Il metodo chimico per la deposizione di film sottili è chiamato deposizione chimica da vapore (CVD). Nella CVD, un substrato viene posto in una camera a vuoto e due precursori chimici vengono riscaldati, facendoli vaporizzare. Quando questi precursori vaporizzati si incontrano sulla superficie del substrato, avviene una reazione chimica che porta alla formazione di un rivestimento in film sottile. La CVD è una tecnica ampiamente utilizzata per creare film sottili ad alte prestazioni con proprietà specifiche del materiale. È comunemente utilizzata nella produzione di semiconduttori e in altri settori in cui è richiesto un controllo preciso della composizione e dello spessore del film.
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