La deposizione chimica da vapore (CVD) è un processo utilizzato per depositare materiali a film sottile dalla fase di vapore attraverso una reazione chimica. Questo metodo viene impiegato per creare un'ampia gamma di film sottili, tra cui semiconduttori, isolanti, metalli e sostanze organiche, che sono fondamentali per la fabbricazione di dispositivi microelettronici e optoelettronici, oltre che per vari rivestimenti. I film prodotti possono essere epitassiali, policristallini o amorfi e la deposizione può essere selettiva o non selettiva, con omo- o eteroepitassi.
Fasi del processo:
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Evaporazione dei composti precursori: La prima fase prevede l'evaporazione di un composto volatile del materiale da depositare. Questo composto, tipicamente un gas o un vapore, viene introdotto nella camera di deposizione.
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Decomposizione termica e reazione chimica: Il vapore subisce una decomposizione termica in atomi e molecole o reagisce con altri gas, vapori o liquidi sulla superficie del substrato. Questa fase richiede condizioni specifiche, tra cui temperature elevate (circa 1000°C) e pressioni che vanno da pochi torr a oltre la pressione atmosferica.
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Deposizione sul substrato: I prodotti di reazione non volatili della fase precedente vengono quindi depositati sul substrato, formando un film sottile. Le proprietà di questo film, come la composizione, lo spessore e la microstruttura, sono fondamentali per le prestazioni specifiche dell'applicazione.
Classificazione e applicazioni:
La CVD si distingue dai metodi di deposizione fisica da vapore (PVD), che prevedono processi fisici come sputtering, evaporazione o sublimazione senza reazioni chimiche. L'obiettivo di CVD e PVD è quello di depositare film con proprietà controllate e riproducibili, che possono essere chimiche, meccaniche, elettriche o ottiche.
La CVD è particolarmente nota per la sua precisione e il suo controllo, che consentono di creare film sottili con caratteristiche molto specifiche. È ampiamente utilizzato nella produzione di semiconduttori, celle solari a film sottile e nella produzione di rivestimenti per utensili e altri prodotti industriali. Il processo è adattabile a vari prodotti chimici e precursori, rendendolo versatile per le diverse applicazioni e i futuri progressi tecnologici.
