Forno CVD e PECVD
Sistema di apparecchiature per forni a tubo CVD personalizzati versatili per deposizione chimica da vapore
Numero articolo : KT-CTF16
Il prezzo varia in base a specifiche e personalizzazioni
- Temperatura massima
- 1600 ℃
- Temperatura di lavoro costante
- 1550 ℃
- Diametro del tubo del forno
- 60 mm
- Zona di riscaldamento
- 3x300 mm
- Velocità di riscaldamento
- 0-10 ℃/min
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Introduzione
Il forno a tubo CVD è un forno ad alta temperatura utilizzato per processi di deposizione chimica da vapore (CVD). È dotato di zone di riscaldamento multiple che consentono un controllo preciso della temperatura, una pompa per vuoto spinto che crea un ambiente di vuoto per i processi CVD e una stazione di controllo del gas a flusso di massa che miscela e immette i gas nel tubo del forno. Il forno è in grado di raggiungere temperature fino a 1200°C e ha un tasso di vuoto finale di 10^-7 torr. È comunemente utilizzato nell'industria dei semiconduttori per la deposizione di film sottili di vari materiali, tra cui materiali isolanti, materiali metallici e materiali in lega metallica.
Applicazioni
I forni a tubo CVD multi-zona sono ampiamente utilizzati in varie applicazioni di ricerca e industriali, tra cui:
- Sintesi di nanomateriali: il forno a tubo CVD è ideale per la crescita di nanofili e la preparazione di nanofilm, che sono cruciali per lo sviluppo di materiali avanzati con proprietà uniche.
- Tecnologie di rivestimento: è ampiamente utilizzato per la deposizione di film metallici, film ceramici e film compositi, essenziali per migliorare le proprietà superficiali di vari materiali.
- Lavorazione di materiali per batterie: il forno è adatto per l'essiccazione e la sinterizzazione di materiali per batterie, un passaggio critico nella produzione di dispositivi di accumulo di energia ad alte prestazioni.
- Sinterizzazione ad alta temperatura: viene impiegato in processi di sinterizzazione in atmosfera ad alta temperatura e di riduzione in atmosfera, necessari per la densificazione dei materiali.
- Rivestimento sottovuoto: le capacità di alto vuoto del forno lo rendono perfetto per applicazioni di rivestimento sottovuoto, dove la purezza e la qualità del rivestimento sono fondamentali.
- Ricerca e sviluppo: università e istituti di ricerca scientifica utilizzano queste apparecchiature per una vasta gamma di esperimenti nel campo della scienza dei materiali, inclusi studi CVD/CVI (infiltrazione chimica da vapore).
- Applicazioni industriali: in contesti industriali, il forno a tubo CVD viene utilizzato per processi che richiedono un controllo preciso della temperatura e una gestione dei gas, come nell'industria dei semiconduttori.
- Pulizia e incisione al plasma: la versatilità dell'attrezzatura consente l'espansione delle funzionalità per includere la pulizia e l'incisione al plasma, essenziali per la preparazione dei substrati prima della deposizione.
Caratteristiche
Il forno a tubo CVD è un forno versatile e ad alte prestazioni ideale per una varietà di applicazioni nella ricerca e nell'industria. Con le sue caratteristiche e capacità avanzate, questo forno può aiutarti a ottenere i migliori risultati possibili nel tuo lavoro.
- Controllo della temperatura multi-zona: questo forno è dotato di controllo della temperatura multi-zona, che consente di controllare con precisione la temperatura nelle diverse zone del forno. Ciò è essenziale per le applicazioni in cui è necessario creare un profilo o un gradiente di temperatura specifico.
- Capacità ad alta temperatura: questo forno può raggiungere temperature fino a 1200°C, rendendolo ideale per una vasta gamma di applicazioni. Questa capacità ad alta temperatura consente di eseguire processi impegnativi come CVD, diffusione e altri trattamenti termici.
- Protezione sottovuoto o in atmosfera: questo forno può essere utilizzato sottovuoto o in atmosfera protettiva, rendendolo adatto a una varietà di applicazioni. Questa versatilità consente di eseguire processi che richiedono un'atmosfera o un ambiente sottovuoto specifico.
- Facile da usare: questo forno è facile da usare, con un'interfaccia intuitiva e controlli intuitivi. Ciò rende facile configurare e utilizzare il forno, anche per utenti con esperienza limitata.
- Design compatto: questo forno è compatto e leggero, il che lo rende facile da installare e utilizzare in una varietà di spazi. Questo design compatto lo rende ideale per l'uso in laboratori e altri ambienti con spazio limitato.
Principio
La deposizione chimica da vapore (CVD) è una tecnica di deposizione di film sottili in cui un materiale solido viene depositato su un substrato da una fase gassosa. Il substrato viene riscaldato ad alta temperatura e un gas contenente il materiale desiderato viene introdotto nella camera. Il gas reagisce con il substrato e il materiale desiderato viene depositato sulla superficie.
I forni a tubo CVD sono utilizzati per processi CVD. Il forno è costituito da un tubo riscaldato, solitamente in quarzo o allumina. Il substrato viene posizionato all'interno del tubo e il gas viene introdotto nel tubo. Il gas scorre attraverso il tubo e reagisce con il substrato, depositando il materiale desiderato sulla superficie.
I forni a tubo CVD possono essere utilizzati per depositare un'ampia varietà di materiali, tra cui metalli, ossidi, nitruri e carburi. Il processo è utilizzato nella produzione di semiconduttori, celle solari e altri dispositivi elettronici.
