Prodotti Apparecchiature termiche Forno CVD e PECVD Macchina CVD versatile con forno a tubo CVD, realizzata dal cliente
Attiva/disattiva categorie

Scorciatoia

Chatta con noi per una comunicazione veloce e diretta.

Risposta immediata nei giorni lavorativi (entro 8 ore nei giorni festivi)

Macchina CVD versatile con forno a tubo CVD, realizzata dal cliente

Forno CVD e PECVD

Macchina CVD versatile con forno a tubo CVD, realizzata dal cliente

Numero articolo : KT-CTF16

Il prezzo varia in base a specifiche e personalizzazioni


Temperatura massima
1600 ℃
Temperatura di lavoro costante
1550 ℃
Diametro del tubo del forno
60 mm
Zona di riscaldamento
3x300 mm
Velocità di riscaldamento
0-10 ℃/min
ISO & CE icon

Spedizione:

Contattaci per ottenere i dettagli sulla spedizione. Buon divertimento Garanzia di spedizione puntuale.

Introduzione

Il forno tubolare CVD è un forno ad alta temperatura utilizzato per i processi di deposizione di vapore chimico (CVD). È dotato di zone di riscaldamento multiple che consentono un controllo preciso della temperatura, di una pompa ad alto vuoto che crea un ambiente sotto vuoto per i processi CVD e di una stazione di controllo del gas a flusso di massa che miscela e immette i gas nel tubo del forno. Il forno è in grado di raggiungere temperature fino a 1200°C e ha un tasso di vuoto finale di 10^-7 torr. È comunemente utilizzato nell'industria dei semiconduttori per depositare film sottili di vari materiali, tra cui materiali isolanti, materiali metallici e materiali in lega metallica.

Applicazioni

I forni tubolari CVD multizona sono ampiamente utilizzati in varie applicazioni industriali e di ricerca, tra cui:

  • Deposizione chimica da vapore (CVD)
  • Diffusione
  • Trattamenti termici
  • Fabbricazione di semiconduttori
  • Sintesi di materiali
  • Deposizione di film sottili
  • Nanotecnologia
  • Optoelettronica
  • Aerospaziale
  • Immagazzinamento di energia
  • Ingegneria biomedica

Caratteristiche

Il forno CVD Tube Furnace è un forno versatile e ad alte prestazioni, ideale per una varietà di applicazioni nella ricerca e nell'industria. Grazie alle sue caratteristiche e capacità avanzate, questo forno può aiutarvi a ottenere i migliori risultati possibili nel vostro lavoro.

  • Controllo della temperatura multizona: questo forno è dotato di controllo della temperatura multizona, che consente di controllare con precisione la temperatura in diverse zone del forno. Questo è essenziale per le applicazioni in cui è necessario creare un profilo o un gradiente di temperatura specifico.
  • Capacità di temperatura elevata: questo forno può raggiungere temperature fino a 1200°C, il che lo rende ideale per un'ampia gamma di applicazioni. Questa capacità di alta temperatura consente di eseguire processi impegnativi come CVD, diffusione e altri termotrattamenti.
  • Protezione dal vuoto o dall'atmosfera: Questo forno può essere utilizzato sotto vuoto o in atmosfera, rendendolo adatto a una vasta gamma di applicazioni. Questa versatilità consente di eseguire processi che richiedono un'atmosfera specifica o un ambiente sotto vuoto.
  • Facile da usare: questo forno è facile da usare, con un'interfaccia intuitiva e comandi intuitivi. Ciò rende facile l'impostazione e il funzionamento del forno, anche per gli utenti con poca esperienza.
  • Design compatto: Questo forno è compatto e leggero, facile da installare e da utilizzare in diversi spazi. Questo design compatto lo rende ideale per l'uso in laboratori e altri ambienti con limiti di spazio.

Principio

La deposizione chimica da vapore (CVD) è una tecnica di deposizione di film sottili in cui un materiale solido viene depositato su un substrato da una fase gassosa. Il substrato viene riscaldato a una temperatura elevata e un gas contenente il materiale desiderato viene introdotto nella camera. Il gas reagisce con il substrato e il materiale desiderato si deposita sulla superficie.

I forni tubolari CVD sono utilizzati per i processi CVD. Il forno è costituito da un tubo riscaldato, in genere di quarzo o allumina. Il substrato viene posizionato all'interno del tubo e il gas viene introdotto nel tubo. Il gas scorre attraverso il tubo e reagisce con il substrato, depositando il materiale desiderato sulla superficie.

I forni a tubo CVD possono essere utilizzati per depositare un'ampia varietà di materiali, tra cui metalli, ossidi, nitruri e carburi. Il processo è utilizzato nella produzione di semiconduttori, celle solari e altri dispositivi elettronici.

Sono disponibili sistemi CVD a diverse temperature e configurazioni

 Forno CVD split con gassificatore e sensore di pressione positiva
1.Sensore di pressione;2.Sensore di pressione;3.Silano;4.Acetilene;5.Azoto;6.Vapore liquido;7.Gas di riserva;8.Manometro;
Forno CVD verticale per letto fluido
Forno CVD verticale per letto fluido
Forno CVD 1600C con guida di scorrimento del portacampioni
Forno CVD da 1600℃ con guida di scorrimento del portacampioni
Forno CVD a trattamento termico rapido RTP con tubo di reazione a scorrimento
Forno CVD a trattamento termico rapido RTP con tubo di reazione a scorrimento
Mini forno CVD con monitor di emissione e sistema di cottura
Mini forno CVD con monitor di emissione e sistema di cottura

Vantaggi

  • Elevata uniformità della temperatura: il design a più zone garantisce una distribuzione uniforme della temperatura in tutto il forno, fattore critico per i processi CVD.
  • Controllo preciso della temperatura: Il termoregolatore digitale consente un controllo preciso della temperatura del forno, essenziale per ottenere risultati ripetibili e affidabili.
  • Elevata capacità di vuoto: Il tasso di vuoto massimo di 10^-7 torr consente di rimuovere i contaminanti dalla camera di reazione, condizione necessaria per ottenere film CVD di alta qualità.
  • Facile da usare: l'interfaccia intuitiva rende il forno facile da usare, anche per gli utenti meno esperti.
  • Versatile: il forno può essere utilizzato per un'ampia gamma di processi CVD, tra cui la deposizione di metalli, la lavorazione di semiconduttori e la sintesi di nanotubi di carbonio.
  • Design compatto: Il design compatto del forno lo rende ideale per l'uso in laboratori con limiti di spazio.
  • Conveniente: Il forno ha un prezzo competitivo e rappresenta un ottimo rapporto qualità-prezzo.

Specifiche tecniche

Modello del forno KT-CTF16-60
Temperatura massima 1600℃
Temperatura di lavoro costante 1550℃
Materiale del tubo del forno Tubo Al2O3 di elevata purezza
Diametro del tubo del forno 60 mm
Zona di riscaldamento 3x300mm
Materiale della camera Fibra policristallina di allumina
Elemento di riscaldamento Carburo di silicio
Velocità di riscaldamento 0-10℃/min
Coppia termica Tipo S
Regolatore di temperatura Controllore PID digitale/controllore PID touch screen
Precisione del controllo della temperatura ±1℃
Unità di controllo preciso del gas
Misuratore di portata Misuratore di portata massica MFC
Canali gas 3 canali
Portata MFC1: 0-5SCCM O2
MFC2: 0-20SCMCH4
MFC3: 0-100 SCCM H2
MFC4: 0-500 SCCM N2
Linearità ±0,5% F.S.
Ripetibilità ±0,2% F.S.
Linea di tubi e valvola Acciaio inossidabile
Pressione massima di esercizio 0,45MPa
Controllore del flussometro Controllore digitale a manopola/controller a schermo tattile
Unità di vuoto standard (opzionale)
Pompa per vuoto Pompa per vuoto rotativa a palette
Portata della pompa 4L/S
Porta di aspirazione del vuoto KF25
Vacuometro Vacuometro Pirani/Resistenza al silicone
Pressione nominale del vuoto 10Pa
Unità per alto vuoto (opzionale)
Pompa per vuoto Pompa rotativa a palette+pompa molecolare
Portata della pompa 4L/S+110L/S
Porta di aspirazione del vuoto KF25
Vacuometro Vacuometro composto
Pressione nominale del vuoto 6x10-5Pa
Le specifiche e le configurazioni di cui sopra possono essere personalizzate

