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Macchina diamantata MPCVD con risonatore a campana per il laboratorio e la crescita di diamanti

MPCVD

Macchina diamantata MPCVD con risonatore a campana per il laboratorio e la crescita di diamanti

Numero articolo : KTMP315

Il prezzo varia in base a specifiche e personalizzazioni


Potenza delle microonde
Frequenza microonde 2450±15MHZ
Potenza di uscita
1~10 KW regolabile in continuo
Perdita di microonde
≤2MW/cm2
Interfaccia guida d'onda in uscita
WR340, 430 con flangia standard FD-340, 430
Supporto del campione
Diametro del tavolo portacampioni≥70 mm, area di utilizzo effettiva≥64 mm
ISO & CE icon

Spedizione:

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MPCVD significa Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition. Produce film di diamante di qualità in laboratorio utilizzando gas di carbonio e plasma a microonde.

Sistema MPCVD

L'MPCVD è un sistema per depositare film sottili su un substrato utilizzando una camera a vuoto, un generatore di microonde e un sistema di erogazione del gas. Il plasma è generato all'interno della camera da un magnetron o da un klystron che genera microonde a 2,45 GHz. Il sistema di erogazione del gas è dotato di MFC calibrati in sccm per controllare il flusso di gas. La temperatura del substrato è controllata dal plasma e misurata da una termocoppia. Il plasma riscalda il substrato e la temperatura viene monitorata durante la deposizione.

Applicazioni

L'MPCVD è promettente per la produzione di diamanti di grandi dimensioni e di alta qualità a basso costo.

Le proprietà uniche del diamante, come la durezza, la rigidità, l'elevata conducibilità termica, la bassa espansione termica, la durezza alle radiazioni e l'inerzia chimica, lo rendono un materiale prezioso. Tuttavia, il costo elevato, le dimensioni limitate e la difficoltà di controllare le impurità dei diamanti naturali e sintetici ad alta pressione e ad alta temperatura ne hanno limitato le applicazioni.

L'MPCVD è l'apparecchiatura principale per la produzione di gemme e film di diamante, che possono essere monocristallini o policristallini. L'industria dei semiconduttori utilizza ampiamente la crescita di film di diamante per substrati di diamante di grandi dimensioni, così come l'industria degli strumenti di taglio e perforazione in diamante.

Rispetto al metodo HPHT per i diamanti coltivati in laboratorio, il metodo CVD a microonde è vantaggioso per la crescita di diamanti di grandi dimensioni a un costo inferiore, il che lo rende una soluzione ideale per i diamanti dei semiconduttori, per la crescita di diamanti ottici e per il mercato dei diamanti per gioielli di grandi dimensioni.

Macchine MPCVD KINTEK
Macchine KINTEK MPCVD
Nuovo modello di macchina diamantata MPCVD
Nuovo modello di macchina per diamanti KINTEK MPCVD
Nuovo modello di macchina per diamanti MPCVD
Nuovo modello di macchina per diamanti KINTEK MPCVD
Diamanti grezzi coltivati tramite MPCVD
Diamanti grezzi coltivati con la macchina per diamanti KINTEK MPCVD
Nella macchina MPCVD KinTek, i diamanti crescono
Nella macchina KinTek MPCVD crescono i diamanti
Nella macchina MPCVD KinTek, i diamanti crescono
Nella macchina MPCVD di KinTek i diamanti crescono
Nella macchina MPCVD KinTek, i diamanti crescono
Nella macchina MPCVD KinTek, i diamanti crescono
Nella macchina KinTek MPCVD, i diamanti crescono
Nella macchina MPCVD KinTek, i diamanti crescono
Nella macchina MPCVD di KinTek, i diamanti crescono
Nella macchina MPCVD di KinTek, i diamanti crescono
Diamante grezzo coltivato con la macchina KINTEK MPCVD
Diamante grezzo coltivato con la macchina KINTEK MPCVD
Diamante grezzo coltivato con macchina KINTEK MPCVD
Diamante grezzo coltivato con macchina KINTEK MPCVD
Diamante grezzo coltivato con la macchina KINTEK MPCVD
Diamante grezzo coltivato con la macchina KINTEK MPCVD
Diamanti cresciuti con MPCVD dopo la lucidatura
Diamanti cresciuti con MPCVD dopo la lucidatura
Policristallino con KinTek MPCVD
Policristallino da KinTek MPCVD

