Parti per la deposizione di film sottili

Rivestimento per evaporazione a fascio di elettroni Crogiolo conduttivo di nitruro di boro (crogiolo BN)

Name: Rivestimento per evaporazione a fascio di elettroni Crogiolo conduttivo di nitruro di boro (crogiolo BN)
Brand: Kintek Solution
SKU: KES03
Rating: 4.75 (16 reviews)

Numero articolo : KES03

Il prezzo varia in base a specifiche e personalizzazioni

Materiale: Nitruro di boro
Specifiche: 35-64,5 mm*17-35 mm

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Descrizione
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Applicazione

I crogioli di nitruro di boro conduttivo sono crogioli lisci di elevata purezza progettati per i rivestimenti per evaporazione a fascio di elettroni. Presentano un'eccellente resistenza alle alte temperature e prestazioni nei cicli termici e non reagiscono con vari metalli e terre rare ceramiche. Il crogiolo rimane intatto anche in condizioni di rapido riscaldamento e raffreddamento. Trova applicazione nella fusione di leghe, nella sinterizzazione di terre rare e ceramiche e nel rivestimento per evaporazione a fascio elettronico. Viene spesso utilizzato nei processi di evaporazione termica come il riscaldamento a induzione ad alta frequenza, il rivestimento, il rivestimento per evaporazione a fascio di elettroni, la placcatura dell'alluminio e la placcatura del silicio.

Il crogiolo in nitruro di boro conduttivo ha un'elevata purezza, un'alta finitura ed eccellenti prestazioni di rivestimento per evaporazione a fascio di elettroni. Possono aumentare i tassi di evaporazione, accelerare la commutazione dei materiali, migliorare la stabilità termica e ridurre i requisiti di potenza, aumentando in definitiva la produttività e l'efficienza dei costi.

Dettagli e parti

Dettaglio del crogiolo in nitruro di boro conduttivo con rivestimento per evaporazione a fascio di elettroni

Particolare del crogiolo in nitruro di boro conduttivo con rivestimento per evaporazione a fascio di elettroni 2

Dettaglio del crogiolo in nitruro di boro conduttivo con rivestimento per evaporazione a fascio di elettroni3

Specifiche tecniche

Diametro esterno	35 mm	40 mm	45 mm	50 mm	64,5 mm
Alto	17 mm	20 mm	22,5 mm	25 mm	35 mm

I crogioli che presentiamo sono disponibili in diverse dimensioni e, su richiesta, sono disponibili dimensioni personalizzate.

Vantaggi

Il film ha una buona finitura, elevata purezza, minore inquinamento e lunga durata.
Eccellente resistenza alle alte temperature, resistenza ai cicli termici.
Bassa espansione termica, resiste alla bagnatura della maggior parte dei metalli fusi.
Resistenza al calore fino a 2000℃, il nitruro di boro non reagisce con l'alluminio e non è facile da volatilizzare.
Aumento del tasso di evaporazione; l'aumento del tasso di evaporazione riduce il tempo di ciclo e aumenta la resa complessiva.
Rapido cambio di materiale: i crogioli conduttivi in nitruro di boro facilitano il rapido cambio di materiale, riducendo al minimo i tempi di inattività della camera e aumentando l'efficienza del processo.
Maggiore stabilità termica: questi crogioli hanno una maggiore stabilità termica, riducendo il trasferimento di calore dal crogiolo stesso e garantendo un'evaporazione costante e controllata.

FAQ

Che cos'è la deposizione fisica da vapore (PVD)?

La deposizione fisica da vapore (PVD) è una tecnica per depositare film sottili vaporizzando un materiale solido nel vuoto e depositandolo poi su un substrato. I rivestimenti PVD sono altamente durevoli, resistenti ai graffi e alla corrosione e sono quindi ideali per una varietà di applicazioni, dalle celle solari ai semiconduttori. La PVD crea anche film sottili in grado di resistere alle alte temperature. Tuttavia, la PVD può essere costosa e il costo varia a seconda del metodo utilizzato. Ad esempio, l'evaporazione è un metodo PVD a basso costo, mentre lo sputtering a fascio ionico è piuttosto costoso. Il magnetron sputtering, invece, è più costoso ma più scalabile.