Pacchetto standard

No. Descrizione Quantità
1 Forno 1
2 Tubo di quarzo 1
3 Flangia per il vuoto 2
4 Blocco termico del tubo 2
5 Gancio del blocco termico a tubo 1
6 Guanto resistente al calore 1
7 Controllo preciso del gas 1
8 Unità per il vuoto 1
9 Manuale operativo 1

Configurazione opzionale

  • Rilevamento e monitoraggio dei gas in tubo, come H2, O2 e così via
  • Monitoraggio e registrazione indipendente della temperatura del forno
  • Porta di comunicazione RS 485 per il controllo remoto del PC e l'esportazione dei dati
  • Controllo della portata di alimentazione dei gas inseriti, come flussimetro di massa e flussimetro a galleggiante
  • Controllore di temperatura touch screen con funzioni versatili e di facile utilizzo per l'operatore
  • Configurazione della stazione di pompaggio ad alto vuoto, come pompa a vuoto a palette, pompa molecolare, pompa di diffusione

Avvertenze

La sicurezza dell'operatore è la questione più importante! Si prega di utilizzare l'apparecchiatura con cautele. Lavorare con gas infiammabili, esplosivi o tossici è molto complicato pericoloso, gli operatori devono prendere tutte le precauzioni necessarie prima di avviare il attrezzatura. Lavorare con pressione positiva all'interno dei reattori o delle camere lo è pericoloso, l'operatore deve rispettare rigorosamente le procedure di sicurezza. Extra è necessario prestare attenzione anche quando si opera con materiali reattivi all'aria, soprattutto sotto vuoto. Una perdita può far entrare aria nell'apparecchio e causare a si verifichi una reazione violenta.

Progettato per te

KinTek fornisce servizi e attrezzature su misura ai clienti di tutto il mondo, il nostro lavoro di squadra specializzato e gli ingegneri esperti e ricchi sono in grado di farlo intraprendere la personalizzazione dei requisiti hardware e software di personalizzazione, e aiutare i nostri clienti a costruire attrezzature esclusive e personalizzate e soluzione!

Vuoi comunicarci le tue idee, i nostri ingegneri sono pronti per te adesso!

FAQ

Che cos'è il forno CVD?

La deposizione chimica da vapore (CVD) è una tecnologia che utilizza varie fonti di energia, come il riscaldamento, l'eccitazione del plasma o la radiazione luminosa, per far reagire chimicamente sostanze chimiche gassose o vaporizzate in fase gassosa o nell'interfaccia gas-solido e formare depositi solidi nel reattore per mezzo di una reazione chimica.

Il forno CVD è un sistema combinato di forni con unità di forni a tubo ad alta temperatura, unità di controllo dei gas e unità di vuoto, ampiamente utilizzato per la sperimentazione e la produzione di preparazione di materiali compositi, processi microelettronici, semiconduttori optoelettronici, utilizzo dell'energia solare, comunicazione in fibra ottica, tecnologia dei superconduttori, campo dei rivestimenti protettivi.

Che cos'è un forno a tubi?

Il forno per tubi da laboratorio è un classico forno per tubi ad alta temperatura a riscaldamento esterno, chiamato anche forno per riscaldamento a parete calda.

In base alle diverse temperature di lavoro, il materiale del tubo del forno può essere costituito da tubi di quarzo trasparente, tubi di ceramica di allumina ad alta purezza e tubi di leghe metalliche ad alta resistenza.

Per soddisfare diversi scopi di ricerca termica, il forno a tubi può essere progettato con più zone di riscaldamento, in modo da avere un controllo flessibile del gradiente di temperatura nella camera di lavoro del tubo; il tubo del forno può lavorare in un ambiente di lavoro ad atmosfera controllata o in un ambiente di lavoro ad alto vuoto.

Che cos'è la CVD (Chemical Vapor Deposition) e quali sono i suoi principali vantaggi?

La CVD, o deposizione chimica da vapore, è un processo in cui i materiali vengono depositati su un substrato dalla fase di vapore. I vantaggi principali includono la possibilità di rivestire superfici ad accesso limitato, un'ampia gamma di materiali di rivestimento (metalli, leghe e ceramiche), livelli di porosità molto bassi, elevata purezza e produzione economica con grandi numeri di lotti.

Come funziona il forno CVD?

Il sistema di forni CVD è costituito da un'unità di forni tubolari ad alta temperatura, da un'unità di controllo preciso della fonte di gas di reazione, da una stazione di pompa a vuoto e da parti di assemblaggio corrispondenti.

La pompa a vuoto serve a rimuovere l'aria dal tubo di reazione e ad assicurarsi che non vi siano gas indesiderati all'interno del tubo di reazione, dopodiché il forno tubolare riscalderà il tubo di reazione fino a raggiungere la temperatura desiderata, quindi l'unità di controllo preciso della fonte di gas di reazione potrà introdurre gas diversi con un rapporto prestabilito nel tubo del forno per la reazione chimica, e la deposizione di vapore chimico si formerà nel forno CVD.

Che cos'è il metodo PECVD?

La PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) è un processo utilizzato nella produzione di semiconduttori per depositare film sottili su dispositivi microelettronici, celle fotovoltaiche e pannelli di visualizzazione. Nella PECVD, un precursore viene introdotto nella camera di reazione allo stato gassoso e l'assistenza di mezzi reattivi al plasma dissocia il precursore a temperature molto più basse rispetto alla CVD. I sistemi PECVD offrono un'eccellente uniformità del film, un processo a bassa temperatura e un'elevata produttività. Sono utilizzati in un'ampia gamma di applicazioni e svolgeranno un ruolo sempre più importante nell'industria dei semiconduttori con la continua crescita della domanda di dispositivi elettronici avanzati.

Come funziona un forno a tubi?

Gli elementi riscaldanti del forno a tubo sono posizionati intorno alla cavità cilindrica; il forno può riscaldare i campioni nella cavità cilindrica solo attraverso la radiazione termica indiretta, poiché il tubo del forno può evitare che il materiale del campione entri in contatto con gli elementi riscaldanti del forno e i materiali isolanti; il forno a tubo crea quindi una camera di calore isolata e pulita e riduce i rischi di contaminazione del materiale del campione da parte del forno.

Quali sono i metodi utilizzati per depositare film sottili?

I due metodi principali utilizzati per depositare film sottili sono la deposizione chimica da vapore (CVD) e la deposizione fisica da vapore (PVD). La CVD prevede l'introduzione di gas reagenti in una camera, dove reagiscono sulla superficie del wafer per formare un film solido. La PVD non prevede reazioni chimiche, ma la creazione di vapori dei materiali costituenti all'interno della camera, che poi si condensano sulla superficie del wafer per formare un film solido. I tipi più comuni di PVD includono la deposizione per evaporazione e la deposizione per sputtering. I tre tipi di tecniche di deposizione per evaporazione sono l'evaporazione termica, l'evaporazione a fascio di elettroni e il riscaldamento induttivo.

Quali sono le applicazioni più comuni dei materiali CVD?

I materiali CVD sono utilizzati in diverse applicazioni, come utensili da taglio, altoparlanti, utensili di ravvivatura, matrici per trafilatura, gestione termica, elettronica, ottica, rilevamento, tecnologie quantistiche e altro ancora. Sono apprezzati per la loro superiore conduttività termica, la durata e le prestazioni in diversi ambienti.

