alta temperatura.

Evaporatore rotante da 0,5-1L per estrazione, cucina molecolare, gastronomia e laboratorio

Evaporatore rotante da 0,5-1L per estrazione, cucina molecolare, gastronomia e laboratorio

Cercate un evaporatore rotante affidabile ed efficiente? Il nostro evaporatore rotante da 0,5-1L utilizza il riscaldamento a temperatura costante e l'evaporazione a film sottile per eseguire una serie di operazioni, tra cui la rimozione e la separazione dei solventi. Grazie ai materiali di alta qualità e alle caratteristiche di sicurezza, è perfetto per i laboratori delle industrie farmaceutiche, chimiche e biologiche.

Pressa termica manuale ad alta temperatura

Pressa termica manuale ad alta temperatura

La pressa a caldo per alte temperature è una macchina progettata specificamente per la pressatura, la sinterizzazione e la lavorazione di materiali in un ambiente ad alta temperatura. È in grado di operare nell'intervallo da centinaia di gradi Celsius a migliaia di gradi Celsius per una varietà di requisiti di processo ad alta temperatura.

Forno di sinterizzazione a pressione sotto vuoto

Forno di sinterizzazione a pressione sotto vuoto

I forni di sinterizzazione a pressione sotto vuoto sono progettati per applicazioni di pressatura a caldo ad alta temperatura nella sinterizzazione di metalli e ceramica. Le sue caratteristiche avanzate garantiscono un controllo preciso della temperatura, un mantenimento affidabile della pressione e un design robusto per un funzionamento senza interruzioni.

Sterilizzatore spaziale a perossido di idrogeno

Sterilizzatore spaziale a perossido di idrogeno

Lo sterilizzatore di spazi a perossido di idrogeno è un dispositivo che utilizza perossido di idrogeno vaporizzato per decontaminare gli spazi chiusi. Uccide i microrganismi danneggiandone i componenti cellulari e il materiale genetico.

Forno di sinterizzazione al plasma scintillante Forno SPS

Forno di sinterizzazione al plasma scintillante Forno SPS

Scoprite i vantaggi dei forni di sinterizzazione al plasma di scintilla per la preparazione rapida e a bassa temperatura dei materiali. Riscaldamento uniforme, basso costo ed eco-compatibilità.

1200℃ Forno ad atmosfera controllata

1200℃ Forno ad atmosfera controllata

Scoprite il nostro forno ad atmosfera controllata KT-12A Pro - alta precisione, camera a vuoto per impieghi gravosi, versatile controller intelligente con touch screen ed eccellente uniformità di temperatura fino a 1200C. Ideale per applicazioni di laboratorio e industriali.

Forno ad arco sottovuoto non consumabile Forno fusorio a induzione

Forno ad arco sottovuoto non consumabile Forno fusorio a induzione

Scoprite i vantaggi dei forni ad arco sottovuoto non consumabili con elettrodi ad alto punto di fusione. Piccolo, facile da usare ed ecologico. Ideale per la ricerca di laboratorio su metalli refrattari e carburi.

Distillazione a percorso breve 10L

Distillazione a percorso breve 10L

Estrarre e purificare liquidi misti con facilità utilizzando il nostro sistema di distillazione a percorso breve da 10L. Alto vuoto e riscaldamento a bassa temperatura per risultati ottimali.

Distillazione a percorso breve 2L

Distillazione a percorso breve 2L

Estraete e purificate con facilità utilizzando il nostro kit di distillazione a percorso breve da 2L. La nostra robusta vetreria in borosilicato, il mantello a riscaldamento rapido e il delicato dispositivo di montaggio garantiscono una distillazione efficiente e di alta qualità. Scoprite i vantaggi oggi stesso!

Evaporatore rotante 0,5-4L per estrazione, cucina molecolare, gastronomia e laboratorio

Evaporatore rotante 0,5-4L per estrazione, cucina molecolare, gastronomia e laboratorio

Separate in modo efficiente i solventi "basso bollenti" con un evaporatore rotante da 0,5-4L. Progettato con materiali di alta qualità, sigillatura sottovuoto Telfon+Viton e valvole PTFE per un funzionamento privo di contaminazione.