Come si producono i crogioli di grafite di elevata purezza?

I crogioli di grafite di elevata purezza sono in genere prodotti attraverso un processo chiamato pressatura isostatica. Con questo metodo, la polvere di grafite viene posta in uno stampo di gomma e quindi sottoposta a una pressione elevata da tutte le direzioni. Questa pressione compatta le particelle di grafite in una forma di crogiolo densa e uniforme. Il crogiolo viene poi riscaldato ad alta temperatura per rimuovere le impurità e migliorarne la purezza.

Che cos'è lo sputtering magnetronico?

Il magnetron sputtering è una tecnica di rivestimento al plasma utilizzata per produrre film molto densi con un'eccellente adesione, che lo rende un metodo versatile per creare rivestimenti su materiali che hanno punti di fusione elevati e non possono essere evaporati. Questo metodo genera un plasma confinato magneticamente vicino alla superficie di un bersaglio, dove ioni energetici con carica positiva si scontrano con il materiale del bersaglio con carica negativa, causando l'espulsione di atomi o "sputtering". Questi atomi espulsi vengono poi depositati su un substrato o un wafer per creare il rivestimento desiderato.

Che cos'è un bersaglio sputtering?

Un bersaglio sputtering è un materiale utilizzato nel processo di deposizione sputtering, che prevede la frantumazione del materiale bersaglio in minuscole particelle che formano uno spray e rivestono un substrato, come un wafer di silicio. I target di sputtering sono in genere elementi metallici o leghe, anche se sono disponibili alcuni target in ceramica. Sono disponibili in una varietà di dimensioni e forme, con alcuni produttori che creano bersagli segmentati per le apparecchiature di sputtering più grandi. I bersagli sputtering hanno un'ampia gamma di applicazioni in campi quali la microelettronica, le celle solari a film sottile, l'optoelettronica e i rivestimenti decorativi, grazie alla loro capacità di depositare film sottili con elevata precisione e uniformità.

Quali sono i metodi utilizzati per depositare film sottili?

I due metodi principali utilizzati per depositare film sottili sono la deposizione chimica da vapore (CVD) e la deposizione fisica da vapore (PVD). La CVD prevede l'introduzione di gas reagenti in una camera, dove reagiscono sulla superficie del wafer per formare un film solido. La PVD non prevede reazioni chimiche, ma la creazione di vapori dei materiali costituenti all'interno della camera, che poi si condensano sulla superficie del wafer per formare un film solido. I tipi più comuni di PVD includono la deposizione per evaporazione e la deposizione per sputtering. I tre tipi di tecniche di deposizione per evaporazione sono l'evaporazione termica, l'evaporazione a fascio di elettroni e il riscaldamento induttivo.

Quali sono le applicazioni più comuni dei crogioli di grafite di elevata purezza?

I crogioli di grafite di elevata purezza hanno un'ampia gamma di applicazioni in settori quali la metallurgia, le fonderie e i laboratori. Sono comunemente utilizzati per la fusione e la colata di metalli non ferrosi, tra cui alluminio, rame e metalli preziosi. I crogioli di grafite di elevata purezza sono utilizzati anche nella produzione di leghe e ceramiche ad alta temperatura. Sono essenziali in processi come l'analisi chimica, la spettroscopia e la preparazione dei campioni nei laboratori. Inoltre, questi crogioli trovano applicazione nell'industria dei semiconduttori per la fusione e la crescita del silicio e di altri materiali semiconduttori.

Perché lo sputtering magnetronico?

Il magnetron sputtering è preferito per la sua capacità di raggiungere un'elevata precisione nello spessore del film e nella densità dei rivestimenti, superando i metodi di evaporazione. Questa tecnica è particolarmente adatta per creare rivestimenti metallici o isolanti con specifiche proprietà ottiche o elettriche. Inoltre, i sistemi di sputtering magnetronico possono essere configurati con più sorgenti magnetroniche.

Come vengono prodotti i bersagli sputtering?