Disponibili diversi sistemi CVD con temperature e configurazioni differenti
Principio
Il forno a tubo CVD opera secondo il principio della deposizione chimica da vapore, utilizzando un sistema di alto vuoto e precisi controllori di flusso di massa per facilitare la deposizione di vari film in condizioni controllate. Impiega la tecnologia a scarica a radiofrequenza per elevate velocità di deposizione e tecniche di riscaldamento avanzate per una distribuzione uniforme dei film.
Vantaggi
- Elevata uniformità della temperatura: il design multi-zona garantisce che la temperatura sia distribuita uniformemente in tutto il forno, il che è fondamentale per i processi CVD.
- Controllo preciso della temperatura: il controller di temperatura digitale consente un controllo preciso della temperatura del forno, essenziale per risultati ripetibili e affidabili.
- Capacità di alto vuoto: il tasso di vuoto finale di 10^-7 torr consente la rimozione di contaminanti dalla camera di reazione, necessaria per film CVD di alta qualità.
- Facile da usare: l'interfaccia intuitiva rende il forno facile da usare, anche per utenti inesperti.
- Versatile: il forno può essere utilizzato per un'ampia varietà di processi CVD, tra cui deposizione di metalli, lavorazione di semiconduttori e sintesi di nanotubi di carbonio.
- Design compatto: il design compatto del forno lo rende ideale per l'uso in laboratori con spazio limitato.
- Conveniente: il forno ha un prezzo competitivo, il che lo rende un eccellente rapporto qualità-prezzo.
Specifiche tecniche
| Modello forno | KT-CTF16-60 |
|---|---|
| Temperatura max. | 1600℃ |
| Temperatura di lavoro costante | 1550℃ |
| Materiale tubo forno | Tubo di Al2O3 ad alta purezza |
| Diametro tubo forno | 60mm |
| Zona di riscaldamento | 3x300mm |
| Materiale camera | Fibra policristallina di allumina |
| Elemento riscaldante | Carburo di silicio |
| Velocità di riscaldamento | 0-10℃/min |
| Termocoppia | Tipo S |
| Controller di temperatura | Controller PID digitale/Controller PID touchscreen |
| Precisione controllo temperatura | ±1℃ |
| Unità di controllo preciso del gas | |
| Flussometro | Flussometro di massa MFC |
| Canali gas | 3 canali |
| Portata | MFC1: 0-5SCCM O2 MFC2: 0-20SCMCH4 MFC3: 0- 100SCCM H2 MFC4: 0-500 SCCM N2 |
| Linearità | ±0,5% F.S. |
| Ripetibilità | ±0,2% F.S. |
| Linea tubi e valvola | Acciaio inossidabile |
| Pressione operativa massima | 0,45 MPa |
| Controller flussometro | Controller a manopola digitale/Controller touchscreen |
| Unità vuoto standard (opzionale) | |
| Pompa per vuoto | Pompa per vuoto a palette rotanti |
| Portata pompa | 4L/S |
| Bocca di aspirazione vuoto | KF25 |
| Manometro | Manometro Pirani/a resistenza al silicio |
| Pressione nominale di vuoto | 10Pa |
| Unità alto vuoto (opzionale) | |
| Pompa per vuoto | Pompa a palette rotanti + Pompa molecolare |
| Portata pompa | 4L/S + 110L/S |
| Bocca di aspirazione vuoto | KF25 |
| Manometro | Manometro composto |
| Pressione nominale di vuoto | 6x10-5Pa |
| Specifiche e configurazioni sopra indicate possono essere personalizzate | |
Pacchetto standard
| N. | Descrizione | Quantità |
|---|---|---|
| 1 | Forno | 1 |
| 2 | Tubo di quarzo | 1 |
| 3 | Flangia per vuoto | 2 |
| 4 | Blocco termico per tubo | 2 |
| 5 | Gancio per blocco termico per tubo | 1 |
| 6 | Guanto resistente al calore | 1 |
| 7 | Controllo gas preciso | 1 |
| 8 | Unità vuoto | 1 |
| 9 | Manuale di istruzioni | 1 |
Configurazione opzionale
- Rilevamento e monitoraggio gas in tubo, come H2, O2 e così via
- Monitoraggio e registrazione indipendenti della temperatura del forno
- Porta di comunicazione RS 485 per controllo remoto PC ed esportazione dati
- Controllo della portata di alimentazione gas in ingresso, come flussometro di massa e flussometro a galleggiante
- Controller di temperatura touchscreen con funzioni versatili e user-friendly
- Configurazioni di stazioni per alto vuoto, come pompa per vuoto a palette, pompa molecolare, pompa a diffusione
Avvertenze
La sicurezza dell'operatore è la questione più importante! Si prega di utilizzare l'apparecchiatura con cautele. Lavorare con gas infiammabili, esplosivi o tossici è molto complicato pericoloso, gli operatori devono prendere tutte le precauzioni necessarie prima di avviare il attrezzatura. Lavorare con pressione positiva all'interno dei reattori o delle camere lo è pericoloso, l'operatore deve rispettare rigorosamente le procedure di sicurezza. Extra è necessario prestare attenzione anche quando si opera con materiali reattivi all'aria, soprattutto sotto vuoto. Una perdita può far entrare aria nell'apparecchio e causare a si verifichi una reazione violenta.
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