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Scopri come i magneti nello sputtering a magnetron creano un plasma denso per tassi di deposizione più elevati, una pressione operativa inferiore e un riscaldamento ridotto del substrato.
Scopri come impostare la distanza ideale target-substrato (5-30 cm) per lo sputtering per bilanciare velocità di deposizione, uniformità del film e densità.
Scopri le differenze chiave tra la deposizione a fascio ionico e lo sputtering, concentrandoti sulla separazione del plasma per film di maggiore purezza ed elaborazione di materiali sensibili.
Scopri i principali vantaggi della deposizione a fascio ionico (IBD), tra cui densità, purezza, adesione superiori del film e controllo preciso del processo per applicazioni ad alte prestazioni.
Esplora le principali applicazioni della deposizione a fascio ionico (IBD) nell'ottica di precisione, nei semiconduttori e nei sensori. Scopri come l'IBD crea film sottili densi, puri e privi di difetti.
Scopri come la deposizione a fascio ionico (IBD) crea film sottili ad alta purezza e densità con adesione e controllo superiori per applicazioni critiche.
Scopri come il PECVD a bassa temperatura utilizza l'energia del plasma per depositare film sottili di alta qualità su plastiche, polimeri ed elettronica senza danni termici.
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Esplora i metodi di deposizione fisica da vapore (PVD) come lo sputtering, l'evaporazione, il PLD e l'MBE. Impara i loro principi, i compromessi e come scegliere la tecnica giusta.
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Scopri come la Deposizione Fisica da Vapore (PVD) crea film sottili duri e durevoli per l'aerospaziale, gli utensili e i semiconduttori in un processo sottovuoto.
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Scopri i metodi di Deposizione Fisica da Vapore (PVD) come l'evaporazione e lo sputtering, usati per creare film sottili e puri su substrati in un ambiente sottovuoto.
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Scoprite i principali vantaggi dei rivestimenti PVD: estrema durezza, lavorazione a bassa temperatura, elevata purezza e rispetto dell'ambiente per prestazioni superiori dei componenti.
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