Parti per la deposizione di film sottili

Crogiolo di grafite per evaporazione a fascio di elettroni

Name: Crogiolo di grafite per evaporazione a fascio di elettroni
Brand: Kintek Solution
SKU: KMS02
Rating: 4.75 (18 reviews)

Numero articolo : KMS02

Il prezzo varia in base a specifiche e personalizzazioni

Materiale: Grafite
Specifiche tecniche: Ф35-65*17-30mm
copertura: opzionale

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Descrizione
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Applicazioni

Il crogiolo di grafite per evaporazione a fascio di elettroni è una tecnologia che utilizza fasci di elettroni per creare film di grafite flessibili e ruvidi. I suoi parametri chiave includono l'alimentazione della fonte di carbonio, l'energia di irradiazione del fascio di elettroni, la tensione applicata, la temperatura di evaporazione e il tempo di evaporazione. La tensione applicata modula l'adesione tra lo strato di grafite e lo strato inferiore del crogiolo. Per garantire uno strato di grafite piatto, è necessario controllare la portata e la dimensione delle particelle della fonte di carbonio per ottenere una deposizione e un'evaporazione uniformi.

Nel campo dell'elettronica di potenza, la tecnologia del crogiolo di grafite per evaporazione a fascio di elettroni è ampiamente utilizzata. Si tratta di depositare un materiale di origine di carbonio utilizzando un fascio di elettroni per formare un film sottile di grafite. Il crogiolo di grafite prodotto con questo processo ha una bassa resistenza, una bassa corona e un'elevata resistenza alla resa. È ampiamente utilizzato per la dissipazione del calore, la produzione e il collaudo di apparecchiature elettroniche.

Dettagli e parti

Dettagli del crogiolo di grafite per evaporazione a fascio di elettroni

Dettagli del crogiolo di grafite per evaporazione a fascio di elettroni 2

Dettagli crogiolo in grafite per evaporazione a fascio di elettroni

Crogiolo di grafite impermeabile con coperchio dettaglio 1 — Crogiolo di grafite impermeabile con coperchio

Crogiolo di grafite impermeabile con coperchio dettaglio 2 — Crogiolo di grafite impermeabile con coperchio

Crogiolo di grafite impermeabile con coperchio dettaglio 3 — Crogiolo di grafite impermeabile con coperchio

Dettaglio crogiolo di grafite impermeabile con coperchio 4 — Crogiolo di grafite impermeabile con coperchio

Specifiche tecniche

Dimensioni del crogiolo di grafite

35*17mm

35*22 mm

40*20 mm

42,5*19,5 mm

45*22,5 mm

50*25 mm

65*30 mm

I crogioli che presentiamo sono disponibili in diverse dimensioni e le dimensioni personalizzate sono disponibili su richiesta.

Vantaggi

Accuratezza della preparazione: La tecnologia di evaporazione a fascio di elettroni è in grado di controllare con precisione il processo di deposizione, consentendo di ottenere crogioli di grafite di elevata precisione e consistenza.
Resistenza agli shock termici: I film di grafite formati mediante evaporazione a fascio di elettroni hanno un'eccellente resistenza agli shock termici e sono adatti ad applicazioni con rapidi cambiamenti di temperatura.
Resistenza all'usura: Il crogiolo di grafite evaporato a fascio di elettroni ha una buona resistenza all'usura, che lo rende durevole e in grado di sopportare condizioni difficili.
Resistenza chimica: Questi crogioli sono resistenti agli acidi, agli alcali e alla contaminazione chimica, garantendo la loro affidabilità e longevità in ambienti chimicamente aggressivi.
Flessibilità e rugosità: Il film di grafite formato con questa tecnica ha un certo grado di flessibilità e rugosità, che lo rende efficace per varie applicazioni.

In conclusione, i crogioli di grafite evaporata a fascio elettronico hanno una preparazione precisa, resistenza agli shock termici, resistenza all'abrasione, resistenza chimica, flessibilità e rugosità. Sono ampiamente utilizzati nell'elettronica di potenza, nei test di legame molecolare, nella tecnologia laser, nelle batterie, nei condensatori ad alta tensione e nelle applicazioni dei dispositivi medici.

FAQ

Quali sono le fonti di evaporazione termica?

