Forno a tubo
Forno a tubo verticale
Numero articolo : KT-VTF
Il prezzo varia in base a specifiche e personalizzazioni
- Temperatura massima
- 1800℃
- Diametro del tubo del forno
- 50 / 60 / 80 / 100 mm
- Lunghezza zona di riscaldamento
- 300 / 450 / 600 / 800 mm
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I forni a tubo verticale sono apparecchiature da laboratorio utilizzate per il trattamento ad alta temperatura di materiali in condizioni atmosferiche controllate. Sono costituiti da un tubo di quarzo orientato verticalmente racchiuso in una camera di riscaldamento, che consente un controllo preciso della temperatura e una distribuzione uniforme del calore. Questi forni sono comunemente utilizzati per varie applicazioni, tra cui trattamento termico, tempra, ricottura, crescita di cristalli e rivestimento con deposizione di vapore chimico (CVD). Grazie a funzioni avanzate come i regolatori di temperatura programmabili, le capacità di sigillatura sotto vuoto e gli accessori specializzati per la manipolazione dei campioni, i forni a tubi verticali offrono versatilità e precisione nella lavorazione dei materiali. La loro capacità di creare atmosfere controllate e di raggiungere temperature elevate li rende strumenti essenziali per la ricerca e lo sviluppo, la scienza dei materiali e le applicazioni industriali.
Applicazioni
I forni a tubi verticali sono dispositivi di riscaldamento versatili con un'ampia gamma di applicazioni in vari settori industriali e di laboratorio. Sono particolarmente utili per i processi che richiedono un controllo preciso della temperatura e la capacità di operare sotto vuoto o in atmosfera di gas controllata.
- Test di tempra con gas: I forni a tubi verticali sono comunemente utilizzati per i test di spegnimento con gas, in cui i campioni vengono raffreddati rapidamente da temperature elevate in un mezzo di spegnimento come acqua ghiacciata o olio. Ciò consente ai ricercatori di studiare le transizioni di fase dei materiali e gli effetti del raffreddamento rapido sulle proprietà dei materiali.
- Trattamento termico: I forni verticali per tubi sono utilizzati per una serie di processi di trattamento termico, tra cui la ricottura, il rinvenimento e la distensione. Questi processi possono migliorare le proprietà meccaniche dei materiali, come la resistenza, la durezza e la duttilità.
- Deposizione chimica da vapore (CVD): I forni a tubi verticali sono utilizzati per i processi CVD, in cui un film sottile viene depositato su un substrato mediante reazioni chimiche in un ambiente gassoso. Questa tecnica è comunemente utilizzata nell'industria dei semiconduttori per creare dispositivi elettronici.
- Crescita di cristalli: I forni a tubi verticali sono utilizzati per la crescita dei cristalli, che vengono fatti crescere da una fase fusa o di vapore. Questa tecnica è utilizzata per produrre cristalli di alta qualità da utilizzare nell'ottica, nell'elettronica e in altre applicazioni.
- Test sui materiali: I forni a tubi verticali sono utilizzati per le prove sui materiali, come le misurazioni della conduttività termica, la determinazione del punto di fusione e le transizioni di fase. Questi test forniscono informazioni preziose sulle proprietà dei materiali.
- Altre applicazioni: I forni a tubi verticali sono utilizzati anche in varie altre applicazioni, tra cui:
- Sinterizzazione
- Brasatura
- Calcinazione
- Ceramica
- Lavorazione del vetro
- Ricerca di laboratorio
Lavorazione delle polveri
1. Tubo di corindone ad alta temperatura: resistente alla corrosione, alta trasmittanza, resistenza alle alte pressioni, resistenza alle alte temperature fino a 1700 ℃.
2. Pannello di visualizzazione digitale elettronico: controllo accurato della temperatura, processo di trattamento termico multistadio preimpostato.
3. Focolare in fibra policristallina di allumina: resistenza alle alte temperature, utilizzo prolungato senza deformazioni e senza incrinature.
Principio
I forni a tubi verticali funzionano secondo il principio del trasferimento di calore radiante. L'elemento riscaldante, tipicamente in disiliciuro di molibdeno (MoSi2) o carburo di silicio (SiC), è posizionato intorno al tubo verticale ed emette radiazioni infrarosse che vengono assorbite dal campione all'interno. Questa radiazione riscalda il campione in modo uniforme, garantendo un controllo preciso ed efficiente della temperatura. Il design del forno consente una rapida velocità di riscaldamento e raffreddamento, rendendolo adatto a varie applicazioni, tra cui la sintesi dei materiali, il trattamento termico e le misure di temperatura.
