Forno CVD e PECVD
Macchina CVD versatile con forno a tubo CVD, realizzata dal cliente
Numero articolo : KT-CTF16
Il prezzo varia in base a specifiche e personalizzazioni
- Temperatura massima
- 1600 ℃
- Temperatura di lavoro costante
- 1550 ℃
- Diametro del tubo del forno
- 60 mm
- Zona di riscaldamento
- 3x300 mm
- Velocità di riscaldamento
- 0-10 ℃/min
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Il forno tubolare CVD è un forno ad alta temperatura utilizzato per i processi di deposizione di vapore chimico (CVD). È dotato di zone di riscaldamento multiple che consentono un controllo preciso della temperatura, di una pompa ad alto vuoto che crea un ambiente sotto vuoto per i processi CVD e di una stazione di controllo del gas a flusso di massa che miscela e immette i gas nel tubo del forno. Il forno è in grado di raggiungere temperature fino a 1200°C e ha un tasso di vuoto finale di 10^-7 torr. È comunemente utilizzato nell'industria dei semiconduttori per depositare film sottili di vari materiali, tra cui materiali isolanti, materiali metallici e materiali in lega metallica.
Applicazioni
I forni tubolari CVD multizona sono ampiamente utilizzati in varie applicazioni industriali e di ricerca, tra cui:
- Deposizione chimica da vapore (CVD)
- Diffusione
- Trattamenti termici
- Fabbricazione di semiconduttori
- Sintesi di materiali
- Deposizione di film sottili
- Nanotecnologia
- Optoelettronica
- Aerospaziale
- Immagazzinamento di energia
- Ingegneria biomedica
Caratteristiche
Il forno CVD Tube Furnace è un forno versatile e ad alte prestazioni, ideale per una varietà di applicazioni nella ricerca e nell'industria. Grazie alle sue caratteristiche e capacità avanzate, questo forno può aiutarvi a ottenere i migliori risultati possibili nel vostro lavoro.
- Controllo della temperatura multizona: questo forno è dotato di controllo della temperatura multizona, che consente di controllare con precisione la temperatura in diverse zone del forno. Questo è essenziale per le applicazioni in cui è necessario creare un profilo o un gradiente di temperatura specifico.
- Capacità di temperatura elevata: questo forno può raggiungere temperature fino a 1200°C, il che lo rende ideale per un'ampia gamma di applicazioni. Questa capacità di alta temperatura consente di eseguire processi impegnativi come CVD, diffusione e altri termotrattamenti.
- Protezione dal vuoto o dall'atmosfera: Questo forno può essere utilizzato sotto vuoto o in atmosfera, rendendolo adatto a una vasta gamma di applicazioni. Questa versatilità consente di eseguire processi che richiedono un'atmosfera specifica o un ambiente sotto vuoto.
- Facile da usare: questo forno è facile da usare, con un'interfaccia intuitiva e comandi intuitivi. Ciò rende facile l'impostazione e il funzionamento del forno, anche per gli utenti con poca esperienza.
- Design compatto: Questo forno è compatto e leggero, facile da installare e da utilizzare in diversi spazi. Questo design compatto lo rende ideale per l'uso in laboratori e altri ambienti con limiti di spazio.
Principio
La deposizione chimica da vapore (CVD) è una tecnica di deposizione di film sottili in cui un materiale solido viene depositato su un substrato da una fase gassosa. Il substrato viene riscaldato a una temperatura elevata e un gas contenente il materiale desiderato viene introdotto nella camera. Il gas reagisce con il substrato e il materiale desiderato si deposita sulla superficie.
I forni tubolari CVD sono utilizzati per i processi CVD. Il forno è costituito da un tubo riscaldato, in genere di quarzo o allumina. Il substrato viene posizionato all'interno del tubo e il gas viene introdotto nel tubo. Il gas scorre attraverso il tubo e reagisce con il substrato, depositando il materiale desiderato sulla superficie.
I forni a tubo CVD possono essere utilizzati per depositare un'ampia varietà di materiali, tra cui metalli, ossidi, nitruri e carburi. Il processo è utilizzato nella produzione di semiconduttori, celle solari e altri dispositivi elettronici.
Sono disponibili sistemi CVD a diverse temperature e configurazioni
Vantaggi
- Elevata uniformità della temperatura: il design a più zone garantisce una distribuzione uniforme della temperatura in tutto il forno, fattore critico per i processi CVD.
- Controllo preciso della temperatura: Il termoregolatore digitale consente un controllo preciso della temperatura del forno, essenziale per ottenere risultati ripetibili e affidabili.
