MPCVD
Sistema di reattore per macchine per la deposizione chimica da vapore di plasma a microonde MPCVD per laboratorio e crescita di diamanti
Numero articolo : KTMP315
Il prezzo varia in base a specifiche e personalizzazioni
- Potenza microonde
- Frequenza microonde 2450±15MHZ
- Potenza di uscita
- 1~10 KW regolabile in continuo
- Perdite microonde
- ≤2MW/cm2
- Interfaccia guida d'onda di uscita
- WR340, 430 con flangia standard FD-340, 430
- Portacampioni
- Diametro del tavolo campione≥70mm, area di utilizzo effettiva≥64 mm
Spedizione:
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MPCVD sta per Deposizione Chimica da Vapore di Plasma a Microonde. Coltiva film di diamante di qualità in laboratorio utilizzando gas di carbonio e plasma a microonde.
Sistema MPCVD
MPCVD è un sistema per la deposizione di film sottili su un substrato utilizzando una camera a vuoto, un generatore di microonde e un sistema di alimentazione del gas. Un plasma viene generato all'interno della camera da un magnetron o klystron che genera microonde a 2,45 GHz. Il sistema di alimentazione del gas dispone di MFC calibrati in sccm per controllare il flusso di gas. La temperatura del substrato è controllata dal plasma e misurata da una termocoppia. Il plasma riscalda il substrato e la temperatura viene monitorata durante la deposizione.
Applicazioni
MPCVD mostra promesse per la produzione di diamanti grandi e di alta qualità a basso costo.
Le proprietà uniche del diamante, come durezza, rigidità, elevata conducibilità termica, bassa espansione termica, resistenza alle radiazioni e inerzia chimica, lo rendono un materiale prezioso. Tuttavia, l'alto costo, le dimensioni limitate e la difficoltà nel controllare le impurità dei diamanti naturali e sintetici ad alta pressione e alta temperatura hanno limitato le loro applicazioni.
MPCVD è l'attrezzatura principale per la crescita di gemme e film di diamante, che possono essere monocristallini o policristallini. L'industria dei semiconduttori utilizza ampiamente la crescita di film di diamante per substrati di diamante di grandi dimensioni, nonché l'industria degli utensili da taglio o da perforazione di diamanti.
Rispetto al metodo HPHT per i diamanti coltivati in laboratorio, il metodo CVD a microonde presenta vantaggi per la crescita di diamanti di grandi dimensioni a costi inferiori, rendendolo una soluzione ideale per i diamanti per semiconduttori, la crescita di diamanti ottici e il mercato dei diamanti per gioielli di grandi dimensioni.
Vantaggi di MPCVD
MPCVD è un metodo di sintesi del diamante con vantaggi rispetto a HFCVD e DC-PJ CVD. Evita la contaminazione e consente l'uso di più gas. Offre una regolazione fluida della potenza delle microonde e un controllo stabile della temperatura, evitando la perdita di cristalli seme. MPCVD è promettente per applicazioni industriali grazie a un'area di plasma ampia e stabile.
MPCVD produce diamanti più puri utilizzando meno energia rispetto a HPHT. Consente inoltre la produzione di diamanti più grandi.
Vantaggi del nostro sistema MPCVD
Siamo profondamente coinvolti nel settore da molti anni e, di conseguenza, abbiamo una vasta base di clienti che si fida e utilizza le nostre attrezzature. Le nostre attrezzature MPCVD sono in funzione in modo stabile da oltre 40.000 ore, dimostrando eccezionale stabilità, affidabilità, ripetibilità e convenienza economica. Ulteriori vantaggi del nostro sistema MPCVD includono:
- Area di crescita del substrato da 3 pollici, carico massimo in batch fino a 45 pezzi di diamanti
- Potenza di uscita microonde regolabile da 1-10Kw per un minor consumo di elettricità
- Team di ricerca con ricca esperienza e supporto per ricette di crescita di diamanti all'avanguardia
- Programma di supporto tecnico esclusivo per team con zero esperienza nella crescita di diamanti
Sfruttando la nostra tecnologia avanzata accumulata, abbiamo implementato più cicli di aggiornamenti e miglioramenti al nostro sistema MPCVD, ottenendo un'efficienza significativamente migliorata e costi delle attrezzature ridotti. Di conseguenza, le nostre attrezzature MPCVD sono all'avanguardia nei progressi tecnologici e offerte a un prezzo competitivo. Benvenuti a consultarci.
Processo di lavoro
La macchina MPCVD controlla il flusso di ogni percorso del gas e la pressione della cavità introducendo i gas reagenti (come CH4, H2, Ar, O2, N2, ecc.) nella cavità a una pressione specifica. Dopo aver stabilizzato il flusso d'aria, il generatore di microonde a stato solido da 6KW genera microonde che vengono quindi introdotte nella cavità attraverso la guida d'onda.
Il gas di reazione si trasforma in uno stato di plasma sotto il campo delle microonde, formando una palla di plasma che fluttua sopra il substrato di diamante. L'alta temperatura del plasma riscalda il substrato a una temperatura specifica. Il calore in eccesso prodotto nella cavità viene dissipato dall'unità di raffreddamento ad acqua.
Per garantire condizioni di crescita ottimali durante il processo di crescita del diamante monocristallino MPCVD, regoliamo fattori quali potenza, composizione della sorgente di gas e pressione della cavità. Inoltre, poiché la palla di plasma non entra in contatto con la parete della cavità, il processo di crescita del diamante è privo di impurità, migliorando così la qualità del diamante.
Dettagli e parti