- Vantaggi
- Camera del forno posizionata verticalmente o inclinata: Consente di condurre vari esperimenti, tra cui il riscaldamento a letto fluido, la crescita per trazione dei cristalli, lo spegnimento e altro ancora.
- Varietà di funzioni meccaniche: Queste funzioni includono la sospensione, la trazione, la rotazione e il rilascio dei campioni, garantendo la versatilità delle configurazioni sperimentali.
- Ampio intervallo di temperatura di lavoro: Temperatura massima di 1800℃. Temperatura massima di 1800℃ consente una vasta gamma di applicazioni.
- Personalizzazione dell'attrezzatura specializzata per il frock: Adatta il forno a requisiti sperimentali specifici.
- Design a doppio guscio del forno: Il flusso d'aria forzato tra il guscio interno e quello esterno mantiene bassa la temperatura superficiale del forno per garantire la sicurezza.
- Controllo della temperatura programmabile PID: Eccellente precisione di controllo e prestazioni di riscaldamento stabili, con possibilità di controllo remoto e centralizzato.
- Controller touch screen VTF Pro: Impostazione dei programmi, analisi dei dati e gestione delle ricette di facile utilizzo.
- Caratteristiche di sicurezza: Protezione da sovracorrente, allarme di sovratemperatura e rilevamento di coppie termiche per una maggiore sicurezza.
Funzione di riavvio in caso di interruzione di corrente: Riprende il programma di riscaldamento dopo un'interruzione di corrente, garantendo la continuità dell'esperimento.
- Vantaggi per la sicurezza
- Il forno tubolare Kindle Tech possiede una protezione da sovracorrente e una funzione di allarme da sovratemperatura; il forno spegnerà automaticamente l'alimentazione una volta rilevata la sovracorrente.
- Il forno è dotato di una funzione di rilevamento della coppia termica; il forno interromperà il riscaldamento e l'allarme sarà attivo una volta rilevata la rottura o il fallimento della coppia termica.
VTF Pro supporta la funzione di riavvio dell'interruzione di corrente, la fornace riprenderà il programma di riscaldamento della fornace quando il potere è in arrivo dopo il fallimento
| Specifiche tecniche | Modello di forno | KT-VTF |
|---|---|---|
| KT-VTF PRO | Regolatore di temperatura | Controllore PID digitale |
| Controllore PID touch screen | Multi programma preimpostato | no |
| sì | Riavvio in caso di interruzione di corrente | no |
| sì | Temperatura massima | |
| 1800℃ | Materiale del tubo del forno | |
| Quarzo di alta qualità/allumina Al2O3 | Diametro del tubo del forno | |
| 50 / 60 / 80 / 100 mm | Lunghezza della zona di riscaldamento | |
| 300 / 450 / 600 / 800 mm | Soluzione di tenuta sotto vuoto | |
| Flangia SS 304 con anello di tenuta in rame massiccio | Pressione nominale del vuoto | |
| 0,001Pa/10E5 torr | Materiale della camera | |
| Fibra di allumina giapponese Al2O3 | Elemento di riscaldamento | |
| Bobina di filo Cr2Al2Mo2/SiC/MoSi2 | Coppia termica | |
| Tipo K /S/B | Precisione di controllo della temperatura | |
| ±1℃ | Alimentazione elettrica | |
| AC110-220V, 50/60HZ | ||
L'altra dimensione del tubo della fornace e la lunghezza della zona di riscaldamento possono essere personalizzate
| Pacchetto standard | No. | Descrizione |
|---|---|---|
| Quantità | 1 | Forno |
| 1 | 2 | Tubo di allumina |
| 1 | 3 | Flangia per il vuoto |
| 2 | 4 | Blocco termico del tubo |
| 2 | 5 | Gancio del blocco termico a tubo |
| 1 | 6 | Guanto resistente al calore |
| 1 | 7 | Manuale operativo |
1
- Configurazione opzionale
- Rilevamento e monitoraggio dei gas nel tubo, come H2, O2 e così via
- Monitoraggio e registrazione indipendente della temperatura del forno
- Porta di comunicazione RS 485 per il controllo remoto del PC e l'esportazione dei dati
- Controllo della portata di alimentazione dei gas inseriti, come flussimetro di massa e flussimetro a galleggiante
- Controllore di temperatura touch screen con funzioni versatili e di facile utilizzo per l'operatore
Avvertenze
La sicurezza dell'operatore è la questione più importante! Si prega di utilizzare l'apparecchiatura con cautele. Lavorare con gas infiammabili, esplosivi o tossici è molto complicato pericoloso, gli operatori devono prendere tutte le precauzioni necessarie prima di avviare il attrezzatura. Lavorare con pressione positiva all'interno dei reattori o delle camere lo è pericoloso, l'operatore deve rispettare rigorosamente le procedure di sicurezza. Extra è necessario prestare attenzione anche quando si opera con materiali reattivi all'aria, soprattutto sotto vuoto. Una perdita può far entrare aria nell'apparecchio e causare a si verifichi una reazione violenta.