Articoli correlati

Deposizione di vapore chimico potenziata da plasma (PECVD): Una guida completa

Deposizione di vapore chimico potenziata da plasma (PECVD): Una guida completa

Scoprite tutto quello che c'è da sapere sulla Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD), una tecnica di deposizione di film sottili utilizzata nell'industria dei semiconduttori. Scopritene i principi, le applicazioni e i vantaggi.

Scopri di più
Capire la PECVD: Una guida alla deposizione di vapore chimico potenziata da plasma

Capire la PECVD: Una guida alla deposizione di vapore chimico potenziata da plasma

La PECVD è una tecnica utile per la creazione di rivestimenti a film sottile perché consente la deposizione di un'ampia varietà di materiali, tra cui ossidi, nitruri e carburi.

Scopri di più
Forno PECVD Una soluzione a bassa potenza e bassa temperatura per la materia soffice

Forno PECVD Una soluzione a bassa potenza e bassa temperatura per la materia soffice

I forni PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) sono diventati una soluzione popolare per la deposizione di film sottili su superfici di materia morbida.

Scopri di più
Vantaggi dell'uso del forno tubolare CVD per il rivestimento

Vantaggi dell'uso del forno tubolare CVD per il rivestimento

I rivestimenti CVD presentano numerosi vantaggi rispetto ad altri metodi di rivestimento, come l'elevata purezza, la densità e l'uniformità, che li rendono ideali per molte applicazioni in vari settori.

Scopri di più
Una guida passo-passo al processo PECVD

Una guida passo-passo al processo PECVD

La PECVD è un tipo di processo di deposizione di vapore chimico che utilizza il plasma per migliorare le reazioni chimiche tra i precursori in fase gassosa e il substrato.

Scopri di più
Il ruolo del plasma nei rivestimenti PECVD

Il ruolo del plasma nei rivestimenti PECVD

La PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) è un tipo di processo di deposizione di film sottili ampiamente utilizzato per creare rivestimenti su vari substrati. In questo processo, un plasma viene utilizzato per depositare film sottili di vari materiali su un substrato.

Scopri di più
Guida completa alla manutenzione delle apparecchiature PECVD

Guida completa alla manutenzione delle apparecchiature PECVD

Una corretta manutenzione delle apparecchiature PECVD è fondamentale per garantirne le prestazioni ottimali, la longevità e la sicurezza.

Scopri di più
Confronto tra le prestazioni di PECVD e HPCVD nelle applicazioni di rivestimento

Confronto tra le prestazioni di PECVD e HPCVD nelle applicazioni di rivestimento

Sebbene sia la PECVD che la HFCVD siano utilizzate per applicazioni di rivestimento, esse differiscono in termini di metodi di deposizione, prestazioni e idoneità per applicazioni specifiche.

Scopri di più
Capire il metodo PECVD

Capire il metodo PECVD

La PECVD è un processo di deposizione di vapore chimico potenziato al plasma, ampiamente utilizzato nella produzione di film sottili per varie applicazioni.

Scopri di più
Guida completa ai forni a tubi separati: Applicazioni, caratteristiche

Guida completa ai forni a tubi separati: Applicazioni, caratteristiche

È esatto che un forno a tubi divisi è un tipo di apparecchiatura di laboratorio che consiste in un tubo o camera cava che può essere aperta per consentire l'inserimento e la rimozione dei campioni o dei materiali da riscaldare.

Scopri di più
Perché la PECVD è essenziale per la fabbricazione di dispositivi microelettronici

Perché la PECVD è essenziale per la fabbricazione di dispositivi microelettronici

La PECVD (Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition) è una tecnica di deposizione di film sottili molto diffusa e utilizzata nella fabbricazione di dispositivi microelettronici.

Scopri di più
Guida per principianti alle macchine MPCVD

Guida per principianti alle macchine MPCVD

MPCVD (Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition) è un processo utilizzato per depositare film sottili di materiale su un substrato utilizzando il plasma generato dalle microonde.

Scopri di più

Tag popolari

macchina pecvd macchina mpcvd