- Elevata capacità di vuoto: Il tasso di vuoto massimo di 10^-7 torr consente di rimuovere i contaminanti dalla camera di reazione, condizione necessaria per ottenere film CVD di alta qualità.
- Facile da usare: l'interfaccia intuitiva rende il forno facile da usare, anche per gli utenti meno esperti.
- Versatile: il forno può essere utilizzato per un'ampia gamma di processi CVD, tra cui la deposizione di metalli, la lavorazione di semiconduttori e la sintesi di nanotubi di carbonio.
- Design compatto: Il design compatto del forno lo rende ideale per l'uso in laboratori con limiti di spazio.
- Conveniente: Il forno ha un prezzo competitivo e rappresenta un ottimo rapporto qualità-prezzo.
Specifiche tecniche
| Modello del forno | KT-CTF16-60 |
| Temperatura massima | 1600℃ |
| Temperatura di lavoro costante | 1550℃ |
| Materiale del tubo del forno | Tubo Al2O3 di elevata purezza |
| Diametro del tubo del forno | 60 mm |
| Zona di riscaldamento | 3x300mm |
| Materiale della camera | Fibra policristallina di allumina |
| Elemento di riscaldamento | Carburo di silicio |
| Velocità di riscaldamento | 0-10℃/min |
| Coppia termica | Tipo S |
| Regolatore di temperatura | Controllore PID digitale/controllore PID touch screen |
| Precisione del controllo della temperatura | ±1℃ |
| Unità di controllo preciso del gas | |
| Misuratore di portata | Misuratore di portata massica MFC |
| Canali gas | 3 canali |
| Portata | MFC1: 0-5SCCM O2 MFC2: 0-20SCMCH4 MFC3: 0-100 SCCM H2 MFC4: 0-500 SCCM N2 |
| Linearità | ±0,5% F.S. |
| Ripetibilità | ±0,2% F.S. |
| Linea di tubi e valvola | Acciaio inossidabile |
| Pressione massima di esercizio | 0,45MPa |
| Controllore del flussometro | Controllore digitale a manopola/controller a schermo tattile |
| Unità di vuoto standard (opzionale) | |
| Pompa per vuoto | Pompa per vuoto rotativa a palette |
| Portata della pompa | 4L/S |
| Porta di aspirazione del vuoto | KF25 |
| Vacuometro | Vacuometro Pirani/Resistenza al silicone |
| Pressione nominale del vuoto | 10Pa |
| Unità per alto vuoto (opzionale) | |
| Pompa per vuoto | Pompa rotativa a palette+pompa molecolare |
| Portata della pompa | 4L/S+110L/S |
| Porta di aspirazione del vuoto | KF25 |
| Vacuometro | Vacuometro composto |
| Pressione nominale del vuoto | 6x10-5Pa |
| Le specifiche e le configurazioni di cui sopra possono essere personalizzate | |
Pacchetto standard
| No. | Descrizione | Quantità |
| 1 | Forno | 1 |
| 2 | Tubo di quarzo | 1 |
| 3 | Flangia per il vuoto | 2 |
| 4 | Blocco termico del tubo | 2 |
| 5 | Gancio del blocco termico a tubo | 1 |
| 6 | Guanto resistente al calore | 1 |
| 7 | Controllo preciso del gas | 1 |
| 8 | Unità per il vuoto | 1 |
| 9 | Manuale operativo | 1 |
Configurazione opzionale
- Rilevamento e monitoraggio dei gas in tubo, come H2, O2 e così via
- Monitoraggio e registrazione indipendente della temperatura del forno
- Porta di comunicazione RS 485 per il controllo remoto del PC e l'esportazione dei dati
- Controllo della portata di alimentazione dei gas inseriti, come flussimetro di massa e flussimetro a galleggiante
- Controllore di temperatura touch screen con funzioni versatili e di facile utilizzo per l'operatore
- Configurazione della stazione di pompaggio ad alto vuoto, come pompa a vuoto a palette, pompa molecolare, pompa di diffusione
Avvertenze
La sicurezza dell'operatore è la questione più importante! Si prega di utilizzare l'apparecchiatura con cautele. Lavorare con gas infiammabili, esplosivi o tossici è molto complicato pericoloso, gli operatori devono prendere tutte le precauzioni necessarie prima di avviare il attrezzatura. Lavorare con pressione positiva all'interno dei reattori o delle camere lo è pericoloso, l'operatore deve rispettare rigorosamente le procedure di sicurezza. Extra è necessario prestare attenzione anche quando si opera con materiali reattivi all'aria, soprattutto sotto vuoto. Una perdita può far entrare aria nell'apparecchio e causare a si verifichi una reazione violenta.
