L'uniformità di un film si riferisce alla coerenza delle proprietà del film su un substrato, principalmente per quanto riguarda lo spessore del film, ma anche per altre proprietà come l'indice di rifrazione. Il raggiungimento di una buona uniformità è fondamentale per la qualità e la funzionalità del film in varie applicazioni.
Uniformità dello spessore del film:
L'uniformità dello spessore del film è un aspetto critico della qualità del film. Misura l'uniformità con cui il film viene depositato sulla superficie del substrato. Nel contesto del rivestimento sputter, il processo prevede l'uso di ioni incidenti ottenuti con metodi di scarica di gas. La pressione di lavoro all'interno della camera da vuoto, tipicamente compresa tra 10^-2 Pa e 10 Pa, influenza l'uniformità. Durante lo sputtering, gli ioni spesso collidono con le molecole di gas, causando una deviazione casuale della loro direzione. Questa casualità, unita alla maggiore superficie del bersaglio su cui avviene lo sputtering, porta generalmente a una deposizione più uniforme rispetto ad altri metodi di rivestimento sotto vuoto. Ciò è particolarmente importante per i pezzi con geometrie complesse, come scanalature a gancio o gradini, dove l'uniformità può ridurre al minimo le differenze di spessore del film causate dall'effetto catodico.Uniformità di altre proprietà del film:
Oltre allo spessore, l'uniformità può riferirsi anche alla consistenza di altre proprietà del film, come l'indice di rifrazione. L'indice di rifrazione è una proprietà ottica che può essere misurata con tecniche come l'elipsometria. Fornisce informazioni sulla densità, sulla costante dielettrica e sulla stechiometria del film. Ad esempio, nei film di nitruro di silicio, un indice di rifrazione di 2,0 è ideale. Le deviazioni da questo valore possono indicare la presenza di impurità o variazioni nella composizione del film, che possono influire sulle sue prestazioni e sulla sua affidabilità.
Impatto dei metodi di deposizione:
