I film sottili di semiconduttori vengono creati attraverso un processo che prevede il deposito di strati sottilissimi su un substrato di wafer di silicio. Questo processo è fondamentale per le prestazioni dei dispositivi a semiconduttore, in quanto anche piccole imperfezioni possono influire significativamente sulla loro funzionalità. I due metodi principali utilizzati per la deposizione di film sottili nell'industria dei semiconduttori sono la deposizione chimica da vapore (CVD) e la deposizione fisica da vapore (PVD).
Deposizione chimica da vapore (CVD):
La CVD è la tecnica più utilizzata grazie alla sua elevata precisione. In questo processo, i precursori gassosi vengono introdotti in una camera di reazione ad alta temperatura dove subiscono una reazione chimica, trasformandosi in un rivestimento solido sul substrato. Questo metodo consente di creare strati molto sottili e uniformi, essenziali per le prestazioni dei dispositivi a semiconduttore.Deposizione fisica da vapore (PVD):
La PVD è un altro metodo utilizzato per creare rivestimenti di elevata purezza. Si tratta di tecniche come lo sputtering, l'evaporazione termica o l'evaporazione a fascio elettronico. Nello sputtering, gli atomi vengono espulsi da un materiale bersaglio (di solito un metallo) grazie al bombardamento di particelle energetiche, in genere ioni. Gli atomi espulsi si depositano poi sul substrato, formando un film sottile. L'evaporazione termica consiste nel riscaldare un materiale nel vuoto fino a farlo evaporare e gli atomi evaporati si depositano sul substrato. L'evaporazione a fascio elettronico utilizza un fascio di elettroni per riscaldare e far evaporare il materiale.
Importanza dei film sottili nei semiconduttori:
I film sottili svolgono un ruolo fondamentale nella fabbricazione dei dispositivi a semiconduttore. Poiché i dispositivi diventano sempre più piccoli e complessi, la qualità e la precisione di questi film sottili diventano sempre più importanti. I film possono essere realizzati con diversi materiali, tra cui metalli conduttivi o ossidi metallici non conduttivi, a seconda dei requisiti specifici dell'applicazione dei semiconduttori.
Processo di produzione:
