La deposizione a fascio di elettroni è un processo utilizzato per creare film sottili mediante l'evaporazione di materiali nel vuoto.
Il processo prevede l'utilizzo di un fascio di elettroni focalizzato per riscaldare il materiale in un crogiolo, facendolo evaporare e quindi condensare su un substrato.
5 fasi chiave spiegate
1. Generazione del fascio di elettroni
Il fascio di elettroni viene generato in un cannone elettronico, in genere utilizzando un filamento di tungsteno riscaldato da una corrente elettrica.
Il riscaldamento provoca l'emissione termoionica, liberando gli elettroni che formano il fascio.
2. Focalizzazione e deflessione del fascio di elettroni
Il fascio di elettroni viene quindi focalizzato e diretto mediante magneti attraverso la camera a vuoto verso il crogiolo contenente il materiale da evaporare.
3. Evaporazione del materiale
Quando il fascio di elettroni colpisce il materiale, la sua energia cinetica viene convertita in calore, causando la fusione del materiale (nel caso di metalli come l'alluminio) o la sublimazione (nel caso della ceramica).
4. Deposizione sul substrato
Il materiale evaporato esce dal crogiolo e si deposita sotto forma di film sottile sul substrato posto sopra il crogiolo all'interno della camera a vuoto.
5. Controllo e miglioramento
Il processo può essere controllato con precisione utilizzando sistemi computerizzati per gestire il riscaldamento, i livelli di vuoto, la posizione del substrato e la rotazione.
Inoltre, è possibile utilizzare l'assistenza del fascio ionico per migliorare l'adesione e la densità del film depositato.
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