Le sorgenti di evaporazione termica sono dispositivi utilizzati nei sistemi di evaporazione termica per depositare film sottili su substrati. Funzionano riscaldando un materiale (evaporante) ad alte temperature, facendolo evaporare e quindi condensare su un substrato, formando un film sottile.

Che cos'è un forno di grafitizzazione?

Un forno di grafitizzazione è un'apparecchiatura specializzata utilizzata per convertire materiali carboniosi, come il coke di petrolio o la pece di catrame di carbone, in grafite attraverso un processo ad alta temperatura in atmosfera inerte. Questo processo comporta in genere temperature comprese tra 2500 e 3000 gradi Celsius.

Confronto tra la tecnologia del crogiolo di grafite con evaporazione a fascio di elettroni e la tecnologia tradizionale.

Sebbene la tecnologia del crogiolo di grafite per evaporazione a fascio di elettroni sia più costosa della tradizionale pressatura a caldo, presenta una maggiore precisione ed è più adatta alla produzione di crogioli di grafite complessi. Rispetto alla tradizionale evaporazione della fonte di carbonio, l'evaporazione a fascio di elettroni consente di ottenere una distribuzione uniforme della fonte di carbonio e una superficie liscia del carbonio, migliorando le prestazioni e l'affidabilità del materiale. Questa tecnologia offre un metodo più semplice ed efficiente dal punto di vista energetico per la fabbricazione di dispositivi in settori quali l'elettronica di potenza e ne migliora significativamente l'affidabilità.

Come si producono i crogioli di grafite di elevata purezza?

I crogioli di grafite di elevata purezza sono in genere prodotti attraverso un processo chiamato pressatura isostatica. Con questo metodo, la polvere di grafite viene posta in uno stampo di gomma e quindi sottoposta a una pressione elevata da tutte le direzioni. Questa pressione compatta le particelle di grafite in una forma di crogiolo densa e uniforme. Il crogiolo viene poi riscaldato ad alta temperatura per rimuovere le impurità e migliorarne la purezza.

Quali sono i principali tipi di sorgenti di evaporazione termica?

I principali tipi di sorgenti di evaporazione termica includono sorgenti di evaporazione resistiva, sorgenti di evaporazione a fascio di elettroni e sorgenti di evaporazione flash. Ogni tipo utilizza metodi diversi per riscaldare l'evaporante, come il riscaldamento resistivo, il riscaldamento a fascio di elettroni o il contatto diretto con una superficie calda.

Quali sono le principali applicazioni dei forni di grafitizzazione?

I forni di grafitizzazione sono fondamentali in settori quali la metallurgia, l'elettronica e l'aerospaziale. Producono prodotti di grafite di alta qualità come elettrodi, crogioli e componenti strutturali, essenziali per varie applicazioni ad alta temperatura.

Che cos'è la PECVD RF?

RF PECVD è l'acronimo di radio-frequency plasma-enhanced chemical vapor deposition, una tecnica utilizzata per preparare film policristallini su un substrato utilizzando un plasma a scarica di bagliore per influenzare il processo durante la deposizione di vapore chimico a bassa pressione. Il metodo PECVD a radiofrequenza è ben consolidato per la tecnologia dei circuiti integrati al silicio standard, che prevede l'utilizzo di wafer piatti come substrati. Questo metodo è vantaggioso per la possibilità di fabbricare film a basso costo e per l'elevata efficienza di deposizione. I materiali possono essere depositati anche come film a indice di rifrazione graduato o come una pila di nano-film, ciascuno con proprietà diverse.

Che cos'è un bersaglio sputtering?

Un bersaglio sputtering è un materiale utilizzato nel processo di deposizione sputtering, che prevede la frantumazione del materiale bersaglio in minuscole particelle che formano uno spray e rivestono un substrato, come un wafer di silicio. I target di sputtering sono in genere elementi metallici o leghe, anche se sono disponibili alcuni target in ceramica. Sono disponibili in una varietà di dimensioni e forme, con alcuni produttori che creano bersagli segmentati per le apparecchiature di sputtering più grandi. I bersagli sputtering hanno un'ampia gamma di applicazioni in campi quali la microelettronica, le celle solari a film sottile, l'optoelettronica e i rivestimenti decorativi, grazie alla loro capacità di depositare film sottili con elevata precisione e uniformità.

Quali sono le applicazioni più comuni dei crogioli di grafite di elevata purezza?

