I bersagli sputtering sono utilizzati principalmente per la deposizione di film sottili su vari substrati in un processo noto come deposizione fisica da vapore (PVD). Questa tecnica è fondamentale in diversi settori, tra cui l'elettronica, l'ottica e le energie rinnovabili.
Semiconduttori:
I target sputtering svolgono un ruolo fondamentale nella produzione di semiconduttori. Vengono utilizzati per creare strati conduttori in microchip, chip di memoria, testine di stampa e schermi piatti. Il processo prevede l'uso di leghe metalliche che devono garantire un'elevata purezza chimica e uniformità metallurgica per mantenere l'integrità e le prestazioni dei dispositivi semiconduttori.Rivestimento del vetro:
Nell'industria delle costruzioni, i target di sputtering sono utilizzati per produrre vetro a bassa emissività (Low-E). Questo tipo di vetro viene rivestito per ridurre la quantità di luce infrarossa e ultravioletta che lo attraversa, contribuendo al risparmio energetico, al controllo della luce e al miglioramento dell'estetica. Il rivestimento viene applicato mediante un processo di sputtering che deposita strati sottili di materiali sulla superficie del vetro.
Rivestimento delle celle solari:
Con la crescente domanda di energia rinnovabile, gli obiettivi di sputtering sono utilizzati nella produzione di celle solari a film sottile. Queste celle solari di terza generazione sono create utilizzando la tecnologia di rivestimento sputtering, che consente l'applicazione precisa di materiali che migliorano la capacità delle celle di convertire la luce solare in elettricità.Applicazioni ottiche:
Lo sputtering viene utilizzato anche nelle applicazioni ottiche, dove vengono depositati strati sottili sul vetro per modificarne le proprietà. Ciò può includere il miglioramento della riflettività, della trasmittanza o della durata del vetro, a seconda dei requisiti specifici del dispositivo ottico da produrre.