Sistema a microonde

Camera di reazione

Sistema di flusso del gas

Sistema di vuoto e sensori
Specifiche tecniche
| Sistema a microonde |
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| Camera di reazione |
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| Porta campione |
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| Sistema di flusso del gas |
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| Sistema di raffreddamento |
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| Sensore di temperatura |
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| Sistema di controllo |
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| Funzione opzionale |
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Avvertenze
La sicurezza dell'operatore è la questione più importante! Si prega di utilizzare l'apparecchiatura con cautele. Lavorare con gas infiammabili, esplosivi o tossici è molto complicato pericoloso, gli operatori devono prendere tutte le precauzioni necessarie prima di avviare il attrezzatura. Lavorare con pressione positiva all'interno dei reattori o delle camere lo è pericoloso, l'operatore deve rispettare rigorosamente le procedure di sicurezza. Extra è necessario prestare attenzione anche quando si opera con materiali reattivi all'aria, soprattutto sotto vuoto. Una perdita può far entrare aria nell'apparecchio e causare a si verifichi una reazione violenta.
Progettato per te
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FAQ
Che Cos'è La Macchina Per Diamanti CVD?
Quali Sono I Tipi Di Macchine Per La Crescita Del Diamante Disponibili?
Qual è Il Principio Di Base Della CVD?
Come Funziona Una Macchina Per Diamanti CVD?
Quali Sono I Vantaggi Dei Diamanti Coltivati In Laboratorio?
Quali Sono I Diversi Tipi Di Metodi CVD?
Quali Sono I Vantaggi Dell'utilizzo Di Macchine Per Diamanti CVD?
Qual è Il Prezzo Della Macchina Per La Coltivazione CVD?
Quali Sono I Vantaggi Dell'utilizzo Di Macchine Per La Deposizione Da Vapore Chimico?
Quali Sono Le Considerazioni Da Fare Nella Scelta Di Una Macchina Diamantata CVD?
Quali Sono Le Applicazioni Delle Macchine Per La Deposizione Di Vapore Chimico?
Quali Sono Le Applicazioni Più Comuni Dei Diamanti Prodotti Con Macchine Diamantate CVD?
Quali Sono I Fattori Da Considerare Nella Scelta Di Una Macchina Per La Deposizione Di Vapore Chimico?
Le Macchine Per La Deposizione Chimica Da Vapore Possono Essere Utilizzate Per La Deposizione Di Film Sottili Multistrato?
Scheda Tecnica del Prodotto
Sistema di reattore per macchine per la deposizione chimica da vapore di plasma a microonde MPCVD per laboratorio e crescita di diamanti
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