Che cos'è l'Mpcvd?

MPCVD è l'acronimo di Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition ed è un processo di deposito di film sottili su una superficie. Utilizza una camera a vuoto, un generatore di microonde e un sistema di erogazione di gas per creare un plasma composto da sostanze chimiche che reagiscono e dai catalizzatori necessari. L'MPCVD è molto utilizzato nella rete ANFF per depositare strati di diamante utilizzando metano e idrogeno per far crescere nuovo diamante su un substrato con seme di diamante. Si tratta di una tecnologia promettente per la produzione di diamanti di grandi dimensioni a basso costo e di alta qualità ed è ampiamente utilizzata nell'industria dei semiconduttori e del taglio dei diamanti.

Come funziona il PACVD?

Il PACVD funziona introducendo una miscela di gas precursori in una camera a vuoto, dove viene generato un plasma. La sorgente di plasma, in genere un generatore a radiofrequenza (RF), eccita i gas, scomponendoli in specie reattive. Queste specie reattive reagiscono poi con la superficie del substrato, formando un rivestimento a film sottile. Il plasma favorisce anche l'attivazione e la pulizia del substrato, promuovendo l'adesione e migliorando le proprietà del film.

Qual è il principio di base della CVD?

Il principio di base della deposizione chimica da vapore (CVD) consiste nell'esporre un substrato a uno o più precursori volatili che reagiscono o si decompongono sulla sua superficie per produrre un deposito di film sottile. Questo processo può essere utilizzato per diverse applicazioni, come film di modellazione, materiali isolanti e strati metallici conduttori. La CVD è un processo versatile che può sintetizzare rivestimenti, polveri, fibre, nanotubi e componenti monolitici. È anche in grado di produrre la maggior parte dei metalli e delle leghe metalliche e dei loro composti, semiconduttori e sistemi non metallici. La deposizione di un solido su una superficie riscaldata a seguito di una reazione chimica in fase di vapore caratterizza il processo CVD.

Che cos'è la PECVD RF?

RF PECVD è l'acronimo di radio-frequency plasma-enhanced chemical vapor deposition, una tecnica utilizzata per preparare film policristallini su un substrato utilizzando un plasma a scarica di bagliore per influenzare il processo durante la deposizione di vapore chimico a bassa pressione. Il metodo PECVD a radiofrequenza è ben consolidato per la tecnologia dei circuiti integrati al silicio standard, che prevede l'utilizzo di wafer piatti come substrati. Questo metodo è vantaggioso per la possibilità di fabbricare film a basso costo e per l'elevata efficienza di deposizione. I materiali possono essere depositati anche come film a indice di rifrazione graduato o come una pila di nano-film, ciascuno con proprietà diverse.

Quale gas viene utilizzato nel processo CVD?

Ci sono diverse fonti di gas che possono essere utilizzate nel processo CVD, le reazioni chimiche comuni della CVD includono pirolisi, fotolisi, riduzione, ossidazione, ossidoriduzione, quindi i gas coinvolti in queste reazioni chimiche possono essere utilizzati nel processo CVD.

Prendiamo ad esempio la crescita di grafene CVD, i gas utilizzati nel processo CVD saranno CH4, H2, O2 e N2.

A cosa serve la PECVD?

Il metodo PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) è ampiamente utilizzato nell'industria dei semiconduttori per la fabbricazione di circuiti integrati e nei settori fotovoltaico, tribologico, ottico e biomedico. Viene utilizzata per depositare film sottili per dispositivi microelettronici, celle fotovoltaiche e pannelli di visualizzazione. La PECVD può produrre composti e film unici che non possono essere creati solo con le comuni tecniche CVD e film che dimostrano un'elevata resistenza ai solventi e alla corrosione e una stabilità chimica e termica. Viene inoltre utilizzata per produrre polimeri organici e inorganici omogenei su ampie superfici e carbonio simile al diamante (DLC) per applicazioni tribologiche.

Quali sono le applicazioni del forno a tubi?

Il forno tubolare è utilizzato principalmente in metallurgia, vetro, trattamento termico, materiali anodici e catodici al litio, nuove energie, abrasivi e altre industrie, ed è un'apparecchiatura professionale per la misurazione dei materiali in determinate condizioni di temperatura.

Il forno tubolare è caratterizzato da una struttura semplice, un funzionamento facile, un controllo facile e una produzione continua.

Il forno tubolare è anche ampiamente applicato nei sistemi CVD (deposizione di vapore chimico) e CVD potenziati al plasma.

Cosa sono le apparecchiature per la deposizione di film sottili?

Le apparecchiature per la deposizione di film sottili si riferiscono agli strumenti e ai metodi utilizzati per creare e depositare rivestimenti di film sottili su un materiale di supporto. Questi rivestimenti possono essere realizzati in vari materiali e avere caratteristiche diverse che possono migliorare o alterare le prestazioni del substrato. La deposizione fisica da vapore (PVD) è una tecnica popolare che prevede la vaporizzazione di un materiale solido nel vuoto e il successivo deposito su un substrato. Altri metodi includono l'evaporazione e lo sputtering. Le apparecchiature per la deposizione di film sottili sono utilizzate, tra l'altro, nella produzione di dispositivi optoelettronici, impianti medici e ottica di precisione.

Quali tipi di materiali CVD sono disponibili?

Esistono diversi tipi di materiali CVD, tra cui i rivestimenti in diamante CVD, le cupole in diamante CVD, il diamante CVD per gli utensili di ravvivatura, gli spezzoni di filiera in diamante CVD, gli spezzoni di utensili da taglio in diamante CVD, il diamante drogato con boro CVD, il diamante CVD per la gestione termica e altro ancora. Ciascun tipo è adatto ad applicazioni specifiche.

Che cos'è la macchina Mpcvd?

La macchina MPCVD (Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition) è un'apparecchiatura di laboratorio utilizzata per la produzione di film di diamante di alta qualità. Utilizza un gas contenente carbonio e un plasma a microonde per creare una sfera di plasma sopra il substrato di diamante, che lo riscalda a una temperatura specifica. La sfera di plasma non entra in contatto con la parete della cavità, rendendo il processo di crescita del diamante privo di impurità e migliorando la qualità del diamante. Il sistema MPCVD è composto da una camera a vuoto, un generatore di microonde e un sistema di erogazione del gas che controlla il flusso di gas nella camera.

PACVD è PECVD?

Sì, PACVD (plasma-assisted chemical vapor deposition) è un altro termine per PECVD (plasma-enhanced chemical vapor deposition). Questo processo utilizza un plasma energetico formato in un campo elettrico per attivare la reazione CVD a temperature inferiori rispetto alla CVD termica, rendendolo ideale per substrati o film depositati con un budget termico ridotto. Variando il plasma, è possibile aggiungere un ulteriore controllo alle proprietà del film depositato. La maggior parte dei processi PECVD viene condotta a bassa pressione per stabilizzare il plasma di scarica.

Quali sono i diversi tipi di metodi CVD?

I diversi tipi di metodi CVD comprendono la CVD a pressione atmosferica (APCVD), la CVD a bassa pressione (LPCVD), la CVD ad altissimo vuoto, la CVD supportata da aerosol, la CVD a iniezione diretta di liquidi, la CVD a parete calda, la CVD a parete fredda, la CVD al plasma a microonde, la CVD potenziata al plasma (PECVD), la CVD potenziata al plasma a distanza, la CVD potenziata al plasma a bassa energia, la CVD a strato atomico, la CVD a combustione e la CVD a filamento caldo. Questi metodi si differenziano per il meccanismo di innesco delle reazioni chimiche e per le condizioni operative.

Come funziona la PECVD a radiofrequenza?