Vantaggi dell'MPCVD

L'MPCVD è un metodo di sintesi del diamante che presenta vantaggi rispetto all'HFCVD e al DC-PJ CVD. Evita la contaminazione e consente di utilizzare più gas. Offre una regolazione fluida della potenza delle microonde e un controllo stabile della temperatura, evitando la perdita di cristalli di seme. L'MPCVD è promettente per le applicazioni industriali grazie a un'area di plasma ampia e stabile.

L'MPCVD produce diamanti più puri utilizzando meno energia dell'HPHT. Inoltre, consente la produzione di diamanti più grandi.

Vantaggi del nostro sistema MPCVD

Siamo impegnati da molti anni nel settore e, di conseguenza, abbiamo una vasta base di clienti che si fidano e utilizzano le nostre apparecchiature. La nostra apparecchiatura MPCVD ha funzionato costantemente per oltre 40.000 ore, dimostrando un'eccezionale stabilità, affidabilità, ripetibilità ed economicità. Altri vantaggi del nostro sistema MPCVD sono:

  • Area di crescita del substrato di 3 pollici, carico massimo del lotto fino a 45 pezzi di diamanti
  • Potenza di uscita a microonde regolabile da 1 a 10 kW per un minor consumo di elettricità
  • Team di ricerca ricco di esperienza con supporto di ricette per la coltivazione di diamanti di frontiera
  • Esclusivo programma di supporto tecnico per il team di esperienza di crescita di diamanti zero

Sfruttando la tecnologia avanzata accumulata, abbiamo implementato diverse serie di aggiornamenti e miglioramenti al nostro sistema MPCVD, con il risultato di migliorare significativamente l'efficienza e ridurre i costi delle attrezzature. Di conseguenza, le nostre apparecchiature MPCVD sono all'avanguardia dei progressi tecnologici e vengono offerte a un prezzo competitivo. Benvenuti a consultarci.

Simulazione KinTek MPCVD
Simulazione MPCVD KinTek

Lavorazione

La macchina MPCVD controlla il flusso di ciascun percorso di gas e la pressione della cavità, introducendo i gas reagenti (come CH4, H2, Ar, O2, N2, ecc.) nella cavità a una pressione specifica. Dopo aver stabilizzato il flusso d'aria, il generatore di microonde a stato solido da 6KW genera microonde che vengono introdotte nella cavità attraverso la guida d'onda.

Il gas di reazione si trasforma in uno stato di plasma sotto il campo di microonde, formando una sfera di plasma che si libra sopra il substrato di diamante. L'alta temperatura del plasma riscalda il substrato a una temperatura specifica. Il calore in eccesso prodotto nella cavità viene dissipato dall'unità di raffreddamento ad acqua.

Per garantire condizioni di crescita ottimali durante il processo di crescita del diamante monocristallino MPCVD, regoliamo fattori quali la potenza, la composizione della sorgente di gas e la pressione della cavità. Inoltre, poiché la sfera di plasma non entra in contatto con la parete della cavità, il processo di crescita del diamante è privo di impurità, migliorando così la qualità del diamante.

