La deposizione in fase di vapore è un metodo utilizzato per creare rivestimenti a film sottile su vari substrati, in genere in un ambiente a vuoto parziale.
Questa tecnica prevede la deposizione di materiale da una sorgente vaporizzata su una superficie di destinazione, ottenendo un rivestimento consistente e di elevata purezza.
Esistono diversi tipi di deposizione da vapore, tra cui la deposizione fisica da vapore (PVD), la deposizione chimica da vapore (CVD) e la deposizione al plasma.
5 metodi chiave spiegati
1. Deposizione fisica da vapore (PVD)
La deposizione fisica da vapore (PVD) comprende diverse tecnologie di deposizione in cui il materiale viene rilasciato da una sorgente e trasferito su un substrato.
Un metodo comune di PVD è l'evaporazione termica, che prevede il riscaldamento di un materiale solido all'interno di una camera ad alto vuoto, provocandone la vaporizzazione e la formazione di una nuvola di vapore.
Il flusso di vapore attraversa quindi la camera e si deposita sul substrato sotto forma di rivestimento in film sottile.
I processi PVD, come l'evaporazione resistiva, forniscono strumenti economici per la creazione di film sottili di metalli e non metalli, con tassi di deposizione più elevati e rivestimenti più spessi rispetto ai processi di sputtering.
2. Deposizione di vapore chimico (CVD)
La deposizione chimica da vapore (CVD) consiste nel collocare il substrato in una camera di reazione riempita con un materiale di rivestimento gassoso.
Il gas reagisce con il materiale di destinazione per creare lo spessore di rivestimento desiderato.
Questo metodo si distingue dalla PVD in quanto si basa su reazioni chimiche per formare il rivestimento.
3. Deposizione al plasma
La deposizione al plasma comporta il surriscaldamento del gas di rivestimento in una forma ionica che reagisce con la superficie atomica del pezzo, in genere a pressioni elevate.
Questo processo porta alla formazione di un rivestimento con proprietà uniche.
4. Deposizione di vapore ad arco
La deposizione di vapore ad arco è un processo di deposizione specifico che utilizza un arco elettrico ad alta corrente e bassa tensione per vaporizzare un elettrodo catodico o anodico.
Il materiale vaporizzato viene quindi depositato su un substrato e una parte sostanziale degli atomi di metallo viene ionizzata.
Questo metodo è particolarmente utile per la formazione di rivestimenti spessi e può essere impiegato in operazioni di rivestimento di superfici dure e decorative.
5. Sintesi della deposizione da vapore
In sintesi, la deposizione in fase di vapore è una tecnica versatile per la creazione di rivestimenti a film sottile su vari substrati, con metodi diversi adattati alle applicazioni specifiche e alle proprietà di rivestimento desiderate.
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