Prodotti Apparecchiature termiche MPCVD Reattore per Macchina MPCVD con Risonatore Cilindrico per Deposizione Chimica da Vapore di Plasma a Microonde e Crescita di Diamanti da Laboratorio
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Reattore per Macchina MPCVD con Risonatore Cilindrico per Deposizione Chimica da Vapore di Plasma a Microonde e Crescita di Diamanti da Laboratorio

MPCVD

Reattore per Macchina MPCVD con Risonatore Cilindrico per Deposizione Chimica da Vapore di Plasma a Microonde e Crescita di Diamanti da Laboratorio

Numero articolo : KTWB315

Il prezzo varia in base a specifiche e personalizzazioni


Potenza microonde
Frequenza microonde 2450±15MHZ
Potenza di uscita
1~10 KW regolabile in continuo
Perdite microonde
≤2MW/cm2
Interfaccia guida d'onda di uscita
WR340, 430 con flangia standard FD-340, 430
Portacampioni
Diametro del tavolo campione≥72mm, area di utilizzo effettiva≥66 mm
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MPCVD sta per Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition (Deposizione Chimica da Vapore di Plasma a Microonde). È un metodo per far crescere film di diamante di alta qualità in laboratorio utilizzando un gas contenente carbonio e un plasma a microonde.

KinTek MPCVD

Sistema MPCVD

Il sistema MPCVD (Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition) è un processo utilizzato per depositare film sottili su una superficie del substrato. Il sistema è composto da una camera a vuoto dove avviene il processo di deposizione, un generatore di microonde e un sistema di erogazione del gas. Il generatore di microonde viene utilizzato per generare un plasma all'interno della camera a vuoto, che viene utilizzato per decomporre e depositare le specie gassose sul substrato.

Il generatore di microonde è tipicamente un magnetron o un klystron, che genera microonde nell'intervallo di 2,45 GHz. Le microonde vengono accoppiate alla camera a vuoto attraverso una finestra di quarzo.

Il sistema di erogazione del gas è composto da controllori di flusso di massa (MFC) che controllano il flusso di gas nella camera a vuoto. Gli MFC sono calibrati in centimetri cubi standard al minuto (sccm).

La temperatura del substrato è controllata dalla posizione del plasma ed è misurata da una termocoppia. Il plasma viene utilizzato per riscaldare il substrato e la temperatura viene monitorata dalla termocoppia per garantire che il substrato sia alla temperatura desiderata durante il processo di deposizione.

Applicazioni

MPCVD è una tecnologia promettente per la produzione di diamanti di grandi dimensioni a basso costo e di alta qualità.

Le proprietà uniche del diamante, tra cui la sua durezza, rigidità, elevata conducibilità termica, bassa espansione termica, resistenza alle radiazioni e inerzia chimica, lo rendono un materiale prezioso.

Nonostante il suo grande potenziale, l'alto costo, le dimensioni limitate e la difficoltà nel controllare le impurità dei diamanti naturali e sintetici ad alta pressione e alta temperatura ne hanno limitato le applicazioni.

MPCVD è l'attrezzatura principale utilizzata per la crescita di gemme e film di diamante. 

La crescita del film di diamante può essere monocristallina o policristallina, ed è ampiamente utilizzata nell'industria dei semiconduttori per substrati di diamante di grandi dimensioni, nonché nell'industria degli utensili da taglio o da perforazione di diamanti. 

Rispetto al metodo HPHT per i diamanti coltivati in laboratorio, il metodo CVD a microonde offre vantaggi per la crescita di diamanti di grandi dimensioni a costi inferiori, rendendolo una soluzione ideale per le applicazioni di diamanti per semiconduttori, la crescita di diamanti ottici e le esigenze del mercato dei diamanti di gioielleria di grandi dimensioni.

Macchine MPCVD KINTEK
Macchine per diamanti MPCVD KINTEK
Nuovo modello di macchina per diamanti MPCVD KINTEK
Nuovo modello di macchina per diamanti MPCVD KINTEK
Nuovo modello di macchina per diamanti MPCVD KINTEK
Nuovo modello di macchina per diamanti MPCVD KINTEK
Diamanti grezzi coltivati da KINTEK MPCVD
Diamanti grezzi coltivati da KINTEK MPCVD
Nella macchina MPCVD KinTek, i diamanti stanno crescendo
Nella macchina MPCVD KinTek, i diamanti stanno crescendo
Nella macchina MPCVD KinTek, i diamanti stanno crescendo
Nella macchina MPCVD KinTek, i diamanti stanno crescendo
Nella macchina MPCVD KinTek, i diamanti stanno crescendo
Nella macchina MPCVD KinTek, i diamanti stanno crescendo
Nella macchina MPCVD KinTek, i diamanti stanno crescendo
Nella macchina MPCVD KinTek, i diamanti stanno crescendo
Nella macchina MPCVD KinTek, i diamanti stanno crescendo
Nella macchina MPCVD KinTek, i diamanti stanno crescendo
Diamante grezzo coltivato da macchina MPCVD KINTEK
Diamante grezzo coltivato da macchina MPCVD KINTEK
Diamante grezzo coltivato da macchina MPCVD KINTEK
Diamante grezzo coltivato da macchina MPCVD KINTEK
Diamante grezzo coltivato da macchina MPCVD KINTEK
Diamante grezzo coltivato da macchina MPCVD KINTEK
Diamanti coltivati MPCVD dopo la lucidatura
Diamanti coltivati MPCVD dopo la lucidatura
Policristallino da KinTek MPCVD
Policristallino da KinTek MPCVD