Dettagli e parti

Sistema a microonde

Sistema a microonde

Camera di reazione

Camera di reazione

Sistema di flusso di gas

Sistema di flusso del gas

Sistema di vuoto e sensori

Sistema di vuoto e sensori

Specifiche tecniche

Sistema a microonde
  • Frequenza microonde 2450±15MHZ,
  • Potenza di uscita 1~10 KW regolabile in continuo
  • Stabilità della potenza di uscita a microonde: <±1%
  • Perdita di microonde ≤2MW/cm2
  • Interfaccia guida d'onda in uscita: WR340, 430 con flangia standard FD-340, 430
  • Flusso d'acqua di raffreddamento: 6-12L/min
  • Coefficiente d'onda stazionaria del sistema: VSWR ≤ 1,5
  • Regolatore manuale a microonde a 3 pin, cavità di eccitazione, carico ad alta potenza
  • Alimentazione in ingresso: 380VAC/50Hz ± 10%, trifase
Camera di reazione
  • Tasso di perdita di vuoto<5 × 10-9 Pa .m3/s
  • La pressione limite è inferiore a 0,7 Pa (configurazione standard con vacuometro Pirani)
  • L'aumento di pressione della camera non deve superare i 50 Pa dopo 12 ore di mantenimento della pressione.
  • Modalità di lavoro della camera di reazione: Modalità TM021 o TM023
  • Tipo di cavità: Cavità risonante a farfalla, con potenza massima di 10KW, in acciaio inox 304, con interstrato raffreddato ad acqua e metodo di tenuta della piastra di quarzo ad alta purezza.
  • Modalità di aspirazione dell'aria: Presa d'aria uniforme anulare superiore
  • Tenuta del vuoto: La connessione inferiore della camera principale e la porta di iniezione sono sigillate con anelli di gomma, la pompa del vuoto e il soffietto sono sigillati con KF, la piastra di quarzo è sigillata con un anello a C in metallo e il resto è sigillato con CF.
  • Finestra di osservazione e misurazione della temperatura: 4 porte di osservazione
  • Porta di carico del campione nella parte anteriore della camera
  • Scarico stabile nell'intervallo di pressione di 0,7KPa~30KPa (la pressione di alimentazione deve essere adeguata)
Supporto del campione
  • Diametro del tavolo portacampioni≥70 mm, area di utilizzo effettiva≥64 mm
  • Struttura a sandwich raffreddata ad acqua della piattaforma della piastra di base
  • Il supporto del campione può essere sollevato e abbassato in modo uniforme elettricamente nella cavità
Sistema di flusso del gas
  • Disco d'aria per la saldatura di tutti i metalli
  • Per tutti i circuiti interni del gas dell'apparecchiatura devono essere utilizzati giunti a saldare o VCR.
  • Misuratore di flusso MFC a 5 canali, H2/CH4/O2/N/Ar. H2: 1000 sccm ;CH4:100 sccm; O2: 2 sccm; N2: 2 sccm; Ar: 10 sccm
  • Pressione di lavoro 0,05-0,3MPa, precisione ±2%.
  • Controllo indipendente della valvola pneumatica per ogni misuratore di portata del canale
Sistema di raffreddamento
  • 3 linee di raffreddamento ad acqua, monitoraggio in tempo reale della temperatura e del flusso.
  • Il flusso d'acqua di raffreddamento del sistema è ≤ 50L/min.
  • La pressione dell'acqua di raffreddamento è<4KG e la temperatura dell'acqua in ingresso è di 20-25 ℃.
Sensore di temperatura
  • Il termometro esterno a infrarossi ha un intervallo di temperatura di 300-1400 ℃.
  • Precisione del controllo della temperatura < 2 ℃ o 2%
Sistema di controllo
  • Viene adottato il PLC Siemens smart 200 e il controllo touch screen.
  • Il sistema dispone di una varietà di programmi, in grado di realizzare il bilanciamento automatico della temperatura di crescita, il controllo accurato della pressione dell'aria di crescita, l'aumento automatico della temperatura, la diminuzione automatica della temperatura e altre funzioni.
  • Il funzionamento stabile dell'apparecchiatura e la protezione completa dell'apparecchiatura possono essere raggiunti attraverso il monitoraggio del flusso d'acqua, della temperatura, della pressione e di altri parametri, mentre l'affidabilità e la sicurezza del funzionamento possono essere garantite attraverso l'interblocco funzionale.
Funzione opzionale
  • Sistema di monitoraggio del centro
  • Potenza di base del substrato

Avvertenze

La sicurezza dell'operatore è la questione più importante! Si prega di utilizzare l'apparecchiatura con cautele. Lavorare con gas infiammabili, esplosivi o tossici è molto complicato pericoloso, gli operatori devono prendere tutte le precauzioni necessarie prima di avviare il attrezzatura. Lavorare con pressione positiva all'interno dei reattori o delle camere lo è pericoloso, l'operatore deve rispettare rigorosamente le procedure di sicurezza. Extra è necessario prestare attenzione anche quando si opera con materiali reattivi all'aria, soprattutto sotto vuoto. Una perdita può far entrare aria nell'apparecchio e causare a si verifichi una reazione violenta.