La PECVD RF funziona creando un plasma in una camera a vuoto. Il gas precursore viene introdotto nella camera e la potenza della radiofrequenza viene applicata per creare un campo elettrico. Questo campo elettrico provoca la ionizzazione del gas precursore, formando un plasma. Il plasma contiene specie reattive che possono reagire chimicamente con la superficie del substrato, portando alla deposizione di un film sottile. La potenza della radiofrequenza aiuta anche a controllare l'energia del plasma, consentendo un migliore controllo delle proprietà del film, come la composizione, l'uniformità e l'adesione. I parametri del processo, come la portata del gas, la pressione e la potenza RF, possono essere regolati per ottimizzare il processo di deposizione del film.

Qual è il vantaggio del sistema CVD?

  • È possibile produrre un'ampia gamma di film, film metallici, film non metallici e film in lega multicomponente, a seconda delle esigenze. Allo stesso tempo, può preparare cristalli di alta qualità difficilmente ottenibili con altri metodi, come GaN, BP, ecc.
  • La velocità di formazione del film è rapida, di solito diversi micron al minuto o addirittura centinaia di micron al minuto. È possibile depositare simultaneamente grandi quantità di rivestimenti con una composizione uniforme, cosa incomparabile con altri metodi di preparazione del film, come l'epitassia in fase liquida (LPE) e l'epitassia a fascio molecolare (MBE).
  • Le condizioni di lavoro sono realizzate in condizioni di pressione normale o di basso vuoto, quindi il rivestimento ha una buona diffrazione e i pezzi con forme complesse possono essere rivestiti uniformemente, il che è molto superiore alla PVD.
  • La deposizione chimica da vapore può ottenere una superficie di deposizione liscia. Rispetto all'LPE, infatti, la deposizione da vapore chimico (CVD) avviene in condizioni di elevata saturazione, con un alto tasso di nucleazione, un'alta densità di nucleazione e una distribuzione uniforme su tutto il piano, con il risultato di una superficie macroscopica liscia. Allo stesso tempo, nella deposizione da vapore chimico, il percorso libero medio delle molecole (atomi) è molto più grande di quello dell'LPE, quindi la distribuzione spaziale delle molecole è più uniforme, il che favorisce la formazione di una superficie di deposizione liscia.
  • Basso danno da radiazioni, che è una condizione necessaria per la produzione di semiconduttori in ossido di metallo (MOS) e altri dispositivi

Quali sono i vantaggi della PECVD?

I vantaggi principali della PECVD sono la capacità di operare a temperature di deposizione più basse, garantendo una migliore conformità e una copertura a gradini su superfici irregolari, un controllo più stretto del processo di film sottile e tassi di deposizione elevati. La PECVD consente applicazioni di successo in situazioni in cui le temperature CVD convenzionali potrebbero potenzialmente danneggiare il dispositivo o il substrato da rivestire. Operando a una temperatura più bassa, la PECVD crea meno stress tra gli strati di film sottile, consentendo prestazioni elettriche ad alta efficienza e incollaggi secondo standard molto elevati.

Quanti tipi diversi di forno a tubi?

Il forno a tubi può lavorare con diverse funzioni meccaniche senza problemi, quindi ci sono molti tipi diversi di forni a tubi per diversi scopi di sperimentazione, i tipici forni a tubi sono i seguenti:

  • Forno a tubo orizzontale
  • Forno a tubo verticale
  • Forno a tubo diviso
  • Forno a tubo rotante
  • Forno a tubo inclinabile
  • Forno a tubo scorrevole
  • Forno a tubo a riscaldamento e raffreddamento rapido
  • Forno a tubo ad alimentazione e scarico continui

Che cos'è la tecnologia di deposizione a film sottile?

La tecnologia di deposizione a film sottile è il processo di applicazione di un film sottilissimo di materiale, di spessore variabile da pochi nanometri a 100 micrometri, sulla superficie di un substrato o su rivestimenti precedentemente depositati. Questa tecnologia è utilizzata nella produzione dell'elettronica moderna, compresi semiconduttori, dispositivi ottici, pannelli solari, CD e unità disco. Le due grandi categorie di deposizione di film sottili sono la deposizione chimica, in cui un cambiamento chimico produce un rivestimento depositato chimicamente, e la deposizione fisica da vapore, in cui un materiale viene rilasciato da una fonte e depositato su un substrato utilizzando processi meccanici, elettromeccanici o termodinamici.

In che modo il diamante CVD migliora le prestazioni degli utensili da taglio?

Il diamante CVD migliora gli utensili da taglio offrendo una resistenza superiore all'usura, un basso attrito e un'elevata conduttività termica. Questo li rende ideali per la lavorazione di materiali non ferrosi, ceramici e compositi, garantendo una maggiore durata dell'utensile e migliori prestazioni.

Quali sono i vantaggi dell'Mpcvd?

L'MPCVD presenta diversi vantaggi rispetto ad altri metodi di produzione dei diamanti, come una maggiore purezza, un minore consumo energetico e la possibilità di produrre diamanti più grandi.

Quali sono i vantaggi dell'uso del PACVD?

Il PACVD offre diversi vantaggi nelle applicazioni di rivestimento a film sottile. In primo luogo, l'uso del plasma consente temperature di processo più basse rispetto ad altri metodi di deposizione, riducendo lo stress termico sul substrato. Il PACVD consente inoltre un controllo preciso della composizione e della struttura del rivestimento, permettendo di ottenere proprietà personalizzate del film. Il plasma aumenta la reattività dei gas precursori, migliorando la qualità, la densità e l'adesione del film. Inoltre, il PACVD può essere utilizzato per depositare rivestimenti su forme complesse e materiali delicati, rendendolo versatile per vari settori.

Quali sono i vantaggi dell'utilizzo di macchine per la deposizione da vapore chimico?

Le macchine per la deposizione di vapore chimico offrono diversi vantaggi nella deposizione di film sottili. Consentono un controllo preciso delle proprietà del film, come lo spessore, la composizione e l'uniformità. La CVD può depositare film su grandi superfici e forme complesse, rendendola adatta a un'ampia gamma di applicazioni. La tecnica consente la deposizione di una varietà di materiali, tra cui metalli, semiconduttori, ceramiche e composti organici. I film CVD possono presentare un'eccellente adesione, purezza e conformità alla superficie del substrato. Inoltre, le macchine CVD possono operare a temperature relativamente basse, riducendo lo stress termico sul substrato e consentendo la deposizione su materiali sensibili alla temperatura.

Quali sono i vantaggi della PECVD a radiofrequenza?

La PECVD a radiofrequenza offre diversi vantaggi per la deposizione di film sottili. In primo luogo, consente la deposizione di film di alta qualità con un eccellente controllo delle proprietà del film, quali spessore, composizione e uniformità. L'uso di un plasma aumenta la reattività del processo, consentendo la deposizione di film a temperature più basse rispetto ai metodi CVD termici tradizionali. La PECVD a radiofrequenza offre anche una migliore copertura del gradino, consentendo la deposizione di film in strutture ad alto rapporto d'aspetto. Un altro vantaggio è la capacità di depositare un'ampia gamma di materiali, tra cui nitruro di silicio, biossido di silicio, silicio amorfo e vari altri materiali a film sottile. Il processo è altamente scalabile e può essere facilmente integrato nei processi produttivi esistenti. Inoltre, la PECVD RF è un metodo relativamente economico rispetto ad altre tecniche di deposizione di film sottili.

Che cosa significa PECVD?

PECVD è una tecnologia che utilizza il plasma per attivare il gas di reazione, promuovere la reazione chimica sulla superficie del substrato o nello spazio vicino alla superficie e generare un film solido. Il principio di base della tecnologia di deposizione di vapore chimico al plasma è che, sotto l'azione di un campo elettrico RF o DC, il gas di partenza viene ionizzato per formare un plasma, il plasma a bassa temperatura viene utilizzato come fonte di energia, viene introdotta una quantità appropriata di gas di reazione e la scarica di plasma viene utilizzata per attivare il gas di reazione e realizzare la deposizione di vapore chimico.

