I catalizzatori utilizzati nelle tecniche PVD (Physical Vapor Deposition) e CVD (Chemical Vapor Deposition) sono cobalto, ferro, nichel e le loro leghe. Questi catalizzatori sono comunemente utilizzati nella produzione di nanotubi di carbonio con metodi CVD [10, 11]. Nella CVD possono essere utilizzate diverse vie di attivazione, come la CVD con torcia al plasma, la deposizione chimica di vapore a filamento caldo (HFCVD) e la deposizione chimica di vapore al plasma a microonde (MPCVD) [10]. Questi metodi possono essere utilizzati per far crescere film di diamante di qualità diversa su vari substrati, a seconda dell'applicazione desiderata [10].
Nella PVD, la tecnica è diversa dalla CVD in quanto prevede il bombardamento di materiali solidi di partenza in atomi e il deposito di questi atomi sui substrati, piuttosto che l'utilizzo di molecole di gas per depositare rivestimenti solidi [29]. Pertanto, la PVD non utilizza tipicamente i catalizzatori come la CVD.
In sintesi, i catalizzatori utilizzati nella tecnica CVD, compresi i metodi PVD e CVD, sono cobalto, ferro, nichel e le loro leghe. Questi catalizzatori svolgono un ruolo cruciale nella crescita dei nanotubi di carbonio e nella deposizione di pellicole di diamante di alta qualità.
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