I target sputtering sono realizzati con una serie di processi produttivi che dipendono dalle proprietà del materiale del target e dalla sua applicazione. Questi includono la fusione e la laminazione sotto vuoto, la pressatura a caldo, il processo speciale di sinterizzazione, la pressatura a caldo sotto vuoto e i metodi di forgiatura. La maggior parte dei materiali dei target di sputtering può essere fabbricata in un'ampia gamma di forme e dimensioni; le forme circolari o rettangolari sono le più comuni. I target sono solitamente realizzati con elementi o leghe metalliche, ma possono essere utilizzati anche target ceramici. Sono disponibili anche bersagli sputtering composti, realizzati con una varietà di composti tra cui ossidi, nitruri, boruri, solfuri, seleniuri, tellururi, carburi, cristalli e miscele composite.

Cosa sono le apparecchiature per la deposizione di film sottili?

Le apparecchiature per la deposizione di film sottili si riferiscono agli strumenti e ai metodi utilizzati per creare e depositare rivestimenti di film sottili su un materiale di supporto. Questi rivestimenti possono essere realizzati in vari materiali e avere caratteristiche diverse che possono migliorare o alterare le prestazioni del substrato. La deposizione fisica da vapore (PVD) è una tecnica popolare che prevede la vaporizzazione di un materiale solido nel vuoto e il successivo deposito su un substrato. Altri metodi includono l'evaporazione e lo sputtering. Le apparecchiature per la deposizione di film sottili sono utilizzate, tra l'altro, nella produzione di dispositivi optoelettronici, impianti medici e ottica di precisione.

Quali sono i materiali più comuni utilizzati per i crogioli di evaporazione?

I crogioli di evaporazione sono comunemente realizzati con materiali come tungsteno, tantalio, molibdeno, grafite o composti ceramici. Questi materiali hanno un elevato punto di fusione e una buona conducibilità termica, che li rende adatti alle condizioni di alta temperatura richieste durante l'evaporazione. La scelta del materiale del crogiolo dipende da fattori quali il materiale evaporante, le proprietà del film desiderate e i parametri del processo.

Quali sono i fattori da considerare nella scelta dei crogioli di grafite di elevata purezza?

Nella scelta dei crogioli di grafite di elevata purezza, occorre considerare diversi fattori. In primo luogo, le dimensioni e la capacità del crogiolo devono essere in linea con l'applicazione prevista e la quantità di materiale da fondere o lavorare. La conducibilità termica, la resistenza agli shock termici e la compatibilità chimica del crogiolo devono essere valutate per garantire che soddisfino i requisiti specifici del processo. È importante scegliere crogioli realizzati con grafite di alta qualità e con elevati livelli di purezza per ridurre al minimo la contaminazione e garantire prestazioni eccellenti. È necessario considerare anche il design e la costruzione del crogiolo, come la presenza di maniglie o beccucci per facilitare la manipolazione. Inoltre, è consigliabile consultare i produttori o gli esperti del settore per garantire la selezione dei crogioli di grafite ad alta purezza più adatti alle applicazioni specifiche.

Quali sono i materiali utilizzati nella deposizione di film sottili?

La deposizione di film sottili utilizza comunemente metalli, ossidi e composti come materiali, ciascuno con vantaggi e svantaggi unici. I metalli sono preferiti per la loro durata e facilità di deposizione, ma sono relativamente costosi. Gli ossidi sono molto durevoli, resistono alle alte temperature e possono essere depositati a basse temperature, ma possono essere fragili e difficili da lavorare. I composti offrono resistenza e durata, possono essere depositati a basse temperature e personalizzati per esibire proprietà specifiche.

La scelta del materiale per un rivestimento a film sottile dipende dai requisiti dell'applicazione. I metalli sono ideali per la conduzione termica ed elettrica, mentre gli ossidi sono efficaci per offrire protezione. I composti possono essere personalizzati per soddisfare esigenze specifiche. In definitiva, il materiale migliore per un particolare progetto dipenderà dalle esigenze specifiche dell'applicazione.

A cosa servono i target sputtering?

I bersagli sputtering sono utilizzati in un processo chiamato sputtering per depositare film sottili di un materiale su un substrato utilizzando ioni per bombardare il bersaglio. Questi bersagli hanno un'ampia gamma di applicazioni in vari campi, tra cui la microelettronica, le celle solari a film sottile, l'optoelettronica e i rivestimenti decorativi. Consentono la deposizione di film sottili di materiali su una varietà di substrati con elevata precisione e uniformità, rendendoli uno strumento ideale per la produzione di prodotti di precisione. I target sputtering sono disponibili in varie forme e dimensioni e possono essere specializzati per soddisfare i requisiti specifici dell'applicazione.