Secondo il metodo di generazione del plasma, può essere suddiviso in plasma RF, plasma DC e microonde CVD, ecc.

Qual è la differenza tra ALD e PECVD?

L'ALD è un processo di deposizione di film sottili che consente una risoluzione atomica dello spessore dello strato, un'eccellente uniformità delle superfici ad alto rapporto d'aspetto e strati privi di fori. Ciò si ottiene grazie alla formazione continua di strati atomici in una reazione autolimitante. La PECVD, invece, prevede la miscelazione del materiale di partenza con uno o più precursori volatili, utilizzando un plasma per interagire chimicamente e scomporre il materiale di partenza. I processi utilizzano il calore con pressioni più elevate, che portano a un film più riproducibile in cui lo spessore del film può essere gestito in base al tempo/alla potenza. Questi film sono più stechiometrici, più densi e sono in grado di produrre film isolanti di qualità superiore.

Quali sono i vantaggi dell'utilizzo di un forno a tubi?

I forni a tubi offrono diversi vantaggi per le applicazioni ad alta temperatura. In primo luogo, forniscono un controllo preciso e uniforme della temperatura, consentendo processi di riscaldamento accurati e ripetibili. Questo è fondamentale per la ricerca sui materiali e per le applicazioni di trattamento termico, dove la costanza della temperatura è essenziale. In secondo luogo, i forni a tubi hanno un design compatto, che li rende adatti all'uso in spazi limitati di laboratorio o industriali. Sono anche versatili e possono ospitare un'ampia gamma di dimensioni e forme di campioni. Inoltre, i forni a tubi sono efficienti dal punto di vista energetico, poiché in genere hanno un buon isolamento e possono raggiungere rapidamente temperature elevate. Alcuni modelli offrono anche profili di temperatura programmabili, consentendo cicli di riscaldamento e raffreddamento automatizzati. In generale, i forni a tubi consentono processi ad alta temperatura efficienti e controllati in vari settori scientifici e industriali.

Quali sono i vantaggi dell'utilizzo di apparecchiature per la deposizione di film sottili?

Le apparecchiature per la deposizione di film sottili offrono diversi vantaggi in vari settori industriali e di ricerca. Consentono un controllo preciso delle proprietà del film, come lo spessore, la composizione e la struttura, permettendo di ottenere materiali su misura con funzionalità specifiche. I film sottili possono essere depositati su grandi superfici, forme complesse e diversi materiali di supporto. Il processo di deposizione può essere ottimizzato per ottenere un'elevata uniformità, adesione e purezza dei film. Inoltre, le apparecchiature per la deposizione di film sottili possono operare a temperature relativamente basse, riducendo lo stress termico sul substrato e consentendo la deposizione su materiali sensibili alla temperatura. I film sottili trovano applicazione in campi quali l'elettronica, l'ottica, l'energia, i rivestimenti e i dispositivi biomedici, offrendo prestazioni, protezione o funzionalità migliorate.

Cosa rende le cupole in diamante CVD adatte agli altoparlanti ad alte prestazioni?

Le cupole in diamante CVD sono adatte agli altoparlanti ad alte prestazioni grazie alla loro eccezionale qualità sonora, durata e capacità di gestione della potenza. Realizzate con la tecnologia DC Arc Plasma Jet, offrono prestazioni acustiche superiori per applicazioni audio di alto livello.

I diamanti CVD sono veri o falsi?

I diamanti CVD sono diamanti veri e non falsi. Vengono coltivati in laboratorio attraverso un processo chiamato Chemical Vapor Deposition (CVD). A differenza dei diamanti naturali, che vengono estratti dal sottosuolo, i diamanti CVD vengono creati in laboratorio con tecnologie avanzate. Questi diamanti sono composti al 100% da carbonio e rappresentano la forma più pura di diamante, nota come diamante di tipo IIa. Hanno le stesse proprietà ottiche, termiche, fisiche e chimiche dei diamanti naturali. L'unica differenza è che i diamanti CVD vengono creati in laboratorio e non estratti dalla terra.

Quali sono le applicazioni più comuni del PACVD?

Il PACVD ha un'ampia gamma di applicazioni in settori come quello automobilistico, aerospaziale, elettronico e biomedico. Viene comunemente utilizzato per la deposizione di rivestimenti decorativi e resistenti all'usura su utensili da taglio, componenti di motori e parti di automobili. Il PACVD viene utilizzato anche per la produzione di rivestimenti barriera su dispositivi elettronici per aumentare la resistenza alla corrosione e migliorare le prestazioni. Nel settore biomedico, i rivestimenti PACVD vengono applicati agli impianti medici per promuovere la biocompatibilità e ridurre l'usura. Inoltre, il PACVD viene impiegato nell'industria ottica per la deposizione di rivestimenti antiriflesso e antigraffio su lenti e display.

Quali sono le applicazioni delle macchine per la deposizione di vapore chimico?

Le macchine per la deposizione chimica da vapore trovano applicazione in diversi settori industriali e di ricerca. Nell'industria dei semiconduttori, la CVD viene utilizzata per depositare film sottili per circuiti integrati, come il biossido di silicio e il nitruro di silicio. La CVD è impiegata anche nella produzione di celle solari a film sottile, dove vengono depositati materiali come il tellururo di cadmio o il seleniuro di rame-indio-gallio. Altre applicazioni includono la deposizione di rivestimenti protettivi, come i film di carbonio simile al diamante, i rivestimenti resistenti all'usura e i rivestimenti antiriflesso. La CVD viene utilizzata anche nella produzione di rivestimenti ottici, come i film sottili per specchi, filtri e guide d'onda.

Qual è la differenza tra CVD e PECVD?

La differenza tra PECVD e la tecnologia CVD tradizionale è che il plasma contiene un gran numero di elettroni ad alta energia, in grado di fornire l'energia di attivazione necessaria nel processo di deposizione di vapore chimico, cambiando così la modalità di approvvigionamento energetico del sistema di reazione. Poiché la temperatura degli elettroni nel plasma raggiunge i 10000K, la collisione tra gli elettroni e le molecole di gas può promuovere la rottura dei legami chimici e la ricombinazione delle molecole di gas di reazione per generare più gruppi chimici attivi, mentre l'intero sistema di reazione mantiene una temperatura più bassa.

Quindi, rispetto al processo CVD, la PECVD può realizzare lo stesso processo di deposizione chimica da vapore con una temperatura più bassa.

Qual è la differenza tra PECVD e sputtering?

PECVD e sputtering sono entrambe tecniche di deposizione fisica da vapore utilizzate per la deposizione di film sottili. La PECVD è un processo diffusivo guidato da gas che produce film sottili di alta qualità, mentre lo sputtering è un processo di deposizione a vista. La PECVD consente una migliore copertura su superfici irregolari come trincee, pareti e un'elevata conformità e può produrre composti e film unici. D'altra parte, lo sputtering è ottimo per la deposizione di strati sottili di diversi materiali, ideale per creare sistemi di rivestimento multistrato e multigraduato. La PECVD è utilizzata principalmente nell'industria dei semiconduttori, nei settori tribologico, ottico e biomedico, mentre lo sputtering è utilizzato soprattutto per i materiali dielettrici e le applicazioni tribologiche.

Quali sono le precauzioni di sicurezza da adottare quando si utilizza un forno a tubi?

