La deposizione da vapore dei metalli è un processo utilizzato per depositare strati sottili di metallo su un substrato, in genere in un ambiente sotto vuoto. Il processo prevede la conversione del metallo allo stato di vapore e la successiva condensazione sulla superficie del substrato per formare un film sottile. Esistono due tipi principali di deposizione da vapore: la deposizione fisica da vapore (PVD) e la deposizione chimica da vapore (CVD).
Deposizione fisica da vapore (PVD):
Nella PVD, il metallo viene eccitato attraverso processi termodinamici o elettromeccanici, provocando il rilascio di molecole specifiche sotto forma di vapore. Questo vapore viene poi depositato sul substrato. Le tecniche PVD più comuni comprendono l'evaporazione termica sotto vuoto, la deposizione per sputtering e la deposizione con fascio di elettroni. L'evaporazione termica sotto vuoto comporta il riscaldamento del metallo fino al suo punto di ebollizione nel vuoto, provocandone l'evaporazione e il deposito sul substrato. La deposizione per sputtering consiste nel bombardare un bersaglio fatto di metallo con particelle ad alta energia, provocando l'espulsione di atomi che si depositano sul substrato. La deposizione a fascio di elettroni utilizza un fascio di elettroni per riscaldare il metallo, facendolo evaporare e depositandolo sul substrato.Deposizione chimica da vapore (CVD):
La CVD prevede una reazione chimica per produrre la fase di vapore del metallo. Le sostanze chimiche utilizzate in questo processo si decompongono sulla superficie del substrato, depositando il film di metallo. La CVD consente un controllo preciso della fase e della struttura del film depositato, rendendola versatile per diverse applicazioni.
Applicazioni:
La deposizione da vapore di metalli è utilizzata in un'ampia gamma di applicazioni, tra cui la produzione di semiconduttori, i sistemi a fibre ottiche, i sistemi laser industriali, l'elettronica medica, i dispositivi biomedici, le applicazioni ottiche e di imaging avanzate e varie applicazioni elettroniche di consumo, commerciali e industriali.Vantaggi:
I vantaggi dei sistemi di deposizione da vapore includono la possibilità di controllare con precisione il processo di deposizione, la capacità di produrre grandi quantità di film sottili e la relativa facilità di configurazione e utilizzo. Ciò rende la deposizione da vapore un'opzione interessante sia per le applicazioni industriali su larga scala che per le piccole imprese.