Che cos'è la tecnologia di deposizione a film sottile?

La tecnologia di deposizione a film sottile è il processo di applicazione di un film sottilissimo di materiale, di spessore variabile da pochi nanometri a 100 micrometri, sulla superficie di un substrato o su rivestimenti precedentemente depositati. Questa tecnologia è utilizzata nella produzione dell'elettronica moderna, compresi semiconduttori, dispositivi ottici, pannelli solari, CD e unità disco. Le due grandi categorie di deposizione di film sottili sono la deposizione chimica, in cui un cambiamento chimico produce un rivestimento depositato chimicamente, e la deposizione fisica da vapore, in cui un materiale viene rilasciato da una fonte e depositato su un substrato utilizzando processi meccanici, elettromeccanici o termodinamici.

Quali sono i vantaggi dell'uso dei crogioli evaporativi?

I crogioli di evaporazione offrono diversi vantaggi nei processi di deposizione di film sottili. Forniscono un ambiente controllato per l'evaporazione dei materiali, consentendo un controllo preciso dello spessore e dell'uniformità del film. I crogioli sono in grado di resistere alle alte temperature e di garantire un efficiente trasferimento di calore, assicurando tassi di evaporazione costanti. Sono disponibili in varie dimensioni e forme per adattarsi a diversi sistemi di evaporazione e configurazioni di substrati. I crogioli di evaporazione consentono inoltre la deposizione di un'ampia gamma di materiali, tra cui metalli, semiconduttori e ceramiche. Possono essere facilmente caricati e scaricati, facilitando un rapido cambio di materiale o la regolazione del processo. In generale, i crogioli evaporativi sono strumenti essenziali nelle tecniche di deposizione di film sottili, in quanto offrono versatilità, affidabilità e riproducibilità.

Quali sono i metodi per ottenere una deposizione ottimale di film sottili?

Per ottenere film sottili con proprietà desiderabili, sono essenziali target di sputtering e materiali di evaporazione di alta qualità. La qualità di questi materiali può essere influenzata da vari fattori, come la purezza, la dimensione dei grani e le condizioni della superficie.

La purezza dei target di sputtering o dei materiali di evaporazione svolge un ruolo cruciale, poiché le impurità possono causare difetti nel film sottile risultante. Anche la dimensione dei grani influisce sulla qualità del film sottile, con grani più grandi che portano a proprietà scadenti. Inoltre, le condizioni della superficie sono cruciali, poiché le superfici ruvide possono causare difetti nel film.

Per ottenere bersagli di sputtering e materiali di evaporazione della massima qualità, è fondamentale selezionare materiali che possiedano un'elevata purezza, una piccola dimensione dei grani e superfici lisce.

Usi della deposizione a film sottile

Film sottili a base di ossido di zinco

I film sottili di zinco trovano applicazione in diversi settori, come quello termico, ottico, magnetico ed elettrico, ma il loro impiego principale è nei rivestimenti e nei dispositivi a semiconduttore.

Resistenze a film sottile

Le resistenze a film sottile sono cruciali per la tecnologia moderna e sono utilizzate in ricevitori radio, circuiti stampati, computer, dispositivi a radiofrequenza, monitor, router wireless, moduli Bluetooth e ricevitori per telefoni cellulari.

Film sottili magnetici

I film sottili magnetici sono utilizzati nell'elettronica, nella memorizzazione dei dati, nell'identificazione a radiofrequenza, nei dispositivi a microonde, nei display, nei circuiti e nell'optoelettronica come componenti chiave.

Film sottili ottici

I rivestimenti ottici e l'optoelettronica sono applicazioni standard dei film sottili ottici. L'epitassia a fascio molecolare può produrre dispositivi optoelettronici a film sottile (semiconduttori), dove i film epitassiali sono depositati un atomo alla volta sul substrato.

Film sottili polimerici

I film sottili polimerici sono utilizzati nei chip di memoria, nelle celle solari e nei dispositivi elettronici. Le tecniche di deposizione chimica (CVD) offrono un controllo preciso dei rivestimenti di film polimerici, compresi la conformità e lo spessore del rivestimento.