Quando si utilizza un forno a tubi, è importante seguire le precauzioni di sicurezza per evitare incidenti e garantire la sicurezza dell'operatore e del campione. In primo luogo, è necessario fornire una formazione adeguata al personale che utilizza il forno per assicurarsi che ne comprenda il funzionamento, le caratteristiche di sicurezza e le procedure di emergenza. In secondo luogo, è necessario indossare adeguati dispositivi di protezione individuale (DPI), come guanti resistenti al calore, occhiali e camici da laboratorio, per proteggersi da ustioni e potenziali rischi. In terzo luogo, è fondamentale caricare correttamente il campione o il materiale all'interno del forno, assicurandosi che sia posizionato in modo sicuro e che non ostruisca il flusso d'aria. È necessario prevedere un'adeguata ventilazione per eliminare eventuali gas o fumi generati durante il riscaldamento. È inoltre importante ispezionare e mantenere regolarmente il forno, controllando anche gli elementi riscaldanti e i collegamenti elettrici, per garantire un funzionamento sicuro e affidabile.

Quali sono i fattori da considerare nella scelta di un'apparecchiatura per la deposizione di film sottili?

Nella scelta di un'apparecchiatura per la deposizione di film sottili si devono considerare diversi fattori. La tecnica (PVD, CVD, ALD, MBE) deve essere in linea con le proprietà desiderate del film e con il materiale specifico da depositare. Le dimensioni e la configurazione della camera di deposizione devono adattarsi alle dimensioni e alla forma del substrato. Le capacità dell'apparecchiatura in termini di controllo dello spessore del film, uniformità e velocità di deposizione devono soddisfare le esigenze dell'applicazione. Le considerazioni devono includere anche la disponibilità e la compatibilità dei materiali precursori o delle sorgenti target per la composizione del film desiderata. Altri fattori da considerare sono la facilità di funzionamento, i requisiti di manutenzione, l'affidabilità del sistema di vuoto ed eventuali caratteristiche aggiuntive, come il monitoraggio in situ o le opzioni di controllo. La consulenza di esperti o di produttori può fornire indicazioni preziose per la scelta dell'apparecchiatura di deposizione di film sottili più adatta a un'applicazione specifica.

In che modo il diamante CVD migliora la gestione termica dei dispositivi elettronici?

Il diamante CVD migliora la gestione termica dei dispositivi elettronici, offrendo un diamante di alta qualità con una conducibilità termica fino a 2000 W/mK. Questo lo rende ideale per l'uso in diffusori di calore, diodi laser e applicazioni GaN on Diamond (GOD), dissipando efficacemente il calore e migliorando le prestazioni del dispositivo.

Quali sono i fattori da considerare nella scelta di un sistema PACVD?

Quando si sceglie un sistema PACVD, si devono considerare diversi fattori. In primo luogo, il sistema deve avere una camera di dimensioni e configurazione adatte alle dimensioni del substrato e ai requisiti di produzione desiderati. La sorgente di plasma, come un generatore RF, deve essere in grado di generare e mantenere un plasma stabile. Il sistema deve inoltre fornire un controllo preciso dei parametri di processo, come la portata del gas, la pressione e la temperatura, per ottenere le proprietà del film desiderate. È importante considerare la compatibilità del sistema con i materiali di rivestimento desiderati e la disponibilità di gas precursori. Inoltre, il sistema deve avere caratteristiche di sicurezza adeguate e deve essere di facile utilizzo per facilitare il funzionamento e la manutenzione. Consultare i produttori e gli esperti del settore può aiutare a scegliere il sistema PACVD più adatto alle specifiche esigenze di rivestimento.

Quali sono i fattori da considerare nella scelta di una macchina per la deposizione di vapore chimico?

La scelta di una macchina per la deposizione chimica da vapore deve tenere conto di diversi fattori. Le proprietà del film richieste, come la composizione, lo spessore e l'uniformità, devono essere in linea con le capacità della macchina. Le dimensioni della camera di deposizione devono adattarsi alle dimensioni e alla forma del substrato desiderato. L'intervallo di temperatura e pressione della macchina deve corrispondere ai requisiti specifici di deposizione. È inoltre importante considerare la disponibilità e la compatibilità dei gas precursori per la deposizione del materiale desiderato. Altre considerazioni riguardano la facilità di funzionamento, i requisiti di manutenzione e il livello di automazione o le capacità di controllo. Inoltre, la consultazione con esperti o produttori può fornire indicazioni preziose per la scelta della macchina CVD più adatta a un'applicazione specifica.

Quali sono le considerazioni sulla sicurezza associate al funzionamento delle apparecchiature di deposizione di film sottili?

L'utilizzo di apparecchiature per la deposizione di film sottili richiede alcune considerazioni di sicurezza per garantire il benessere degli operatori e prevenire potenziali pericoli. Alcune tecniche di deposizione prevedono l'uso di temperature elevate, ambienti sotto vuoto o gas tossici. È necessario adottare protocolli di sicurezza adeguati, tra cui una formazione adeguata per gli operatori, l'uso di dispositivi di protezione individuale (DPI) e il rispetto delle linee guida sulla sicurezza fornite dal produttore dell'apparecchiatura e dagli enti normativi. Devono essere installati sistemi di ventilazione adeguati per gestire eventuali gas o sottoprodotti pericolosi generati durante il processo di deposizione. È necessario implementare sistemi di spegnimento di emergenza, allarmi e interblocchi per gestire eventi imprevisti o malfunzionamenti delle apparecchiature. Per garantire la sicurezza e la funzionalità dell'apparecchiatura, è necessario effettuare la manutenzione e le ispezioni periodiche. È fondamentale disporre di protocolli di sicurezza ben definiti e seguire le pratiche raccomandate per ridurre al minimo i rischi associati al funzionamento delle apparecchiature di deposizione di film sottile.

Le macchine per la deposizione chimica da vapore possono essere utilizzate per la deposizione di film sottili multistrato?

Sì, le macchine per la deposizione di vapore chimico possono essere utilizzate per la deposizione di film sottili multistrato. Controllando i parametri di deposizione e introducendo in sequenza diversi gas precursori, è possibile depositare più strati di materiali diversi su un substrato. Ciò consente di creare strutture complesse di film sottili con proprietà e funzionalità personalizzate. La sequenza di deposizione, la temperatura, la pressione e la portata dei gas per ogni strato possono essere controllate con precisione per ottenere la composizione e lo spessore del film desiderati. I film sottili multistrato trovano applicazione in diversi campi, come la microelettronica, l'optoelettronica e l'ingegneria delle superfici, dove i diversi strati svolgono funzioni specifiche o migliorano le prestazioni complessive del sistema materiale.
Visualizza altre domande frequenti per questo prodotto

4.9

out of

5

KT-CTF16 is a great furnace, it offers high-quality CVD processing with precise temperature control and customizable setups. The customer service is also top-notch, highly recommended!

Burton Fischer

4.8

out of

5

The furnace is very versatile and can be used for a variety of applications. The temperature control is accurate and the overall performance is excellent. I highly recommend this furnace to anyone who needs a reliable and versatile CVD system.

Mikaela Reyes

4.7

out of

5

The furnace has been a great addition to our lab. It's easy to use and maintain, and the results have been excellent. We've been able to produce high-quality materials with ease.

Aiden Patel

4.9

out of

5

The KT-CTF16 is a fantastic furnace. It's easy to use and the temperature control is very precise. We've been able to produce high-quality materials with ease. I would highly recommend this furnace to anyone who needs a reliable and versatile CVD system.

Isabella Garcia

4.8

out of

5

This furnace is an excellent choice for anyone who needs a versatile and reliable CVD system. It's easy to use and maintain, and the results have been consistent and of high quality. I highly recommend this furnace.

Liam Brown

4.7

out of

5

The KT-CTF16 is a great furnace for a variety of applications. It's easy to use and maintain, and the results have been excellent. We've been able to produce high-quality materials with ease.

Amelia White

4.9

out of

5

This furnace is a great investment. It's well-made and has a lot of features that make it easy to use. The customer service is also excellent. I would definitely recommend this furnace to anyone who needs a reliable and versatile CVD system.

