La deposizione da vapore è una tecnica utilizzata per creare film sottili o rivestimenti su un substrato. Comporta il processo di vaporizzazione di materiali solidi o liquidi in atomi o molecole e il loro trasporto al substrato attraverso il vuoto o un ambiente gassoso/plasma a bassa pressione. Una volta raggiunto il substrato, gli atomi o le molecole si condensano e formano un film sottile.
Esistono diversi metodi di deposizione di vapore, come la deposizione fisica di vapore (PVD). Nella PVD, gli atomi o le molecole vengono rimossi da una sorgente con mezzi fisici, come la deposizione sputter. Nella deposizione sputter, gli atomi vengono rilasciati da una sorgente solida o liquida attraverso lo scambio di quantità di moto.
Durante il processo di deposizione da vapore, gli atomi o le molecole sono trasportati sotto forma di vapore attraverso il vuoto o un ambiente gassoso/plasmatico a bassa pressione. Nella fase di vapore sono spesso presenti plasma o ioni. Durante il processo di deposizione, al vapore può essere introdotto anche un gas reattivo, che dà luogo a una deposizione reattiva.
Il materiale di deposizione viene convertito in vapore in una camera di sputtering a bassa pressione, solitamente sotto vuoto parziale. Il vapore si condensa quindi sul materiale del substrato nella camera, formando un film sottile. Lo spessore del film può essere controllato dalla durata del processo di sputtering e da altri fattori come la massa dei materiali coinvolti e il livello di energia delle particelle di rivestimento.
I sistemi di deposizione di vapore, come i sistemi di deposizione di vapore chimico (CVD), sono comunemente utilizzati nei forni industriali per depositare film sottili e altri materiali. I processi CVD sono utilizzati per depositare materiali come metalli, semiconduttori e plastiche. Questi sistemi utilizzano un flusso di gas caldi per formare un film sul substrato.
In sintesi, la deposizione da vapore è un processo che prevede la vaporizzazione di materiali e il loro trasporto su un substrato, dove si condensano per formare un film sottile. Viene utilizzata in vari settori industriali per il rivestimento e, a seconda dei requisiti specifici, vengono impiegate tecniche diverse come la deposizione fisica da vapore e la deposizione chimica da vapore.
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