Batterie a film sottile

Le batterie a film sottile alimentano dispositivi elettronici come i dispositivi medici impiantabili, e la batteria agli ioni di litio è progredita in modo significativo grazie all'uso di film sottili.

Rivestimenti a film sottile

I rivestimenti a film sottile migliorano le caratteristiche chimiche e meccaniche dei materiali di destinazione in varie industrie e campi tecnologici. Rivestimenti antiriflesso, rivestimenti anti-ultravioletti o anti-infrarossi, rivestimenti antigraffio e polarizzazione delle lenti sono alcuni esempi comuni.

Celle solari a film sottile

Le celle solari a film sottile sono essenziali per l'industria dell'energia solare, in quanto consentono la produzione di elettricità pulita e relativamente economica. I sistemi fotovoltaici e l'energia termica sono le due principali tecnologie applicabili.

Cosa sono i target sputtering per l'elettronica?

I bersagli sputtering per l'elettronica sono dischi o fogli sottili di materiali come alluminio, rame e titanio che vengono utilizzati per depositare film sottili su wafer di silicio per creare dispositivi elettronici come transistor, diodi e circuiti integrati. Questi target sono utilizzati in un processo chiamato sputtering, in cui gli atomi del materiale target vengono fisicamente espulsi dalla superficie e depositati su un substrato bombardando il target con ioni. I target di sputtering per l'elettronica sono essenziali nella produzione di microelettronica e in genere richiedono un'elevata precisione e uniformità per garantire dispositivi di qualità.

Quali sono i vantaggi dell'utilizzo di apparecchiature per la deposizione di film sottili?

Le apparecchiature per la deposizione di film sottili offrono diversi vantaggi in vari settori industriali e di ricerca. Consentono un controllo preciso delle proprietà del film, come lo spessore, la composizione e la struttura, permettendo di ottenere materiali su misura con funzionalità specifiche. I film sottili possono essere depositati su grandi superfici, forme complesse e diversi materiali di supporto. Il processo di deposizione può essere ottimizzato per ottenere un'elevata uniformità, adesione e purezza dei film. Inoltre, le apparecchiature per la deposizione di film sottili possono operare a temperature relativamente basse, riducendo lo stress termico sul substrato e consentendo la deposizione su materiali sensibili alla temperatura. I film sottili trovano applicazione in campi quali l'elettronica, l'ottica, l'energia, i rivestimenti e i dispositivi biomedici, offrendo prestazioni, protezione o funzionalità migliorate.

Come devono essere maneggiati e mantenuti i crogioli di evaporazione?

I crogioli di evaporazione devono essere maneggiati e mantenuti con cura per garantirne la longevità e le prestazioni. I crogioli devono essere puliti accuratamente prima di ogni utilizzo per rimuovere eventuali residui di depositi precedenti. Evitare l'uso di materiali abrasivi che potrebbero danneggiare la superficie del crogiolo. Durante le operazioni di carico e scarico, maneggiare i crogioli con guanti puliti o strumenti specializzati per evitare contaminazioni. Quando non vengono utilizzati, conservare i crogioli in un ambiente asciutto e pulito per evitare la corrosione o il degrado. L'ispezione regolare dei crogioli per verificare la presenza di crepe, difetti o segni di usura è importante per evitare guasti imprevisti durante il processo di evaporazione. Seguire le raccomandazioni del produttore per qualsiasi procedura di manutenzione specifica, come la ricottura o il trattamento superficiale, per prolungare la durata del crogiolo.

Fattori e parametri che influenzano la deposizione di film sottili

Rapidità di deposizione:

La velocità di produzione del film, tipicamente misurata in spessore diviso per il tempo, è fondamentale per selezionare una tecnologia adatta all'applicazione. Per i film sottili è sufficiente una velocità di deposizione moderata, mentre per i film spessi è necessaria una velocità di deposizione rapida. È importante trovare un equilibrio tra velocità e controllo preciso dello spessore del film.

Uniformità:

La consistenza del film sul substrato è nota come uniformità, che di solito si riferisce allo spessore del film ma può anche riguardare altre proprietà come l'indice di rifrazione. È importante avere una buona comprensione dell'applicazione per evitare di sotto- o sovra-specificare l'uniformità.