Vantaggi di MPCVD

MPCVD è un metodo di sintesi del diamante che presenta diversi vantaggi rispetto ad altri metodi, come HFCVD e DC-PJ CVD. Evita la contaminazione del diamante da fili caldi e consente l'uso di più gas per soddisfare diverse esigenze industriali. Rispetto al DC-PJ CVD, consente una regolazione fluida e continua della potenza delle microonde e un controllo stabile della temperatura di reazione, evitando che i semi cristallini cadano dal substrato a causa di archi e guasti di fiamma. Con una vasta area di scarica al plasma stabile, il metodo MPCVD è considerato il metodo di sintesi del diamante più promettente per applicazioni industriali.

I diamanti prodotti tramite MPCVD sono di purezza superiore rispetto a quelli prodotti con il metodo HPHT e il processo di produzione consuma meno energia. Inoltre, il metodo MPCVD facilita la produzione di diamanti più grandi.

Vantaggi del Nostro Sistema MPCVD

Siamo profondamente coinvolti nel settore da molti anni e, di conseguenza, abbiamo una vasta base di clienti che si fida e utilizza le nostre attrezzature. Le nostre attrezzature MPCVD sono in funzione da oltre 40.000 ore, dimostrando eccezionale stabilità, affidabilità, ripetibilità ed economicità. Ulteriori vantaggi del nostro sistema MPCVD includono:

  • Area di crescita del substrato da 3 pollici, carico massimo in batch fino a 45 pezzi di diamanti
  • Potenza di uscita delle microonde regolabile da 1-10Kw per un minor consumo elettrico
  • Team di ricerca con ricca esperienza e supporto per ricette di crescita di diamanti all'avanguardia
  • Programma di supporto tecnico esclusivo per team senza esperienza nella crescita di diamanti

Sfruttando la nostra tecnologia avanzata accumulata, abbiamo implementato molteplici cicli di aggiornamenti e miglioramenti al nostro sistema MPCVD, ottenendo un'efficienza significativamente migliorata e costi delle attrezzature ridotti. Di conseguenza, le nostre attrezzature MPCVD sono all'avanguardia nei progressi tecnologici e offerte a un prezzo competitivo. Benvenuti a consultarvi con noi.

Simulazione MPCVD KinTek
Simulazione MPCVD KinTek

Processo di Lavoro

La macchina MPCVD controlla il flusso di ciascun percorso del gas e la pressione della cavità mentre introduce gas reagenti (come CH4, H2, Ar, O2, N2, ecc.) nella cavità a una pressione specifica. Dopo aver stabilizzato il flusso d'aria, il generatore di microonde a stato solido da 6KW genera microonde che vengono quindi introdotte nella cavità attraverso la guida d'onda.

Il gas di reazione si trasforma in uno stato di plasma sotto il campo a microonde, formando una palla di plasma che fluttua sopra il substrato di diamante. L'alta temperatura del plasma riscalda il substrato a una temperatura specifica. Il calore in eccesso prodotto nella cavità viene dissipato dall'unità di raffreddamento ad acqua.

Per garantire condizioni di crescita ottimali durante il processo di crescita di diamanti monocristallini MPCVD, regoliamo fattori come la potenza, la composizione della fonte di gas e la pressione della cavità. Inoltre, poiché la palla di plasma non entra in contatto con la parete della cavità, il processo di crescita del diamante è privo di impurità, migliorando così la qualità del diamante.