Progettato per te

KinTek fornisce servizi e attrezzature su misura ai clienti di tutto il mondo, il nostro lavoro di squadra specializzato e gli ingegneri esperti e ricchi sono in grado di farlo intraprendere la personalizzazione dei requisiti hardware e software di personalizzazione, e aiutare i nostri clienti a costruire attrezzature esclusive e personalizzate e soluzione!

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FAQ

Che Cos'è L'Mpcvd?

MPCVD è l'acronimo di Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition ed è un processo di deposito di film sottili su una superficie. Utilizza una camera a vuoto, un generatore di microonde e un sistema di erogazione di gas per creare un plasma composto da sostanze chimiche che reagiscono e dai catalizzatori necessari. L'MPCVD è molto utilizzato nella rete ANFF per depositare strati di diamante utilizzando metano e idrogeno per far crescere nuovo diamante su un substrato con seme di diamante. Si tratta di una tecnologia promettente per la produzione di diamanti di grandi dimensioni a basso costo e di alta qualità ed è ampiamente utilizzata nell'industria dei semiconduttori e del taglio dei diamanti.

Che Cos'è La Macchina Per Diamanti CVD?

Una macchina per diamanti CVD è un dispositivo utilizzato per produrre diamanti sintetici attraverso un processo chiamato Chemical Vapor Deposition (CVD). Questo processo prevede la precipitazione di vapori chimici per creare un diamante con proprietà equivalenti a quelle dei diamanti naturali. Le macchine per diamanti CVD includono la CVD termica assistita da filamenti, la CVD potenziata da plasma e la CVD assistita da fiamma di combustione, ecc. I diamanti CVD ottenuti sono utili nell'industria degli utensili da taglio grazie alla loro elevata durezza e alla lunga durata, che li rende uno strumento importante ed economico per il taglio di materiali non ferrosi.

Che Cos'è La Macchina Mpcvd?

La macchina MPCVD (Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition) è un'apparecchiatura di laboratorio utilizzata per la produzione di film di diamante di alta qualità. Utilizza un gas contenente carbonio e un plasma a microonde per creare una sfera di plasma sopra il substrato di diamante, che lo riscalda a una temperatura specifica. La sfera di plasma non entra in contatto con la parete della cavità, rendendo il processo di crescita del diamante privo di impurità e migliorando la qualità del diamante. Il sistema MPCVD è composto da una camera a vuoto, un generatore di microonde e un sistema di erogazione del gas che controlla il flusso di gas nella camera.

Come Funziona Una Macchina Per Diamanti CVD?

Le macchine diamantatrici CVD funzionano introducendo una miscela di gas, in genere metano e idrogeno, in una camera a vuoto. I gas vengono poi attivati con diverse tecniche, come il plasma a microonde o il filamento caldo, che rompono le molecole e liberano atomi di carbonio. Questi atomi di carbonio si depositano poi sul substrato, formando strato dopo strato un diamante sintetico.

Quali Sono I Vantaggi Dell'Mpcvd?

L'MPCVD presenta diversi vantaggi rispetto ad altri metodi di produzione dei diamanti, come una maggiore purezza, un minore consumo energetico e la possibilità di produrre diamanti più grandi.

Quali Sono I Vantaggi Dell'utilizzo Di Macchine Per Diamanti CVD?

Le macchine per diamanti CVD offrono diversi vantaggi rispetto ad altri metodi di produzione del diamante. In primo luogo, consentono di creare diamanti di alta qualità, quasi privi di difetti, con un controllo preciso della loro forma, dimensione e chiarezza. Queste macchine consentono anche di produrre diamanti con proprietà specifiche, come il colore o la conduttività elettrica, introducendo gas droganti appropriati durante il processo di deposizione. Inoltre, le macchine per diamanti CVD sono più rispettose dell'ambiente rispetto all'estrazione tradizionale dei diamanti, in quanto riducono al minimo l'impatto sociale e ambientale associato all'estrazione dei diamanti.

I Diamanti CVD Sono Veri O Falsi?

