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Scopri come i film sottili ottici migliorano l'energia solare, l'elettronica e la durata attraverso rivestimenti di precisione e ingegneria avanzata dei materiali.
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Ottieni la selezione ottimale del film valutando velocità di attacco, adesione, indice di rifrazione e densità per soddisfare le tue specifiche applicazioni elettroniche o ottiche.
Scopri come i meccanismi di deposizione, la pressione, la temperatura e i rapporti d'aspetto interagiscono per determinare la qualità della copertura a gradino nei processi a film sottile.
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Scopri perché l'uniformità di deposizione è vitale nella produzione di semiconduttori, influenzando l'integrità elettrica e i processi di incisione critici.
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Scopri le caratteristiche dei rivestimenti LTAVD: spessore da 0,25 a 4,0 micron, ultra-durezza, trasparenza e prestazioni immediate senza polimerizzazione.
Scopri come la deposizione a vapore termico utilizza il riscaldamento elettrico per creare film sottili e come si confronta con le tecniche di deposizione CVD e ad arco.
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Scopri come i diamanti sintetici consentono la ricerca ad alta pressione fino a 2,5 milioni di atmosfere attraverso le celle a incudine di diamante (DAC) e la trasparenza ottica.
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Il grafene ha un coefficiente di espansione termica negativo, si restringe quando viene riscaldato. Scopri come questa proprietà unica influisce sull'elettronica e sui compositi.
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I diamanti CVD sono fatti di carbonio puro, proprio come i diamanti naturali. Scopri come vengono coltivati a partire da gas in laboratorio e le loro caratteristiche principali.
Esplora la qualità superiore dei film ottenuti per sputtering: alta densità, eccellente adesione, controllo preciso della composizione e superfici lisce per rivestimenti ottici, elettronici e protettivi.
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I bersagli di sputtering sono fatti del materiale da depositare come film sottile, inclusi metalli puri, leghe e ceramiche come ossidi e nitruri.
Scopri il processo di produzione passo dopo passo per i target di sputtering, dai materiali di elevata purezza al fissaggio (bonding) e alla pulizia finale, garantendo una deposizione ottimale del film sottile.
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Scopri come l'energia ionica, la massa, l'angolo di incidenza e le proprietà del materiale bersaglio influenzano la resa di sputtering e i tassi di deposizione nei sistemi a fascio ionico.
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Scopri come lo sputtering reattivo crea film sottili composti come ossidi e nitruri, facendo reagire chimicamente un bersaglio di metallo puro con un gas reattivo.
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Scopri come funziona lo sputtering: un processo sottovuoto che utilizza il plasma per depositare rivestimenti ultrasottili e ad alte prestazioni su vari substrati per applicazioni industriali.
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Lo sputtering è più lento a causa dell'eiezione atomo per atomo, ma offre un'adesione, una densità e un'uniformità del film superiori rispetto ai rivestimenti veloci ma porosi dell'evaporazione.
Scopri come la deposizione per sputtering crea film ultrasottili e ad alta purezza per semiconduttori, ottica e rivestimenti durevoli. Scopri i suoi vantaggi e le sue applicazioni.
Scopri come funziona la deposizione a sputtering, le sue applicazioni chiave nell'elettronica e nella produzione e i suoi vantaggi per i film sottili ad alta purezza.
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Scopri come lo sputtering reattivo combina la deposizione fisica da vapore con reazioni chimiche per creare film sottili composti precisi come ossidi e nitruri.
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Scopri come lo sputtering utilizza il bombardamento ionico sotto vuoto per depositare film ultrasottili e ad alta purezza su substrati come semiconduttori e vetro.
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