Quando si tratta di applicare rivestimenti al carbonio simile al diamante (DLC), la temperatura gioca un ruolo fondamentale.
I rivestimenti DLC vengono generalmente applicati a temperature inferiori a 200°C.
La tecnologia di deposizione specifica di HEF consente l'applicazione di rivestimenti DLC a circa 170°C.
I film DLC possono essere depositati con il metodo della deposizione chimica di vapore assistita da plasma a radiofrequenza (RF PECVD).
Questo metodo consente la deposizione di film di carbonio con un'ampia gamma di proprietà ottiche ed elettriche.
I film hanno una buona adesione a molti substrati e possono essere depositati a temperature relativamente basse.
Tuttavia, le pellicole di carbonio sp3 altamente contenenti, note come diamante policristallino, sono solitamente prodotte con processi di deposizione da vapore chimico (CVD) ad alta temperatura.
Le pellicole di carbonio diamantato (DLC), nelle loro diverse forme, possono essere depositate a temperature ancora più basse, intorno ai 300°C, con un'elevata forza adesiva utilizzando strati di legame adeguati.
Anche la deposizione di vapore chimico potenziata al plasma (PECVD) può essere utilizzata per produrre rivestimenti DLC.
Questi rivestimenti sono duri, resistenti ai graffi e hanno buone proprietà di barriera.
La PECVD offre vantaggi quali temperature più basse, stabilità chimica, meno sottoprodotti tossici, tempi di lavorazione rapidi ed elevate velocità di deposizione.
In generale, i rivestimenti DLC possono essere depositati a varie temperature, a seconda del metodo di deposizione specifico e delle proprietà desiderate.
A quale temperatura si applica il DLC? 5 punti chiave da conoscere
1. Temperatura di deposizione tipica
I rivestimenti DLC vengono generalmente applicati a temperature inferiori a 200°C.
2. La tecnologia di deposizione specifica di HEF
La tecnologia di HEF consente l'applicazione di rivestimenti DLC a circa 170°C.
3. Metodo RF PECVD
I film DLC possono essere depositati con il metodo della deposizione chimica di vapore assistita da plasma a radiofrequenza (RF PECVD).
4. Deposizione a bassa temperatura
I film hanno una buona adesione a molti substrati e possono essere depositati a temperature relativamente basse.
5. Vantaggi della PECVD
La deposizione di vapore chimico potenziata al plasma (PECVD) offre vantaggi quali temperature più basse, stabilità chimica, riduzione dei sottoprodotti tossici, tempi di lavorazione rapidi e tassi di deposizione elevati.
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