I crogioli di grafite di elevata purezza hanno un'ampia gamma di applicazioni in settori quali la metallurgia, le fonderie e i laboratori. Sono comunemente utilizzati per la fusione e la colata di metalli non ferrosi, tra cui alluminio, rame e metalli preziosi. I crogioli di grafite di elevata purezza sono utilizzati anche nella produzione di leghe e ceramiche ad alta temperatura. Sono essenziali in processi come l'analisi chimica, la spettroscopia e la preparazione dei campioni nei laboratori. Inoltre, questi crogioli trovano applicazione nell'industria dei semiconduttori per la fusione e la crescita del silicio e di altri materiali semiconduttori.

Come funzionano le fonti di evaporazione termica?

Le sorgenti di evaporazione termica funzionano facendo passare la corrente elettrica attraverso un materiale resistivo, che si riscalda a temperature elevate. Il calore viene trasferito all'evaporante, facendolo fondere e vaporizzare. Il vapore passa quindi attraverso una camera a vuoto e si condensa su un substrato, formando un film sottile.

Quali sono i diversi tipi di forni di grafitizzazione?

Esistono diversi tipi di forni per la grafitizzazione, tra cui forni orizzontali per la grafitizzazione ad alta temperatura, grandi forni verticali per la grafitizzazione, forni continui per la grafitizzazione, forni per la grafitizzazione di materiali negativi, forni verticali per la grafitizzazione ad alta temperatura, forni per la grafitizzazione ad altissima temperatura, forni sperimentali per la grafitizzazione di IGBT, forni per la grafitizzazione di film ad alta conducibilità termica, forni per la grafitizzazione a scarico dal basso per materiali di carbonio e forni a vuoto per grafite a 2200°C.

Come funziona la PECVD a radiofrequenza?

La PECVD RF funziona creando un plasma in una camera a vuoto. Il gas precursore viene introdotto nella camera e la potenza della radiofrequenza viene applicata per creare un campo elettrico. Questo campo elettrico provoca la ionizzazione del gas precursore, formando un plasma. Il plasma contiene specie reattive che possono reagire chimicamente con la superficie del substrato, portando alla deposizione di un film sottile. La potenza della radiofrequenza aiuta anche a controllare l'energia del plasma, consentendo un migliore controllo delle proprietà del film, come la composizione, l'uniformità e l'adesione. I parametri del processo, come la portata del gas, la pressione e la potenza RF, possono essere regolati per ottimizzare il processo di deposizione del film.

Come vengono prodotti i bersagli sputtering?

I target sputtering sono realizzati con una serie di processi produttivi che dipendono dalle proprietà del materiale del target e dalla sua applicazione. Questi includono la fusione e la laminazione sotto vuoto, la pressatura a caldo, il processo speciale di sinterizzazione, la pressatura a caldo sotto vuoto e i metodi di forgiatura. La maggior parte dei materiali dei target di sputtering può essere fabbricata in un'ampia gamma di forme e dimensioni; le forme circolari o rettangolari sono le più comuni. I target sono solitamente realizzati con elementi o leghe metalliche, ma possono essere utilizzati anche target ceramici. Sono disponibili anche bersagli sputtering composti, realizzati con una varietà di composti tra cui ossidi, nitruri, boruri, solfuri, seleniuri, tellururi, carburi, cristalli e miscele composite.

Quali sono i fattori da considerare nella scelta dei crogioli di grafite di elevata purezza?

Nella scelta dei crogioli di grafite di elevata purezza, occorre considerare diversi fattori. In primo luogo, le dimensioni e la capacità del crogiolo devono essere in linea con l'applicazione prevista e la quantità di materiale da fondere o lavorare. La conducibilità termica, la resistenza agli shock termici e la compatibilità chimica del crogiolo devono essere valutate per garantire che soddisfino i requisiti specifici del processo. È importante scegliere crogioli realizzati con grafite di alta qualità e con elevati livelli di purezza per ridurre al minimo la contaminazione e garantire prestazioni eccellenti. È necessario considerare anche il design e la costruzione del crogiolo, come la presenza di maniglie o beccucci per facilitare la manipolazione. Inoltre, è consigliabile consultare i produttori o gli esperti del settore per garantire la selezione dei crogioli di grafite ad alta purezza più adatti alle applicazioni specifiche.

Quali sono i materiali più comuni utilizzati per i crogioli di evaporazione?