Oliver Jones

4.8

out of

5

The furnace arrived quickly and was easy to set up. It's been working great so far and I'm very happy with it. The customer service has also been excellent.

Ava Johnson

4.7

out of

5

This furnace is a great value for the price. It's well-made and has a lot of features that make it easy to use. The customer service is also excellent. I would definitely recommend this furnace to anyone who needs a reliable and versatile CVD system.

Lucas Green

4.9

out of

5

The KT-CTF16 is a great furnace. It's easy to use and the temperature control is very precise. We've been able to produce high-quality materials with ease. I would highly recommend this furnace to anyone who needs a reliable and versatile CVD system.

Harper Davis

4.8

out of

5

This furnace is an excellent choice for anyone who needs a versatile and reliable CVD system. It's easy to use and maintain, and the results have been consistent and of high quality. I highly recommend this furnace.

Jackson Miller

4.7

out of

5

The KT-CTF16 is a great furnace for a variety of applications. It's easy to use and maintain, and the results have been excellent. We've been able to produce high-quality materials with ease.

Abigail Smith

4.9

out of

5

This furnace is a great investment. It's well-made and has a lot of features that make it easy to use. The customer service is also excellent. I would definitely recommend this furnace to anyone who needs a reliable and versatile CVD system.

Alexander Wilson

4.8

out of

5

The furnace arrived quickly and was easy to set up. It's been working great so far and I'm very happy with it. The customer service has also been excellent.

Sophia Rodriguez

4.7

out of

5

This furnace is a great value for the price. It's well-made and has a lot of features that make it easy to use. The customer service is also excellent. I would definitely recommend this furnace to anyone who needs a reliable and versatile CVD system.

Benjamin Walker

4.9

out of

5

The KT-CTF16 is a great furnace. It's easy to use and the temperature control is very precise. We've been able to produce high-quality materials with ease. I would highly recommend this furnace to anyone who needs a reliable and versatile CVD system.

Chloe Turner

PDF - Macchina CVD versatile con forno a tubo CVD, realizzata dal cliente

Scarica

Catalogo di Forno Cvd E Pecvd

Scarica

Catalogo di Forno Cvd

Scarica

Catalogo di Macchina Pecvd

Scarica

Catalogo di Forno A Tubi

Scarica

Catalogo di Apparecchiature Per La Deposizione Di Film Sottili

Scarica

Catalogo di Materiali Cvd

Scarica

Catalogo di Macchina Mpcvd

Scarica

Catalogo di Pacvd

Scarica

Catalogo di Macchina Cvd

Scarica

Catalogo di Rf Pecvd

Scarica

RICHIEDI UN PREVENTIVO

Il nostro team professionale ti risponderà entro un giorno lavorativo. Non esitare a contattarci!

Prodotti correlati

Forno tubolare CVD a più zone di riscaldamento Macchina CVD

Forno tubolare CVD a più zone di riscaldamento Macchina CVD

Forno CVD a più zone di riscaldamento KT-CTF14 - Controllo preciso della temperatura e del flusso di gas per applicazioni avanzate. Temperatura massima fino a 1200℃, misuratore di portata massica MFC a 4 canali e controller touch screen TFT da 7".

Forno tubolare CVD a camera split con macchina CVD a stazione sottovuoto

Forno tubolare CVD a camera split con macchina CVD a stazione sottovuoto

Efficiente forno CVD a camera divisa con stazione di vuoto per un controllo intuitivo del campione e un rapido raffreddamento. Temperatura massima di 1200℃ con controllo accurato del flussimetro di massa MFC.

Macchina per forno tubolare rotante inclinato per la deposizione chimica potenziata al plasma (PECVD)

Macchina per forno tubolare rotante inclinato per la deposizione chimica potenziata al plasma (PECVD)

Vi presentiamo il nostro forno PECVD rotativo inclinato per la deposizione precisa di film sottili. La sorgente si abbina automaticamente, il controllo della temperatura programmabile PID e il controllo del flussimetro di massa MFC ad alta precisione. Funzioni di sicurezza integrate per la massima tranquillità.

Forno a tubo verticale

Forno a tubo verticale

Elevate i vostri esperimenti con il nostro forno verticale a tubo. Il design versatile consente di operare in diversi ambienti e applicazioni di trattamento termico. Ordinate ora per ottenere risultati precisi!

Piccolo forno di sinterizzazione del filo di tungsteno sotto vuoto

Piccolo forno di sinterizzazione del filo di tungsteno sotto vuoto

Il piccolo forno a vuoto per la sinterizzazione del filo di tungsteno è un forno a vuoto sperimentale compatto, appositamente progettato per università e istituti di ricerca scientifica. Il forno è dotato di un guscio saldato a CNC e di tubazioni per il vuoto che garantiscono un funzionamento senza perdite. I collegamenti elettrici a connessione rapida facilitano il trasferimento e il debugging, mentre il quadro elettrico standard è sicuro e comodo da usare.

Forno tubolare multizona

Forno tubolare multizona

Sperimentate test termici precisi ed efficienti con il nostro forno tubolare multizona. Le zone di riscaldamento indipendenti e i sensori di temperatura consentono di ottenere campi di riscaldamento controllati a gradiente di temperatura elevato. Ordinate ora per un'analisi termica avanzata!

Forno tubolare Slide PECVD con gassificatore liquido Macchina PECVD

Forno tubolare Slide PECVD con gassificatore liquido Macchina PECVD

Sistema PECVD a scorrimento KT-PE12: Ampio range di potenza, controllo programmabile della temperatura, riscaldamento/raffreddamento rapido con sistema a scorrimento, controllo del flusso di massa MFC e pompa del vuoto.

Forno per grafitizzazione di film ad alta conducibilità termica

Forno per grafitizzazione di film ad alta conducibilità termica

Il forno per la grafitizzazione del film ad alta conducibilità termica ha una temperatura uniforme, un basso consumo energetico e può funzionare in modo continuo.

Forno a tubi rotanti a funzionamento continuo sigillato sotto vuoto

Forno a tubi rotanti a funzionamento continuo sigillato sotto vuoto

Provate il trattamento efficiente dei materiali con il nostro forno a tubi rotanti sigillati sotto vuoto. Perfetto per esperimenti o produzione industriale, dotato di funzioni opzionali per un'alimentazione controllata e risultati ottimizzati. Ordinate ora.

Forno a vuoto con rivestimento in fibra ceramica

Forno a vuoto con rivestimento in fibra ceramica

Forno a vuoto con rivestimento isolante in fibra ceramica policristallina per un eccellente isolamento termico e un campo di temperatura uniforme. È possibile scegliere tra una temperatura di lavoro massima di 1200℃ o 1700℃ con prestazioni di alto vuoto e un controllo preciso della temperatura.

1400℃ Forno a tubo con tubo di allumina

1400℃ Forno a tubo con tubo di allumina

Cercate un forno a tubi per applicazioni ad alta temperatura? Il nostro forno a tubo da 1400℃ con tubo in allumina è perfetto per la ricerca e l'uso industriale.

laboratorio di tubi rotanti inclinati sottovuoto

laboratorio di tubi rotanti inclinati sottovuoto

Scoprite la versatilità del forno rotante da laboratorio: ideale per calcinazione, essiccazione, sinterizzazione e reazioni ad alta temperatura. Funzioni di rotazione e inclinazione regolabili per un riscaldamento ottimale. Adatto per ambienti sotto vuoto e in atmosfera controllata. Per saperne di più!

1700℃ Forno a tubo con tubo in allumina

1700℃ Forno a tubo con tubo in allumina

Cercate un forno tubolare ad alta temperatura? Scoprite il nostro forno tubolare da 1700℃ con tubo in allumina. Perfetto per applicazioni industriali e di ricerca fino a 1700°C.