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FAQ
Che Cos'è Un Forno A Tubi?
Il forno per tubi da laboratorio è un classico forno per tubi ad alta temperatura a riscaldamento esterno, chiamato anche forno per riscaldamento a parete calda.
In base alle diverse temperature di lavoro, il materiale del tubo del forno può essere costituito da tubi di quarzo trasparente, tubi di ceramica di allumina ad alta purezza e tubi di leghe metalliche ad alta resistenza.
Per soddisfare diversi scopi di ricerca termica, il forno a tubi può essere progettato con più zone di riscaldamento, in modo da avere un controllo flessibile del gradiente di temperatura nella camera di lavoro del tubo; il tubo del forno può lavorare in un ambiente di lavoro ad atmosfera controllata o in un ambiente di lavoro ad alto vuoto.
Che Cos'è Il Forno CVD?
La deposizione chimica da vapore (CVD) è una tecnologia che utilizza varie fonti di energia, come il riscaldamento, l'eccitazione del plasma o la radiazione luminosa, per far reagire chimicamente sostanze chimiche gassose o vaporizzate in fase gassosa o nell'interfaccia gas-solido e formare depositi solidi nel reattore per mezzo di una reazione chimica.
Il forno CVD è un sistema combinato di forni con unità di forni a tubo ad alta temperatura, unità di controllo dei gas e unità di vuoto, ampiamente utilizzato per la sperimentazione e la produzione di preparazione di materiali compositi, processi microelettronici, semiconduttori optoelettronici, utilizzo dell'energia solare, comunicazione in fibra ottica, tecnologia dei superconduttori, campo dei rivestimenti protettivi.
Come Funziona Un Forno A Tubi?
Gli elementi riscaldanti del forno a tubo sono posizionati intorno alla cavità cilindrica; il forno può riscaldare i campioni nella cavità cilindrica solo attraverso la radiazione termica indiretta, poiché il tubo del forno può evitare che il materiale del campione entri in contatto con gli elementi riscaldanti del forno e i materiali isolanti; il forno a tubo crea quindi una camera di calore isolata e pulita e riduce i rischi di contaminazione del materiale del campione da parte del forno.
Come Funziona Il Forno CVD?
Il sistema di forni CVD è costituito da un'unità di forni tubolari ad alta temperatura, da un'unità di controllo preciso della fonte di gas di reazione, da una stazione di pompa a vuoto e da parti di assemblaggio corrispondenti.
La pompa a vuoto serve a rimuovere l'aria dal tubo di reazione e ad assicurarsi che non vi siano gas indesiderati all'interno del tubo di reazione, dopodiché il forno tubolare riscalderà il tubo di reazione fino a raggiungere la temperatura desiderata, quindi l'unità di controllo preciso della fonte di gas di reazione potrà introdurre gas diversi con un rapporto prestabilito nel tubo del forno per la reazione chimica, e la deposizione di vapore chimico si formerà nel forno CVD.
Quali Sono Le Applicazioni Del Forno A Tubi?
Il forno tubolare è utilizzato principalmente in metallurgia, vetro, trattamento termico, materiali anodici e catodici al litio, nuove energie, abrasivi e altre industrie, ed è un'apparecchiatura professionale per la misurazione dei materiali in determinate condizioni di temperatura.
Il forno tubolare è caratterizzato da una struttura semplice, un funzionamento facile, un controllo facile e una produzione continua.
Il forno tubolare è anche ampiamente applicato nei sistemi CVD (deposizione di vapore chimico) e CVD potenziati al plasma.
Quale Gas Viene Utilizzato Nel Processo CVD?