I crogioli di evaporazione sono comunemente realizzati con materiali come tungsteno, tantalio, molibdeno, grafite o composti ceramici. Questi materiali hanno un elevato punto di fusione e una buona conducibilità termica, che li rende adatti alle condizioni di alta temperatura richieste durante l'evaporazione. La scelta del materiale del crogiolo dipende da fattori quali il materiale evaporante, le proprietà del film desiderate e i parametri del processo.

Quali sono i vantaggi dell'utilizzo delle sorgenti di evaporazione termica?

I vantaggi delle sorgenti di evaporazione termica includono un'elevata velocità di deposizione, una buona direzionalità, un'eccellente uniformità e la compatibilità con diversi materiali. Inoltre, sono relativamente semplici ed economiche, il che le rende adatte a un'ampia gamma di applicazioni nella deposizione di film sottili.

Come funziona un forno di grafitizzazione?

Un forno di grafitizzazione funziona sottoponendo i materiali carboniosi a temperature estremamente elevate, in genere tra i 2500 e i 3000 gradi Celsius, in un'atmosfera inerte. Questo processo riorganizza gli atomi di carbonio nel materiale, convertendolo in grafite, che ha proprietà uniche come l'alta conducibilità termica, la bassa espansione termica e l'inerzia chimica.

Quali sono i vantaggi della PECVD a radiofrequenza?

La PECVD a radiofrequenza offre diversi vantaggi per la deposizione di film sottili. In primo luogo, consente la deposizione di film di alta qualità con un eccellente controllo delle proprietà del film, quali spessore, composizione e uniformità. L'uso di un plasma aumenta la reattività del processo, consentendo la deposizione di film a temperature più basse rispetto ai metodi CVD termici tradizionali. La PECVD a radiofrequenza offre anche una migliore copertura del gradino, consentendo la deposizione di film in strutture ad alto rapporto d'aspetto. Un altro vantaggio è la capacità di depositare un'ampia gamma di materiali, tra cui nitruro di silicio, biossido di silicio, silicio amorfo e vari altri materiali a film sottile. Il processo è altamente scalabile e può essere facilmente integrato nei processi produttivi esistenti. Inoltre, la PECVD RF è un metodo relativamente economico rispetto ad altre tecniche di deposizione di film sottili.

A cosa servono i target sputtering?

I bersagli sputtering sono utilizzati in un processo chiamato sputtering per depositare film sottili di un materiale su un substrato utilizzando ioni per bombardare il bersaglio. Questi bersagli hanno un'ampia gamma di applicazioni in vari campi, tra cui la microelettronica, le celle solari a film sottile, l'optoelettronica e i rivestimenti decorativi. Consentono la deposizione di film sottili di materiali su una varietà di substrati con elevata precisione e uniformità, rendendoli uno strumento ideale per la produzione di prodotti di precisione. I target sputtering sono disponibili in varie forme e dimensioni e possono essere specializzati per soddisfare i requisiti specifici dell'applicazione.

Quali sono i vantaggi dell'uso dei crogioli evaporativi?

I crogioli di evaporazione offrono diversi vantaggi nei processi di deposizione di film sottili. Forniscono un ambiente controllato per l'evaporazione dei materiali, consentendo un controllo preciso dello spessore e dell'uniformità del film. I crogioli sono in grado di resistere alle alte temperature e di garantire un efficiente trasferimento di calore, assicurando tassi di evaporazione costanti. Sono disponibili in varie dimensioni e forme per adattarsi a diversi sistemi di evaporazione e configurazioni di substrati. I crogioli di evaporazione consentono inoltre la deposizione di un'ampia gamma di materiali, tra cui metalli, semiconduttori e ceramiche. Possono essere facilmente caricati e scaricati, facilitando un rapido cambio di materiale o la regolazione del processo. In generale, i crogioli evaporativi sono strumenti essenziali nelle tecniche di deposizione di film sottili, in quanto offrono versatilità, affidabilità e riproducibilità.

Per quali applicazioni vengono utilizzate le sorgenti di evaporazione termica?

Le sorgenti di evaporazione termica sono utilizzate in diverse applicazioni, come la produzione di rivestimenti ottici, dispositivi a semiconduttore e vari tipi di film sottili. Sono particolarmente utili nelle industrie che richiedono un controllo preciso della deposizione dei materiali sui substrati.

Quali sono i vantaggi dell'utilizzo di un forno di grafitizzazione?

