Conoscenza Qual è il processo di evaporazione nei semiconduttori?
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Squadra tecnologica · Kintek Solution

Aggiornato 1 settimana fa

Qual è il processo di evaporazione nei semiconduttori?

L'evaporazione nei semiconduttori è una tecnica di deposizione a film sottile in cui i materiali di partenza vengono riscaldati ad alte temperature, facendoli evaporare o sublimare in un vapore. Questo vapore si condensa poi sui substrati, formando un sottile strato di materiale. Questo processo è tipicamente condotto sotto vuoto spinto per garantire la purezza e l'integrità del film depositato.

Spiegazione dettagliata:

  1. Riscaldamento ed evaporazione:

  2. Il processo inizia con il riscaldamento del materiale di partenza fino al suo punto di evaporazione. Questo può essere ottenuto con diversi metodi, come l'evaporazione a fascio di elettroni o l'evaporazione termica. Nell'evaporazione a fascio di elettroni, un fascio di elettroni altamente caricato viene utilizzato per riscaldare e far evaporare il materiale. Nell'evaporazione termica, si utilizza un riscaldamento resistivo per generare una pressione di vapore dal materiale.Ambiente sotto vuoto:

  3. L'evaporazione avviene in un ambiente ad alto vuoto. Il vuoto è fondamentale perché riduce al minimo le collisioni di gas e le reazioni indesiderate con il materiale evaporato. Inoltre, contribuisce a mantenere un lungo percorso medio libero per le particelle di vapore, consentendo loro di raggiungere direttamente il substrato senza interferenze significative.

  4. Deposizione sul substrato:

  5. Una volta evaporato, il materiale viaggia sotto forma di vapore e si deposita sul substrato. Il substrato viene in genere mantenuto a una distanza e a un orientamento specifici rispetto al materiale di partenza per garantire una deposizione uniforme. Quando il vapore raggiunge il substrato più freddo, si condensa in un solido, formando un film sottile.Controllo e regolazione:

Lo spessore e la qualità del film depositato possono essere controllati regolando diversi parametri, come la temperatura dell'evaporante, la velocità di deposizione e la distanza tra l'evaporante e il substrato. Questo controllo è essenziale per ottenere le proprietà desiderate nel film depositato, che è fondamentale per le applicazioni nei semiconduttori.

Applicazioni:

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