Capacità di riempimento:

La capacità di riempimento o copertura del gradino si riferisce a quanto il processo di deposizione copre la topografia del substrato. Il metodo di deposizione utilizzato (ad esempio, CVD, PVD, IBD o ALD) ha un impatto significativo sulla copertura dei gradini e sul riempimento.

Caratteristiche del film:

Le caratteristiche del film dipendono dai requisiti dell'applicazione, che possono essere classificati come fotonici, ottici, elettronici, meccanici o chimici. La maggior parte dei film deve soddisfare i requisiti di più di una categoria.

Temperatura di processo:

Le caratteristiche del film sono significativamente influenzate dalla temperatura di processo, che può essere limitata dall'applicazione.

Danni:

Ogni tecnologia di deposizione ha il potenziale di danneggiare il materiale su cui viene depositato, con caratteristiche più piccole che sono più suscettibili ai danni di processo. L'inquinamento, le radiazioni UV e il bombardamento ionico sono tra le potenziali fonti di danno. È fondamentale comprendere i limiti dei materiali e degli strumenti.

Qual è la durata di un target di sputtering?

La durata di un bersaglio sputtering dipende da fattori quali la composizione del materiale, la purezza e l'applicazione specifica per cui viene utilizzato. In genere, i target possono durare da alcune centinaia a qualche migliaio di ore di sputtering, ma la durata può variare notevolmente a seconda delle condizioni specifiche di ogni ciclo. Anche una corretta manipolazione e manutenzione può prolungare la durata di un target. Inoltre, l'uso di bersagli sputtering rotanti può aumentare i tempi di esecuzione e ridurre l'insorgenza di difetti, rendendoli un'opzione più conveniente per i processi ad alto volume.

Quali sono i fattori da considerare nella scelta di un'apparecchiatura per la deposizione di film sottili?

Nella scelta di un'apparecchiatura per la deposizione di film sottili si devono considerare diversi fattori. La tecnica (PVD, CVD, ALD, MBE) deve essere in linea con le proprietà desiderate del film e con il materiale specifico da depositare. Le dimensioni e la configurazione della camera di deposizione devono adattarsi alle dimensioni e alla forma del substrato. Le capacità dell'apparecchiatura in termini di controllo dello spessore del film, uniformità e velocità di deposizione devono soddisfare le esigenze dell'applicazione. Le considerazioni devono includere anche la disponibilità e la compatibilità dei materiali precursori o delle sorgenti target per la composizione del film desiderata. Altri fattori da considerare sono la facilità di funzionamento, i requisiti di manutenzione, l'affidabilità del sistema di vuoto ed eventuali caratteristiche aggiuntive, come il monitoraggio in situ o le opzioni di controllo. La consulenza di esperti o di produttori può fornire indicazioni preziose per la scelta dell'apparecchiatura di deposizione di film sottili più adatta a un'applicazione specifica.

Quali sono le considerazioni sulla sicurezza associate al funzionamento delle apparecchiature di deposizione di film sottili?

L'utilizzo di apparecchiature per la deposizione di film sottili richiede alcune considerazioni di sicurezza per garantire il benessere degli operatori e prevenire potenziali pericoli. Alcune tecniche di deposizione prevedono l'uso di temperature elevate, ambienti sotto vuoto o gas tossici. È necessario adottare protocolli di sicurezza adeguati, tra cui una formazione adeguata per gli operatori, l'uso di dispositivi di protezione individuale (DPI) e il rispetto delle linee guida sulla sicurezza fornite dal produttore dell'apparecchiatura e dagli enti normativi. Devono essere installati sistemi di ventilazione adeguati per gestire eventuali gas o sottoprodotti pericolosi generati durante il processo di deposizione. È necessario implementare sistemi di spegnimento di emergenza, allarmi e interblocchi per gestire eventi imprevisti o malfunzionamenti delle apparecchiature. Per garantire la sicurezza e la funzionalità dell'apparecchiatura, è necessario effettuare la manutenzione e le ispezioni periodiche. È fondamentale disporre di protocolli di sicurezza ben definiti e seguire le pratiche raccomandate per ridurre al minimo i rischi associati al funzionamento delle apparecchiature di deposizione di film sottile.

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