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FAQ
Che Cos'è Il Forno CVD?
La deposizione chimica da vapore (CVD) è una tecnologia che utilizza varie fonti di energia, come il riscaldamento, l'eccitazione del plasma o la radiazione luminosa, per far reagire chimicamente sostanze chimiche gassose o vaporizzate in fase gassosa o nell'interfaccia gas-solido e formare depositi solidi nel reattore per mezzo di una reazione chimica.
Il forno CVD è un sistema combinato di forni con unità di forni a tubo ad alta temperatura, unità di controllo dei gas e unità di vuoto, ampiamente utilizzato per la sperimentazione e la produzione di preparazione di materiali compositi, processi microelettronici, semiconduttori optoelettronici, utilizzo dell'energia solare, comunicazione in fibra ottica, tecnologia dei superconduttori, campo dei rivestimenti protettivi.
Che Cos'è Un Forno A Tubi?
Il forno per tubi da laboratorio è un classico forno per tubi ad alta temperatura a riscaldamento esterno, chiamato anche forno per riscaldamento a parete calda.
In base alle diverse temperature di lavoro, il materiale del tubo del forno può essere costituito da tubi di quarzo trasparente, tubi di ceramica di allumina ad alta purezza e tubi di leghe metalliche ad alta resistenza.
Per soddisfare diversi scopi di ricerca termica, il forno a tubi può essere progettato con più zone di riscaldamento, in modo da avere un controllo flessibile del gradiente di temperatura nella camera di lavoro del tubo; il tubo del forno può lavorare in un ambiente di lavoro ad atmosfera controllata o in un ambiente di lavoro ad alto vuoto.
Come Funziona Il Forno CVD?
Il sistema di forni CVD è costituito da un'unità di forni tubolari ad alta temperatura, da un'unità di controllo preciso della fonte di gas di reazione, da una stazione di pompa a vuoto e da parti di assemblaggio corrispondenti.
La pompa a vuoto serve a rimuovere l'aria dal tubo di reazione e ad assicurarsi che non vi siano gas indesiderati all'interno del tubo di reazione, dopodiché il forno tubolare riscalderà il tubo di reazione fino a raggiungere la temperatura desiderata, quindi l'unità di controllo preciso della fonte di gas di reazione potrà introdurre gas diversi con un rapporto prestabilito nel tubo del forno per la reazione chimica, e la deposizione di vapore chimico si formerà nel forno CVD.
Come Funziona Un Forno A Tubi?
Gli elementi riscaldanti del forno a tubo sono posizionati intorno alla cavità cilindrica; il forno può riscaldare i campioni nella cavità cilindrica solo attraverso la radiazione termica indiretta, poiché il tubo del forno può evitare che il materiale del campione entri in contatto con gli elementi riscaldanti del forno e i materiali isolanti; il forno a tubo crea quindi una camera di calore isolata e pulita e riduce i rischi di contaminazione del materiale del campione da parte del forno.
Qual è Il Principio Di Base Della CVD?
Quale Gas Viene Utilizzato Nel Processo CVD?
Ci sono diverse fonti di gas che possono essere utilizzate nel processo CVD, le reazioni chimiche comuni della CVD includono pirolisi, fotolisi, riduzione, ossidazione, ossidoriduzione, quindi i gas coinvolti in queste reazioni chimiche possono essere utilizzati nel processo CVD.
Prendiamo ad esempio la crescita di grafene CVD, i gas utilizzati nel processo CVD saranno CH4, H2, O2 e N2.
Quali Sono Le Applicazioni Del Forno A Tubi?
Il forno tubolare è utilizzato principalmente in metallurgia, vetro, trattamento termico, materiali anodici e catodici al litio, nuove energie, abrasivi e altre industrie, ed è un'apparecchiatura professionale per la misurazione dei materiali in determinate condizioni di temperatura.
Il forno tubolare è caratterizzato da una struttura semplice, un funzionamento facile, un controllo facile e una produzione continua.
Il forno tubolare è anche ampiamente applicato nei sistemi CVD (deposizione di vapore chimico) e CVD potenziati al plasma.
Quali Sono I Diversi Tipi Di Metodi CVD?
Qual è Il Vantaggio Del Sistema CVD?