I vantaggi dell'utilizzo di un forno di grafitizzazione includono la produzione di grafite di alta qualità con un'eccellente conduttività termica, bassa espansione termica e inerzia chimica. Queste proprietà rendono la grafite ideale per un'ampia gamma di applicazioni ad alta temperatura in settori come la metallurgia, l'elettronica e l'aerospaziale.

Cosa sono i target sputtering per l'elettronica?

I bersagli sputtering per l'elettronica sono dischi o fogli sottili di materiali come alluminio, rame e titanio che vengono utilizzati per depositare film sottili su wafer di silicio per creare dispositivi elettronici come transistor, diodi e circuiti integrati. Questi target sono utilizzati in un processo chiamato sputtering, in cui gli atomi del materiale target vengono fisicamente espulsi dalla superficie e depositati su un substrato bombardando il target con ioni. I target di sputtering per l'elettronica sono essenziali nella produzione di microelettronica e in genere richiedono un'elevata precisione e uniformità per garantire dispositivi di qualità.

Come devono essere maneggiati e mantenuti i crogioli di evaporazione?

I crogioli di evaporazione devono essere maneggiati e mantenuti con cura per garantirne la longevità e le prestazioni. I crogioli devono essere puliti accuratamente prima di ogni utilizzo per rimuovere eventuali residui di depositi precedenti. Evitare l'uso di materiali abrasivi che potrebbero danneggiare la superficie del crogiolo. Durante le operazioni di carico e scarico, maneggiare i crogioli con guanti puliti o strumenti specializzati per evitare contaminazioni. Quando non vengono utilizzati, conservare i crogioli in un ambiente asciutto e pulito per evitare la corrosione o il degrado. L'ispezione regolare dei crogioli per verificare la presenza di crepe, difetti o segni di usura è importante per evitare guasti imprevisti durante il processo di evaporazione. Seguire le raccomandazioni del produttore per qualsiasi procedura di manutenzione specifica, come la ricottura o il trattamento superficiale, per prolungare la durata del crogiolo.

Qual è la durata di un target di sputtering?

La durata di un bersaglio sputtering dipende da fattori quali la composizione del materiale, la purezza e l'applicazione specifica per cui viene utilizzato. In genere, i target possono durare da alcune centinaia a qualche migliaio di ore di sputtering, ma la durata può variare notevolmente a seconda delle condizioni specifiche di ogni ciclo. Anche una corretta manipolazione e manutenzione può prolungare la durata di un target. Inoltre, l'uso di bersagli sputtering rotanti può aumentare i tempi di esecuzione e ridurre l'insorgenza di difetti, rendendoli un'opzione più conveniente per i processi ad alto volume.

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Crogiolo di grafite per evaporazione a fascio di elettroni

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FAQ

Quali sono le fonti di evaporazione termica?

Che cos'è un forno di grafitizzazione?

Confronto tra la tecnologia del crogiolo di grafite con evaporazione a fascio di elettroni e la tecnologia tradizionale.

Come si producono i crogioli di grafite di elevata purezza?

Quali sono i principali tipi di sorgenti di evaporazione termica?

Quali sono le principali applicazioni dei forni di grafitizzazione?

Che cos'è la PECVD RF?

Che cos'è un bersaglio sputtering?

Quali sono le applicazioni più comuni dei crogioli di grafite di elevata purezza?

Come funzionano le fonti di evaporazione termica?

Quali sono i diversi tipi di forni di grafitizzazione?

Come funziona la PECVD a radiofrequenza?

Come vengono prodotti i bersagli sputtering?

Quali sono i fattori da considerare nella scelta dei crogioli di grafite di elevata purezza?

Quali sono i materiali più comuni utilizzati per i crogioli di evaporazione?

Quali sono i vantaggi dell'utilizzo delle sorgenti di evaporazione termica?

Come funziona un forno di grafitizzazione?

Quali sono i vantaggi della PECVD a radiofrequenza?

A cosa servono i target sputtering?

Quali sono i vantaggi dell'uso dei crogioli evaporativi?

Per quali applicazioni vengono utilizzate le sorgenti di evaporazione termica?

Quali sono i vantaggi dell'utilizzo di un forno di grafitizzazione?

Cosa sono i target sputtering per l'elettronica?

Come devono essere maneggiati e mantenuti i crogioli di evaporazione?

Qual è la durata di un target di sputtering?

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