Ci sono diverse fonti di gas che possono essere utilizzate nel processo CVD, le reazioni chimiche comuni della CVD includono pirolisi, fotolisi, riduzione, ossidazione, ossidoriduzione, quindi i gas coinvolti in queste reazioni chimiche possono essere utilizzati nel processo CVD.
Prendiamo ad esempio la crescita di grafene CVD, i gas utilizzati nel processo CVD saranno CH4, H2, O2 e N2.
Quanti Tipi Diversi Di Forno A Tubi?
Il forno a tubi può lavorare con diverse funzioni meccaniche senza problemi, quindi ci sono molti tipi diversi di forni a tubi per diversi scopi di sperimentazione, i tipici forni a tubi sono i seguenti:
- Forno a tubo orizzontale
- Forno a tubo verticale
- Forno a tubo diviso
- Forno a tubo rotante
- Forno a tubo inclinabile
- Forno a tubo scorrevole
- Forno a tubo a riscaldamento e raffreddamento rapido
- Forno a tubo ad alimentazione e scarico continui
Qual è Il Vantaggio Del Sistema CVD?
- È possibile produrre un'ampia gamma di film, film metallici, film non metallici e film in lega multicomponente, a seconda delle esigenze. Allo stesso tempo, può preparare cristalli di alta qualità difficilmente ottenibili con altri metodi, come GaN, BP, ecc.
- La velocità di formazione del film è rapida, di solito diversi micron al minuto o addirittura centinaia di micron al minuto. È possibile depositare simultaneamente grandi quantità di rivestimenti con una composizione uniforme, cosa incomparabile con altri metodi di preparazione del film, come l'epitassia in fase liquida (LPE) e l'epitassia a fascio molecolare (MBE).
- Le condizioni di lavoro sono realizzate in condizioni di pressione normale o di basso vuoto, quindi il rivestimento ha una buona diffrazione e i pezzi con forme complesse possono essere rivestiti uniformemente, il che è molto superiore alla PVD.
- La deposizione chimica da vapore può ottenere una superficie di deposizione liscia. Rispetto all'LPE, infatti, la deposizione da vapore chimico (CVD) avviene in condizioni di elevata saturazione, con un alto tasso di nucleazione, un'alta densità di nucleazione e una distribuzione uniforme su tutto il piano, con il risultato di una superficie macroscopica liscia. Allo stesso tempo, nella deposizione da vapore chimico, il percorso libero medio delle molecole (atomi) è molto più grande di quello dell'LPE, quindi la distribuzione spaziale delle molecole è più uniforme, il che favorisce la formazione di una superficie di deposizione liscia.
- Basso danno da radiazioni, che è una condizione necessaria per la produzione di semiconduttori in ossido di metallo (MOS) e altri dispositivi
Quali Sono I Vantaggi Dell'utilizzo Di Un Forno A Tubi?
Che Cosa Significa PECVD?
PECVD è una tecnologia che utilizza il plasma per attivare il gas di reazione, promuovere la reazione chimica sulla superficie del substrato o nello spazio vicino alla superficie e generare un film solido. Il principio di base della tecnologia di deposizione di vapore chimico al plasma è che, sotto l'azione di un campo elettrico RF o DC, il gas di partenza viene ionizzato per formare un plasma, il plasma a bassa temperatura viene utilizzato come fonte di energia, viene introdotta una quantità appropriata di gas di reazione e la scarica di plasma viene utilizzata per attivare il gas di reazione e realizzare la deposizione di vapore chimico.
Secondo il metodo di generazione del plasma, può essere suddiviso in plasma RF, plasma DC e microonde CVD, ecc.
Quali Sono Le Precauzioni Di Sicurezza Da Adottare Quando Si Utilizza Un Forno A Tubi?
Qual è La Differenza Tra CVD E PECVD?
La differenza tra PECVD e la tecnologia CVD tradizionale è che il plasma contiene un gran numero di elettroni ad alta energia, in grado di fornire l'energia di attivazione necessaria nel processo di deposizione di vapore chimico, cambiando così la modalità di approvvigionamento energetico del sistema di reazione. Poiché la temperatura degli elettroni nel plasma raggiunge i 10000K, la collisione tra gli elettroni e le molecole di gas può promuovere la rottura dei legami chimici e la ricombinazione delle molecole di gas di reazione per generare più gruppi chimici attivi, mentre l'intero sistema di reazione mantiene una temperatura più bassa.
Quindi, rispetto al processo CVD, la PECVD può realizzare lo stesso processo di deposizione chimica da vapore con una temperatura più bassa.
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