Forno CVD e PECVD
Macchina CVD versatile con forno a tubo CVD, realizzata dal cliente
Numero articolo : KT-CTF16
Il prezzo varia in base a specifiche e personalizzazioni
- Temperatura massima
- 1600 ℃
- Temperatura di lavoro costante
- 1550 ℃
- Diametro del tubo del forno
- 60 mm
- Zona di riscaldamento
- 3x300 mm
- Velocità di riscaldamento
- 0-10 ℃/min
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Il forno tubolare CVD è un forno ad alta temperatura utilizzato per i processi di deposizione di vapore chimico (CVD). È dotato di zone di riscaldamento multiple che consentono un controllo preciso della temperatura, di una pompa ad alto vuoto che crea un ambiente sotto vuoto per i processi CVD e di una stazione di controllo del gas a flusso di massa che miscela e immette i gas nel tubo del forno. Il forno è in grado di raggiungere temperature fino a 1200°C e ha un tasso di vuoto finale di 10^-7 torr. È comunemente utilizzato nell'industria dei semiconduttori per depositare film sottili di vari materiali, tra cui materiali isolanti, materiali metallici e materiali in lega metallica.
Applicazioni
I forni tubolari CVD multizona sono ampiamente utilizzati in varie applicazioni industriali e di ricerca, tra cui:
- Deposizione chimica da vapore (CVD)
- Diffusione
- Trattamenti termici
- Fabbricazione di semiconduttori
- Sintesi di materiali
- Deposizione di film sottili
- Nanotecnologia
- Optoelettronica
- Aerospaziale
- Immagazzinamento di energia
- Ingegneria biomedica
Caratteristiche
Il forno CVD Tube Furnace è un forno versatile e ad alte prestazioni, ideale per una varietà di applicazioni nella ricerca e nell'industria. Grazie alle sue caratteristiche e capacità avanzate, questo forno può aiutarvi a ottenere i migliori risultati possibili nel vostro lavoro.
- Controllo della temperatura multizona: questo forno è dotato di controllo della temperatura multizona, che consente di controllare con precisione la temperatura in diverse zone del forno. Questo è essenziale per le applicazioni in cui è necessario creare un profilo o un gradiente di temperatura specifico.
- Capacità di temperatura elevata: questo forno può raggiungere temperature fino a 1200°C, il che lo rende ideale per un'ampia gamma di applicazioni. Questa capacità di alta temperatura consente di eseguire processi impegnativi come CVD, diffusione e altri termotrattamenti.
- Protezione dal vuoto o dall'atmosfera: Questo forno può essere utilizzato sotto vuoto o in atmosfera, rendendolo adatto a una vasta gamma di applicazioni. Questa versatilità consente di eseguire processi che richiedono un'atmosfera specifica o un ambiente sotto vuoto.
- Facile da usare: questo forno è facile da usare, con un'interfaccia intuitiva e comandi intuitivi. Ciò rende facile l'impostazione e il funzionamento del forno, anche per gli utenti con poca esperienza.
- Design compatto: Questo forno è compatto e leggero, facile da installare e da utilizzare in diversi spazi. Questo design compatto lo rende ideale per l'uso in laboratori e altri ambienti con limiti di spazio.
Principio
La deposizione chimica da vapore (CVD) è una tecnica di deposizione di film sottili in cui un materiale solido viene depositato su un substrato da una fase gassosa. Il substrato viene riscaldato a una temperatura elevata e un gas contenente il materiale desiderato viene introdotto nella camera. Il gas reagisce con il substrato e il materiale desiderato si deposita sulla superficie.
I forni tubolari CVD sono utilizzati per i processi CVD. Il forno è costituito da un tubo riscaldato, in genere di quarzo o allumina. Il substrato viene posizionato all'interno del tubo e il gas viene introdotto nel tubo. Il gas scorre attraverso il tubo e reagisce con il substrato, depositando il materiale desiderato sulla superficie.
I forni a tubo CVD possono essere utilizzati per depositare un'ampia varietà di materiali, tra cui metalli, ossidi, nitruri e carburi. Il processo è utilizzato nella produzione di semiconduttori, celle solari e altri dispositivi elettronici.
Sono disponibili sistemi CVD a diverse temperature e configurazioni
Vantaggi
- Elevata uniformità della temperatura: il design a più zone garantisce una distribuzione uniforme della temperatura in tutto il forno, fattore critico per i processi CVD.
- Controllo preciso della temperatura: Il termoregolatore digitale consente un controllo preciso della temperatura del forno, essenziale per ottenere risultati ripetibili e affidabili.