Dettagli e Parti

Sistema a microonde

Sistema a microonde

Camera di reazione

Camera di reazione

Sistema di flusso di gas

Sistema di flusso di gas

Sistema di vuoto e sensori

Sistema di vuoto e sensori

Specifiche tecniche

Sistema a microonde
  • Frequenza microonde 2450±15MHZ,
  • Potenza di uscita 1~10 KW regolabile in continuo
  • Stabilità della potenza di uscita delle microonde: <±1%
  • Perdita di microonde ≤2MW/cm2
  • Interfaccia guida d'onda di uscita: WR340, 430 con flangia standard FD-340, 430
  • Flusso acqua di raffreddamento: 6-12L/min
  • Coefficiente d'onda stazionaria del sistema: VSWR ≤ 1.5
  • Regolatore manuale a 3 pin per microonde, cavità di eccitazione, carico ad alta potenza
  • Alimentazione in ingresso: 380VAC/50Hz ± 10%, trifase 
Camera di reazione
  • Tasso di perdita di vuoto <5 × 10-9 Pa .m3/s
  • La pressione limite è inferiore a 0,7 Pa (configurazione standard con vacuometro Pirani) 
  • L'aumento di pressione della camera non deve superare i 50Pa dopo 12 ore di mantenimento della pressione
  • Modalità di funzionamento della camera di reazione: modalità TM021 o TM023
  • Tipo di cavità: Cavità risonante cilindrica, con potenza massima sopportabile di 10KW, realizzata in acciaio inossidabile 304, con interstrato raffreddato ad acqua e metodo di sigillatura con piastra di quarzo ad alta purezza.
  • Modalità di ingresso aria: Ingresso aria uniforme anulare superiore
  • Tenuta sottovuoto: Il collegamento inferiore della camera principale e la porta di iniezione sono sigillati con anelli di gomma, la pompa del vuoto e il soffietto sono sigillati con KF, la piastra di quarzo è sigillata con un anello a C metallico e il resto è sigillato con CF
  • Finestra di osservazione e misurazione della temperatura: 8 porte di osservazione
  • Porta di carico del campione nella parte anteriore della camera
  • Scarica stabile nell'intervallo di pressione da 0,7 KPa ~ 30 KPa (la potenza e la pressione devono essere abbinate)
Porta campione
  • Diametro del tavolo porta campione ≥72mm, area utile effettiva ≥66 mm
  • Struttura a sandwich raffreddata ad acqua della piattaforma della piastra di base
  • Il porta campione può essere sollevato e abbassato uniformemente elettricamente nella cavità
Sistema di flusso di gas
  • Disco aria saldato interamente in metallo
  • Giunti saldati o VCR devono essere utilizzati per tutti i circuiti del gas interni dell'attrezzatura.
  • Misuratore di flusso MFC a 5 canali, H2/CH4/O2/N/Ar. H2: 1000 sccm; CH4: 100 sccm; O2: 2 sccm; N2: 2 sccm; Ar: 10 sccm
  • Pressione di lavoro 0,05-0,3 MPa, precisione ±2%
  • Controllo indipendente della valvola pneumatica per ogni misuratore di flusso del canale
Sistema di raffreddamento
  • Raffreddamento ad acqua a 3 linee, monitoraggio in tempo reale di temperatura e flusso.
  • Il flusso dell'acqua di raffreddamento del sistema è ≤ 50L/min
  • La pressione dell'acqua di raffreddamento è <4KG e la temperatura dell'acqua in ingresso è 20-25 ℃.
Sensore di temperatura
  • Il termometro a infrarossi esterno ha un intervallo di temperatura di 300-1400 ℃ 
  • Precisione del controllo della temperatura < 2 ℃ o 2%
Sistema di controllo
  • Viene adottato il controllo PLC Siemens smart 200 e touch screen. 
  • Il sistema dispone di una varietà di programmi, che possono realizzare il bilanciamento automatico della temperatura di crescita, il controllo preciso della pressione dell'aria di crescita, l'aumento automatico della temperatura, la diminuzione automatica della temperatura e altre funzioni. 
  • Il funzionamento stabile dell'attrezzatura e la protezione completa dell'attrezzatura possono essere ottenuti attraverso il monitoraggio di parametri come flusso d'acqua, temperatura, pressione e l'affidabilità e la sicurezza dell'operazione sono garantite attraverso l'interblocco funzionale. 
Funzione opzionale
  • Sistema di monitoraggio centrale
  • Potenza di base del substrato

Avvertenze

La sicurezza dell'operatore è la questione più importante! Si prega di utilizzare l'apparecchiatura con cautele. Lavorare con gas infiammabili, esplosivi o tossici è molto complicato pericoloso, gli operatori devono prendere tutte le precauzioni necessarie prima di avviare il attrezzatura. Lavorare con pressione positiva all'interno dei reattori o delle camere lo è pericoloso, l'operatore deve rispettare rigorosamente le procedure di sicurezza. Extra è necessario prestare attenzione anche quando si opera con materiali reattivi all'aria, soprattutto sotto vuoto. Una perdita può far entrare aria nell'apparecchio e causare a si verifichi una reazione violenta.