I diamanti CVD sono diamanti veri e non falsi. Vengono coltivati in laboratorio attraverso un processo chiamato Chemical Vapor Deposition (CVD). A differenza dei diamanti naturali, che vengono estratti dal sottosuolo, i diamanti CVD vengono creati in laboratorio con tecnologie avanzate. Questi diamanti sono composti al 100% da carbonio e rappresentano la forma più pura di diamante, nota come diamante di tipo IIa. Hanno le stesse proprietà ottiche, termiche, fisiche e chimiche dei diamanti naturali. L'unica differenza è che i diamanti CVD vengono creati in laboratorio e non estratti dalla terra.

Quali Sono Le Considerazioni Da Fare Nella Scelta Di Una Macchina Diamantata CVD?

Nella scelta di una macchina per diamanti CVD, occorre considerare diversi fattori. In primo luogo, le dimensioni e la capacità della macchina devono essere in linea con i requisiti di produzione previsti. Le dimensioni della camera di deposizione devono adattarsi alle dimensioni del substrato desiderato e consentire la scalabilità. È necessario valutare anche le capacità di controllo e automazione della macchina per garantire la facilità di funzionamento e la riproducibilità. Inoltre, i metodi di riscaldamento e attivazione della macchina devono essere valutati per garantire l'efficienza e l'uniformità della crescita del diamante. È importante considerare anche la disponibilità di assistenza tecnica, i servizi di manutenzione e i costi complessivi di gestione. La consulenza di produttori ed esperti del settore può aiutare a selezionare la macchina diamantata CVD più adatta alle specifiche esigenze di produzione.

Quali Sono Le Applicazioni Più Comuni Dei Diamanti Prodotti Con Macchine Diamantate CVD?

I diamanti prodotti dalle macchine per diamanti CVD hanno un'ampia gamma di applicazioni. Sono comunemente utilizzati in gioielleria, in quanto offrono la stessa bellezza e durata dei diamanti naturali. I diamanti CVD sono molto apprezzati anche nelle applicazioni industriali, come utensili da taglio, abrasivi e dissipatori di calore, grazie alla loro eccezionale durezza e conducibilità termica. Sono utilizzati nell'industria elettronica per dispositivi elettronici ad alte prestazioni, come transistor ad alta potenza e rilevatori di radiazioni. I diamanti CVD trovano applicazione anche in campo medico, tra cui strumenti chirurgici, componenti ottici e rivestimenti per impianti, grazie alla loro biocompatibilità.
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La PECVD è una tecnica utile per la creazione di rivestimenti a film sottile perché consente la deposizione di un'ampia varietà di materiali, tra cui ossidi, nitruri e carburi.

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Introduzione alla deposizione chimica da vapore (CVD)

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La deposizione chimica da vapore, o CVD, è un processo di rivestimento che prevede l'uso di reagenti gassosi per produrre film sottili e rivestimenti di alta qualità.

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Macchine CVD per la deposizione di film sottili

Macchine CVD per la deposizione di film sottili

La deposizione chimica da vapore (CVD) è una tecnica ampiamente utilizzata per la deposizione di film sottili su vari substrati.

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Guida completa all'MPCVD: Sintesi e applicazioni del diamante

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Esplora i fondamenti, i vantaggi e le applicazioni della deposizione di vapore chimico al plasma a microonde (MPCVD) nella sintesi del diamante. Scoprite le sue capacità uniche e come si confronta con altri metodi di crescita del diamante.

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Guida per principianti alle macchine MPCVD

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MPCVD (Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition) è un processo utilizzato per depositare film sottili di materiale su un substrato utilizzando il plasma generato dalle microonde.

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Vantaggi e svantaggi della deposizione chimica da vapore (CVD)

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La deposizione da vapore chimico (CVD) è una tecnica versatile di deposizione di film sottili ampiamente utilizzata in vari settori. Scopritene i vantaggi, gli svantaggi e le potenziali nuove applicazioni.

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Forno PECVD Una soluzione a bassa potenza e bassa temperatura per la materia soffice

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I forni PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) sono diventati una soluzione popolare per la deposizione di film sottili su superfici di materia morbida.

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