- È possibile produrre un'ampia gamma di film, film metallici, film non metallici e film in lega multicomponente, a seconda delle esigenze. Allo stesso tempo, può preparare cristalli di alta qualità difficilmente ottenibili con altri metodi, come GaN, BP, ecc.
- La velocità di formazione del film è rapida, di solito diversi micron al minuto o addirittura centinaia di micron al minuto. È possibile depositare simultaneamente grandi quantità di rivestimenti con una composizione uniforme, cosa incomparabile con altri metodi di preparazione del film, come l'epitassia in fase liquida (LPE) e l'epitassia a fascio molecolare (MBE).
- Le condizioni di lavoro sono realizzate in condizioni di pressione normale o di basso vuoto, quindi il rivestimento ha una buona diffrazione e i pezzi con forme complesse possono essere rivestiti uniformemente, il che è molto superiore alla PVD.
- La deposizione chimica da vapore può ottenere una superficie di deposizione liscia. Rispetto all'LPE, infatti, la deposizione da vapore chimico (CVD) avviene in condizioni di elevata saturazione, con un alto tasso di nucleazione, un'alta densità di nucleazione e una distribuzione uniforme su tutto il piano, con il risultato di una superficie macroscopica liscia. Allo stesso tempo, nella deposizione da vapore chimico, il percorso libero medio delle molecole (atomi) è molto più grande di quello dell'LPE, quindi la distribuzione spaziale delle molecole è più uniforme, il che favorisce la formazione di una superficie di deposizione liscia.
- Basso danno da radiazioni, che è una condizione necessaria per la produzione di semiconduttori in ossido di metallo (MOS) e altri dispositivi
Quanti Tipi Diversi Di Forno A Tubi?
Il forno a tubi può lavorare con diverse funzioni meccaniche senza problemi, quindi ci sono molti tipi diversi di forni a tubi per diversi scopi di sperimentazione, i tipici forni a tubi sono i seguenti:
- Forno a tubo orizzontale
- Forno a tubo verticale
- Forno a tubo diviso
- Forno a tubo rotante
- Forno a tubo inclinabile
- Forno a tubo scorrevole
- Forno a tubo a riscaldamento e raffreddamento rapido
- Forno a tubo ad alimentazione e scarico continui
Quali Sono I Vantaggi Dell'utilizzo Di Macchine Per La Deposizione Da Vapore Chimico?
Che Cosa Significa PECVD?
PECVD è una tecnologia che utilizza il plasma per attivare il gas di reazione, promuovere la reazione chimica sulla superficie del substrato o nello spazio vicino alla superficie e generare un film solido. Il principio di base della tecnologia di deposizione di vapore chimico al plasma è che, sotto l'azione di un campo elettrico RF o DC, il gas di partenza viene ionizzato per formare un plasma, il plasma a bassa temperatura viene utilizzato come fonte di energia, viene introdotta una quantità appropriata di gas di reazione e la scarica di plasma viene utilizzata per attivare il gas di reazione e realizzare la deposizione di vapore chimico.
Secondo il metodo di generazione del plasma, può essere suddiviso in plasma RF, plasma DC e microonde CVD, ecc.
Quali Sono I Vantaggi Dell'utilizzo Di Un Forno A Tubi?
Quali Sono Le Applicazioni Delle Macchine Per La Deposizione Di Vapore Chimico?
Qual è La Differenza Tra CVD E PECVD?
La differenza tra PECVD e la tecnologia CVD tradizionale è che il plasma contiene un gran numero di elettroni ad alta energia, in grado di fornire l'energia di attivazione necessaria nel processo di deposizione di vapore chimico, cambiando così la modalità di approvvigionamento energetico del sistema di reazione. Poiché la temperatura degli elettroni nel plasma raggiunge i 10000K, la collisione tra gli elettroni e le molecole di gas può promuovere la rottura dei legami chimici e la ricombinazione delle molecole di gas di reazione per generare più gruppi chimici attivi, mentre l'intero sistema di reazione mantiene una temperatura più bassa.
Quindi, rispetto al processo CVD, la PECVD può realizzare lo stesso processo di deposizione chimica da vapore con una temperatura più bassa.
Quali Sono Le Precauzioni Di Sicurezza Da Adottare Quando Si Utilizza Un Forno A Tubi?
Quali Sono I Fattori Da Considerare Nella Scelta Di Una Macchina Per La Deposizione Di Vapore Chimico?
Le Macchine Per La Deposizione Chimica Da Vapore Possono Essere Utilizzate Per La Deposizione Di Film Sottili Multistrato?
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