- Elevata capacità di vuoto: Il tasso di vuoto massimo di 10^-7 torr consente di rimuovere i contaminanti dalla camera di reazione, condizione necessaria per ottenere film CVD di alta qualità.
- Facile da usare: l'interfaccia intuitiva rende il forno facile da usare, anche per gli utenti meno esperti.
- Versatile: il forno può essere utilizzato per un'ampia gamma di processi CVD, tra cui la deposizione di metalli, la lavorazione di semiconduttori e la sintesi di nanotubi di carbonio.
- Design compatto: Il design compatto del forno lo rende ideale per l'uso in laboratori con limiti di spazio.
- Conveniente: Il forno ha un prezzo competitivo e rappresenta un ottimo rapporto qualità-prezzo.
Specifiche tecniche
| Modello del forno | KT-CTF16-60 |
| Temperatura massima | 1600℃ |
| Temperatura di lavoro costante | 1550℃ |
| Materiale del tubo del forno | Tubo Al2O3 di elevata purezza |
| Diametro del tubo del forno | 60 mm |
| Zona di riscaldamento | 3x300mm |
| Materiale della camera | Fibra policristallina di allumina |
| Elemento di riscaldamento | Carburo di silicio |
| Velocità di riscaldamento | 0-10℃/min |
| Coppia termica | Tipo S |
| Regolatore di temperatura | Controllore PID digitale/controllore PID touch screen |
| Precisione del controllo della temperatura | ±1℃ |
| Unità di controllo preciso del gas | |
| Misuratore di portata | Misuratore di portata massica MFC |
| Canali gas | 3 canali |
| Portata | MFC1: 0-5SCCM O2 MFC2: 0-20SCMCH4 MFC3: 0-100 SCCM H2 MFC4: 0-500 SCCM N2 |
| Linearità | ±0,5% F.S. |
| Ripetibilità | ±0,2% F.S. |
| Linea di tubi e valvola | Acciaio inossidabile |
| Pressione massima di esercizio | 0,45MPa |
| Controllore del flussometro | Controllore digitale a manopola/controller a schermo tattile |
| Unità di vuoto standard (opzionale) | |
| Pompa per vuoto | Pompa per vuoto rotativa a palette |
| Portata della pompa | 4L/S |
| Porta di aspirazione del vuoto | KF25 |
| Vacuometro | Vacuometro Pirani/Resistenza al silicone |
| Pressione nominale del vuoto | 10Pa |
| Unità per alto vuoto (opzionale) | |
| Pompa per vuoto | Pompa rotativa a palette+pompa molecolare |
| Portata della pompa | 4L/S+110L/S |
| Porta di aspirazione del vuoto | KF25 |
| Vacuometro | Vacuometro composto |
| Pressione nominale del vuoto | 6x10-5Pa |
| Le specifiche e le configurazioni di cui sopra possono essere personalizzate | |
Pacchetto standard
| No. | Descrizione | Quantità |
| 1 | Forno | 1 |
| 2 | Tubo di quarzo | 1 |
| 3 | Flangia per il vuoto | 2 |
| 4 | Blocco termico del tubo | 2 |
| 5 | Gancio del blocco termico a tubo | 1 |
| 6 | Guanto resistente al calore | 1 |
| 7 | Controllo preciso del gas | 1 |
| 8 | Unità per il vuoto | 1 |
| 9 | Manuale operativo | 1 |
Configurazione opzionale
- Rilevamento e monitoraggio dei gas in tubo, come H2, O2 e così via
- Monitoraggio e registrazione indipendente della temperatura del forno
- Porta di comunicazione RS 485 per il controllo remoto del PC e l'esportazione dei dati
- Controllo della portata di alimentazione dei gas inseriti, come flussimetro di massa e flussimetro a galleggiante
- Controllore di temperatura touch screen con funzioni versatili e di facile utilizzo per l'operatore
- Configurazione della stazione di pompaggio ad alto vuoto, come pompa a vuoto a palette, pompa molecolare, pompa di diffusione
Avvertenze
La sicurezza dell'operatore è la questione più importante! Si prega di utilizzare l'apparecchiatura con cautele. Lavorare con gas infiammabili, esplosivi o tossici è molto complicato pericoloso, gli operatori devono prendere tutte le precauzioni necessarie prima di avviare il attrezzatura. Lavorare con pressione positiva all'interno dei reattori o delle camere lo è pericoloso, l'operatore deve rispettare rigorosamente le procedure di sicurezza. Extra è necessario prestare attenzione anche quando si opera con materiali reattivi all'aria, soprattutto sotto vuoto. Una perdita può far entrare aria nell'apparecchio e causare a si verifichi una reazione violenta.
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