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Scopri come la Deposizione Chimica da Vapore Assistita da Plasma (PACVD) consente il rivestimento a film sottile su substrati sensibili al calore utilizzando energia al plasma anziché calore elevato.
Scopri come il processo a bassa temperatura del PECVD deposita film sottili critici per semiconduttori, MEMS e optoelettronica senza danneggiare substrati delicati.
Scopri come funziona l'evaporazione sotto vuoto per rivestimenti di film sottili ad alta purezza e la purificazione dei liquidi. Scopri le sue applicazioni, i vantaggi e i limiti.
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Scopri come la deposizione chimica da vapore a bassa pressione (LPCVD) crea film sottili uniformi e conformi utilizzando gas, calore e vuoto per la produzione di semiconduttori.
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Scopri la Deposizione Chimica da Bagno (CBD), nota anche come Deposizione da Soluzione Chimica, un metodo di crescita di film sottili a basso costo e a bassa temperatura.
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