La qualità del film sputter è determinata da diversi fattori.
In primo luogo, lo strato metallico del film sputter è estremamente fine, il che contribuisce alla sua elevata efficacia nel bloccare alcune bande di radiazioni provenienti dalla luce solare diretta. Questa proprietà rende il film sputter ideale per le applicazioni in cui è importante il controllo delle radiazioni.
Il film sputter presenta inoltre un effetto specchio, un cambiamento di colore e un assorbimento di calore minimi, pur mantenendo un'elevata riflettività delle radiazioni. Ciò significa che offre eccellenti proprietà ottiche, mantenendo un'elevata riflettività e riducendo al minimo gli effetti visivi indesiderati, come la distorsione del colore o l'accumulo di calore.
La qualità dei film sputter è influenzata anche dalla scelta dei metalli e degli ossidi utilizzati per la loro produzione. Il colore, la riflettanza esterna e le prestazioni di blocco del calore solare possono essere personalizzate selezionando combinazioni specifiche di metalli e ossidi metallici. Mettendo insieme più strati di metalli e ossidi metallici diversi, le pellicole sputtering possono ottenere colori unici e una trasmissione selettiva molto efficace.
Il processo di sputtering stesso svolge un ruolo cruciale nel determinare la qualità del film. Lo sputtering è una tecnologia collaudata che consente la deposizione di film sottili da un'ampia varietà di materiali su substrati di diverse forme e dimensioni. È un processo ripetibile che può essere scalato per lotti di produzione con aree di substrato medio-grandi. L'ambiente ad alta energia dello sputtering crea un forte legame tra il film e il substrato a livello atomico, ottenendo uno dei film più sottili, uniformi ed economici possibili.
La qualità del film di sputtering è influenzata anche dalle caratteristiche del processo di sputtering. Lo sputtering consente di utilizzare metalli, leghe o isolanti come materiali per il film. È possibile utilizzare target multicomponente per produrre film con la stessa composizione. L'aggiunta di ossigeno o di altri gas attivi all'atmosfera di scarica consente di produrre miscele o composti. I parametri di sputtering, come la corrente di ingresso del target e il tempo di sputtering, possono essere controllati per ottenere un'elevata precisione nello spessore del film. Il rivestimento sputter è vantaggioso per la produzione di grandi aree di film uniformi e consente una disposizione flessibile delle posizioni del target e del substrato. Rispetto all'evaporazione sotto vuoto, lo sputter coating offre vantaggi quali una maggiore forza di adesione tra il film e il substrato, la formazione di film duri e densi e la capacità di ottenere film cristallini a temperature inferiori. Il rivestimento sputter consente inoltre di produrre film continui estremamente sottili.
La qualità del film sputter è ulteriormente influenzata dalla scelta e dalla preparazione del target sputter. Il materiale del bersaglio, sia esso un singolo elemento, una miscela di elementi, una lega o un composto, deve essere accuratamente selezionato per ottenere le caratteristiche desiderate nel film. Il processo di preparazione del target per lo sputtering è fondamentale per garantire la qualità costante dei film sottili prodotti.
In sintesi, la qualità del film di sputtering è determinata da fattori quali la finezza dello strato metallico, il minimo effetto specchio, il cambiamento di colore e l'assorbimento di calore, la scelta dei metalli e degli ossidi, il processo di sputtering e le caratteristiche del processo di rivestimento di sputtering. Questi fattori permettono di controllare la crescita e la microstruttura del film, consentendo la produzione di film sottili con proprietà personalizzate e qualità costante.