1800℃ Forno a muffola

1800℃ Forno a muffola

Forno a muffola KT-18 con fibra policristallina giapponese Al2O3 ed elemento riscaldante in molibdeno di silicio, fino a 1900℃, controllo della temperatura PID e touch screen intelligente da 7". Design compatto, bassa perdita di calore ed elevata efficienza energetica. Sistema di interblocco di sicurezza e funzioni versatili.

Forno a caldo per tubi sottovuoto

Forno a caldo per tubi sottovuoto

Riducete la pressione di formatura e abbreviate il tempo di sinterizzazione con il forno a caldo a tubi sottovuoto per materiali ad alta densità e a grana fine. Ideale per i metalli refrattari.

1400℃ Forno ad atmosfera controllata

1400℃ Forno ad atmosfera controllata

Ottenete un trattamento termico preciso con il forno ad atmosfera controllata KT-14A. Sigillato sotto vuoto e dotato di un controller intelligente, è ideale per l'uso in laboratorio e nell'industria fino a 1400℃.

Forno a grafitizzazione continua

Forno a grafitizzazione continua

Il forno di grafitizzazione ad alta temperatura è un'apparecchiatura professionale per il trattamento di grafitizzazione dei materiali di carbonio. È un'apparecchiatura chiave per la produzione di prodotti di grafite di alta qualità. Ha un'elevata temperatura, un'alta efficienza e un riscaldamento uniforme. È adatto per vari trattamenti ad alta temperatura e per i trattamenti di grafitizzazione. È ampiamente utilizzata nell'industria metallurgica, elettronica, aerospaziale, ecc.

1200℃ Forno a tubo diviso con tubo al quarzo

1200℃ Forno a tubo diviso con tubo al quarzo

Forno a tubo diviso KT-TF12: isolamento di elevata purezza, bobine di filo riscaldante incorporate e temperatura massima di 1200C. 1200C. Ampiamente utilizzato per i nuovi materiali e la deposizione di vapore chimico.

2200 ℃ Forno a vuoto per tungsteno

2200 ℃ Forno a vuoto per tungsteno

Provate il forno per metalli refrattari di ultima generazione con il nostro forno a vuoto al tungsteno. In grado di raggiungere i 2200℃, è perfetto per sinterizzare ceramiche avanzate e metalli refrattari. Ordinate ora per ottenere risultati di alta qualità.

1200℃ Forno ad atmosfera controllata

1200℃ Forno ad atmosfera controllata

Scoprite il nostro forno ad atmosfera controllata KT-12A Pro - alta precisione, camera a vuoto per impieghi gravosi, versatile controller intelligente con touch screen ed eccellente uniformità di temperatura fino a 1200C. Ideale per applicazioni di laboratorio e industriali.

1700℃ Forno a muffola

1700℃ Forno a muffola

Ottenete un controllo del calore superiore con il nostro forno a muffola da 1700℃. Dotato di microprocessore intelligente per la temperatura, controller TFT touch screen e materiali isolanti avanzati per un riscaldamento preciso fino a 1700C. Ordinate ora!

Forno di grafitizzazione sperimentale IGBT

Forno di grafitizzazione sperimentale IGBT

Forno per grafitizzazione sperimentale IGBT, una soluzione su misura per università e istituti di ricerca, con elevata efficienza di riscaldamento, facilità d'uso e controllo preciso della temperatura.

1200℃ Forno a muffola

1200℃ Forno a muffola

Aggiornate il vostro laboratorio con il nostro forno a muffola da 1200℃. Consente di ottenere un riscaldamento rapido e preciso grazie alle fibre di allumina giapponese e alle bobine di molibdeno. Dispone di un controller TFT touch screen per una facile programmazione e analisi dei dati. Ordinate ora!

Articoli correlati

Vantaggi dell'uso del forno tubolare CVD per il rivestimento

Vantaggi dell'uso del forno tubolare CVD per il rivestimento

I rivestimenti CVD presentano numerosi vantaggi rispetto ad altri metodi di rivestimento, come l'elevata purezza, la densità e l'uniformità, che li rendono ideali per molte applicazioni in vari settori.

Scopri di più
Forno CVD per la crescita di nanotubi di carbonio

Forno CVD per la crescita di nanotubi di carbonio

La tecnologia di deposizione chimica da vapore (CVD) è un metodo ampiamente utilizzato per la crescita di nanotubi di carbonio.

Scopri di più
Presentazione dei forni a tubi sottovuoto da laboratorio

Presentazione dei forni a tubi sottovuoto da laboratorio

Un forno a tubi sottovuoto è un tipo di forno che utilizza il vuoto per isolare l'atmosfera di processo dall'atmosfera esterna.

Scopri di più
Introduzione alla deposizione chimica da vapore (CVD)

Introduzione alla deposizione chimica da vapore (CVD)

La deposizione chimica da vapore, o CVD, è un processo di rivestimento che prevede l'uso di reagenti gassosi per produrre film sottili e rivestimenti di alta qualità.

Scopri di più
Vantaggi e svantaggi della deposizione chimica da vapore (CVD)

Vantaggi e svantaggi della deposizione chimica da vapore (CVD)

La deposizione da vapore chimico (CVD) è una tecnica versatile di deposizione di film sottili ampiamente utilizzata in vari settori. Scopritene i vantaggi, gli svantaggi e le potenziali nuove applicazioni.

Scopri di più
Esplorazione delle funzioni e dei vantaggi dei forni a tubi rotanti

Esplorazione delle funzioni e dei vantaggi dei forni a tubi rotanti

Scoprite come funzionano i forni a tubi rotanti e perché sono utilizzati nella lavorazione di materiali avanzati. Scoprite la tecnica di base dei forni rotativi e le loro caratteristiche personalizzabili. Esplorate i vantaggi dei forni a tubi rotanti rispetto ad altri tipi di forni.

Scopri di più
Forno PECVD Una soluzione a bassa potenza e bassa temperatura per la materia soffice

Forno PECVD Una soluzione a bassa potenza e bassa temperatura per la materia soffice

I forni PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) sono diventati una soluzione popolare per la deposizione di film sottili su superfici di materia morbida.

Scopri di più
Macchine CVD per la deposizione di film sottili

Macchine CVD per la deposizione di film sottili

La deposizione chimica da vapore (CVD) è una tecnica ampiamente utilizzata per la deposizione di film sottili su vari substrati.

Scopri di più
La versatilità dei forni a tubi: Guida alle applicazioni e ai vantaggi

La versatilità dei forni a tubi: Guida alle applicazioni e ai vantaggi

Il forno a tubi da laboratorio è un dispositivo di riscaldamento specializzato utilizzato nei laboratori scientifici e industriali per una serie di applicazioni.

Scopri di più
Esplorazione delle caratteristiche principali dei forni di riscaldamento a tubi

Esplorazione delle caratteristiche principali dei forni di riscaldamento a tubi

Un forno a tubi è un tipo specializzato di forno industriale che viene utilizzato in vari settori per riscaldare sostanze attraverso la combustione di combustibili.

Scopri di più
Esplorare i forni a tubi rotanti: Una guida completa

Esplorare i forni a tubi rotanti: Una guida completa

Scoprite il funzionamento dei forni a tubi rotanti, le loro diverse applicazioni e i vantaggi principali. Scoprite come funzionano questi forni, la loro idoneità a diversi processi e i fattori da considerare quando se ne sceglie uno. Scoprite perché i forni a tubi rotanti sono i preferiti nella lavorazione dei materiali avanzati.

Scopri di più
Deposizione di vapore chimico potenziata da plasma (PECVD): Una guida completa

Deposizione di vapore chimico potenziata da plasma (PECVD): Una guida completa

Scoprite tutto quello che c'è da sapere sulla Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD), una tecnica di deposizione di film sottili utilizzata nell'industria dei semiconduttori. Scopritene i principi, le applicazioni e i vantaggi.

Scopri di più