Progettato per te

KinTek fornisce servizi e attrezzature su misura ai clienti di tutto il mondo, il nostro lavoro di squadra specializzato e gli ingegneri esperti e ricchi sono in grado di farlo intraprendere la personalizzazione dei requisiti hardware e software di personalizzazione, e aiutare i nostri clienti a costruire attrezzature esclusive e personalizzate e soluzione!

Vuoi comunicarci le tue idee, i nostri ingegneri sono pronti per te adesso!

FAQ

Che Cos'è L'Mpcvd?

MPCVD è l'acronimo di Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition ed è un processo di deposito di film sottili su una superficie. Utilizza una camera a vuoto, un generatore di microonde e un sistema di erogazione di gas per creare un plasma composto da sostanze chimiche che reagiscono e dai catalizzatori necessari. L'MPCVD è molto utilizzato nella rete ANFF per depositare strati di diamante utilizzando metano e idrogeno per far crescere nuovo diamante su un substrato con seme di diamante. Si tratta di una tecnologia promettente per la produzione di diamanti di grandi dimensioni a basso costo e di alta qualità ed è ampiamente utilizzata nell'industria dei semiconduttori e del taglio dei diamanti.

Che Cos'è La Macchina Mpcvd?

La macchina MPCVD (Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition) è un'apparecchiatura di laboratorio utilizzata per la produzione di film di diamante di alta qualità. Utilizza un gas contenente carbonio e un plasma a microonde per creare una sfera di plasma sopra il substrato di diamante, che lo riscalda a una temperatura specifica. La sfera di plasma non entra in contatto con la parete della cavità, rendendo il processo di crescita del diamante privo di impurità e migliorando la qualità del diamante. Il sistema MPCVD è composto da una camera a vuoto, un generatore di microonde e un sistema di erogazione del gas che controlla il flusso di gas nella camera.

Quali Sono I Vantaggi Dell'Mpcvd?

L'MPCVD presenta diversi vantaggi rispetto ad altri metodi di produzione dei diamanti, come una maggiore purezza, un minore consumo energetico e la possibilità di produrre diamanti più grandi.

I Diamanti CVD Sono Veri O Falsi?

I diamanti CVD sono diamanti veri e non falsi. Vengono coltivati in laboratorio attraverso un processo chiamato Chemical Vapor Deposition (CVD). A differenza dei diamanti naturali, che vengono estratti dal sottosuolo, i diamanti CVD vengono creati in laboratorio con tecnologie avanzate. Questi diamanti sono composti al 100% da carbonio e rappresentano la forma più pura di diamante, nota come diamante di tipo IIa. Hanno le stesse proprietà ottiche, termiche, fisiche e chimiche dei diamanti naturali. L'unica differenza è che i diamanti CVD vengono creati in laboratorio e non estratti dalla terra.
Visualizza altre domande frequenti per questo prodotto

4.9

out of

5

KINTEK's MPCVD machine is a game-changer! Its 1-10Kw adjustable output microwave power feature not only saves electricity but also ensures precise control over the diamond growth process.

Harshitha Gujjar

4.8

out of

5

As a lab manager, I appreciate the stability and reliability of the KINTEK MPCVD system. It has been running non-stop for over 40,000 hours, providing us with consistent, high-quality diamond growth.

Elvin Wang

4.7

out of

5

The rich experience and frontier diamond growing recipe support from KINTEK's research team have been invaluable. Their expertise has helped us optimize our MPCVD process and achieve exceptional results.

Sophia Mitchell

4.8

out of

5

KINTEK's exclusive technical support program for teams with zero diamond growing experience is a lifesaver. Their guidance and assistance have been instrumental in our successful adoption of the MPCVD system.

Mustafa Kamal

5.0

out of

5

The 3 inches substrate growing area and max. batch load of up to 45 pieces diamonds make the KINTEK MPCVD machine a highly efficient and productive choice for our lab. We can now produce more diamonds in less time.

Isabella Garcia

4.9

out of

5

The KINTEK MPCVD system is a technological marvel. Its advanced features and continuous upgrades have kept us at the forefront of diamond growth innovation.

Oliver Chen

4.7

out of

5

The competitive price of the KINTEK MPCVD equipment makes it an affordable and accessible solution for labs like ours. We're grateful for the opportunity to leverage its cutting-edge technology without breaking the bank.

Aisha Khan

5.0

out of

5

The KINTEK MPCVD machine has exceeded our expectations. Its user-friendly interface, stable performance, and exceptional diamond quality have made it an indispensable tool in our lab.

Elijah Harper

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Reattore per Macchina MPCVD con Risonatore Cilindrico per Deposizione Chimica da Vapore di Plasma a Microonde e Crescita di Diamanti da Laboratorio

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Mpcvd

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