La deposizione in bagno chimico è nota anche comeCBD (Chemical Bath Deposition) o talvolta indicata comedeposizione in soluzione chimica (CSD).
Questo metodo prevede l'immersione di un substrato in una soluzione chimica dove la deposizione di un film sottile avviene attraverso reazioni chimiche nella soluzione.
CBD si caratterizza per la sua semplicità ed economicità, in quanto non richiede costosi sistemi di vuoto o alte temperature.
Il processo prevede l'immersione del substrato in un bagno contenente precursori che reagiscono per formare il film desiderato sulla superficie del substrato.
Questo metodo è particolarmente utile per depositare film sottili di materiali difficili da ottenere con metodi fisici, grazie alla sua capacità di rivestire uniformemente forme complesse.
Deposizione chimica in soluzione (CSD)simile alla CBD, prevede in genere l'uso di un solvente organico e di polveri organometalliche, che vengono disciolte o sospese nel solvente.
Il substrato viene quindi immerso in questa soluzione e, attraverso reazioni chimiche, viene depositato un film sottile.
La CSD è spesso paragonata alla galvanoplastica, ma è generalmente più semplice e meno costosa, offrendo risultati comparabili in termini di qualità e uniformità del film.
Sia il CBD che il CSD fanno parte della più ampia categoria dei metodi diMetodi di deposizione chimicache si contrappongono aiMetodi di deposizione fisica come l'evaporazione e lo sputtering.
I metodi di deposizione chimica sono preferiti per il loro costo inferiore e la facilità d'uso, soprattutto per le applicazioni che richiedono un'elevata produttività e un rivestimento uniforme.
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