La temperatura di deposizione tipica per i rivestimenti DLC è inferiore a 200°C. In particolare, la tecnologia di deposizione specifica di HEF consente la deposizione di rivestimenti DLC a circa 170°C. I film DLC possono essere depositati con il metodo della deposizione chimica da vapore assistita da plasma a radiofrequenza (RF PECVD), che consente la deposizione di film di carbonio con un'ampia gamma di proprietà ottiche ed elettriche. I film hanno una buona adesione a molti substrati e possono essere depositati a temperature relativamente basse. Tuttavia, le pellicole di carbonio sp3 altamente contenenti, note come diamante policristallino, sono solitamente prodotte con processi di deposizione da vapore chimico (CVD) ad alta temperatura. Le pellicole di carbonio diamantato (DLC), nelle loro diverse forme, possono essere depositate a temperature ancora più basse, intorno ai 300°C, con un'elevata forza adesiva utilizzando strati di legame adeguati. Anche la deposizione di vapore chimico potenziata al plasma (PECVD) può essere utilizzata per produrre rivestimenti DLC, che sono duri, resistenti ai graffi e hanno buone proprietà di barriera. La PECVD offre vantaggi quali temperature più basse, stabilità chimica, meno sottoprodotti tossici, tempi di lavorazione rapidi ed elevate velocità di deposizione. In generale, i rivestimenti DLC possono essere depositati a varie temperature, a seconda del metodo di deposizione specifico e delle proprietà desiderate.
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