Conoscenza Come vengono depositati i film sottili?
Avatar dell'autore

Squadra tecnologica · Kintek Solution

Aggiornato 1 settimana fa

Come vengono depositati i film sottili?

I film sottili vengono depositati con varie tecniche, tra cui la deposizione fisica da vapore (PVD), la deposizione chimica da vapore (CVD) e la deposizione atomica da strato (ALD). Questi metodi consentono un controllo preciso dello spessore e della composizione dei film, che sono fondamentali per le loro applicazioni specifiche.

Deposizione fisica da vapore (PVD):

La PVD prevede l'evaporazione o lo sputtering del materiale di partenza, che poi si condensa sul substrato per formare un film sottile. Questo processo comprende tecniche come l'evaporazione, l'evaporazione a fascio di elettroni e lo sputtering. Nell'evaporazione, il materiale viene riscaldato fino a trasformarsi in vapore e quindi si deposita sul substrato. L'evaporazione a fascio di elettroni utilizza un fascio di elettroni per riscaldare il materiale, mentre lo sputtering consiste nel bombardare un materiale bersaglio con ioni per espellere atomi che poi si depositano sul substrato.Deposizione chimica da vapore (CVD):

La CVD utilizza reazioni chimiche per depositare un rivestimento sottile su un substrato. Il substrato viene esposto a gas precursori che reagiscono e depositano la sostanza desiderata. I metodi CVD più comuni comprendono la CVD a bassa pressione (LPCVD) e la CVD potenziata al plasma (PECVD). Queste tecniche consentono la deposizione di materiali complessi e un controllo preciso delle proprietà del film.

Deposizione di strati atomici (ALD):

L'ALD è un metodo altamente preciso che consente la deposizione di film uno strato atomico alla volta. Il substrato viene esposto alternativamente a determinati gas precursori in un processo ciclico. Questo metodo è particolarmente utile per creare film uniformi e conformi, anche su geometrie complesse.Applicazioni dei film sottili:

Le pellicole sottili hanno un'ampia gamma di applicazioni, che vanno dal miglioramento della durata e della resistenza ai graffi delle superfici alla modifica della conduttività elettrica o della trasmissione dei segnali. Ad esempio, il rivestimento riflettente di uno specchio è un film sottile, tipicamente depositato con tecniche di sputtering.

Prodotti correlati

Macchina di rivestimento PECVD con evaporazione potenziata da plasma

Macchina di rivestimento PECVD con evaporazione potenziata da plasma

Potenziate il vostro processo di rivestimento con le apparecchiature di rivestimento PECVD. Ideale per LED, semiconduttori di potenza, MEMS e altro ancora. Deposita film solidi di alta qualità a basse temperature.

Sistema RF PECVD Deposizione di vapore chimico potenziata da plasma a radiofrequenza

Sistema RF PECVD Deposizione di vapore chimico potenziata da plasma a radiofrequenza

RF-PECVD è l'acronimo di "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". Deposita DLC (film di carbonio simile al diamante) su substrati di germanio e silicio. Viene utilizzato nella gamma di lunghezze d'onda dell'infrarosso da 3 a 12um.

Attrezzatura per il rivestimento di nano-diamante HFCVD con stampo di trafilatura

Attrezzatura per il rivestimento di nano-diamante HFCVD con stampo di trafilatura

Lo stampo di trafilatura con rivestimento composito di nano-diamante utilizza il carburo cementato (WC-Co) come substrato e utilizza il metodo della fase di vapore chimico (in breve, il metodo CVD) per rivestire il diamante convenzionale e il rivestimento composito di nano-diamante sulla superficie del foro interno dello stampo.

Macchina CVD versatile con forno a tubo CVD, realizzata dal cliente

Macchina CVD versatile con forno a tubo CVD, realizzata dal cliente

Ottenete il vostro forno CVD esclusivo con KT-CTF16 Customer Made Versatile Furnace. Funzioni di scorrimento, rotazione e inclinazione personalizzabili per reazioni precise. Ordinate ora!

Macchina diamantata MPCVD con risonatore a campana per il laboratorio e la crescita di diamanti

Macchina diamantata MPCVD con risonatore a campana per il laboratorio e la crescita di diamanti

Ottenete film di diamante di alta qualità con la nostra macchina MPCVD con risonatore a campana, progettata per la crescita di diamanti in laboratorio. Scoprite come funziona la Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition per la crescita di diamanti utilizzando gas di carbonio e plasma.

Crogiolo di evaporazione in grafite

Crogiolo di evaporazione in grafite

Vasche per applicazioni ad alta temperatura, dove i materiali vengono mantenuti a temperature estremamente elevate per evaporare, consentendo la deposizione di film sottili sui substrati.

Rivestimento diamantato CVD

Rivestimento diamantato CVD

Rivestimento diamantato CVD: Conducibilità termica, qualità dei cristalli e adesione superiori per utensili da taglio, attrito e applicazioni acustiche

Diamante drogato con boro CVD

Diamante drogato con boro CVD

Diamante drogato con boro CVD: Un materiale versatile che consente di ottenere conducibilità elettrica, trasparenza ottica e proprietà termiche eccezionali per applicazioni in elettronica, ottica, rilevamento e tecnologie quantistiche.

Macchina per forno tubolare rotante inclinato per la deposizione chimica potenziata al plasma (PECVD)

Macchina per forno tubolare rotante inclinato per la deposizione chimica potenziata al plasma (PECVD)

Vi presentiamo il nostro forno PECVD rotativo inclinato per la deposizione precisa di film sottili. La sorgente si abbina automaticamente, il controllo della temperatura programmabile PID e il controllo del flussimetro di massa MFC ad alta precisione. Funzioni di sicurezza integrate per la massima tranquillità.

Macchina diamantata MPCVD a risonatore cilindrico per la crescita del diamante in laboratorio

Macchina diamantata MPCVD a risonatore cilindrico per la crescita del diamante in laboratorio

Scoprite la macchina MPCVD con risonatore cilindrico, il metodo di deposizione di vapore chimico al plasma a microonde utilizzato per la crescita di gemme e film di diamante nell'industria dei gioielli e dei semiconduttori. Scoprite i suoi vantaggi economici rispetto ai metodi tradizionali HPHT.

Cella di elettrolisi spettrale a strato sottile

Cella di elettrolisi spettrale a strato sottile

Scoprite i vantaggi della nostra cella di elettrolisi spettrale a strato sottile. Resistente alla corrosione, con specifiche complete e personalizzabile in base alle vostre esigenze.

Barca di evaporazione in ceramica alluminata

Barca di evaporazione in ceramica alluminata

Vaso per la deposizione di film sottili; ha un corpo ceramico rivestito in alluminio per migliorare l'efficienza termica e la resistenza chimica, rendendolo adatto a varie applicazioni.

Rivestimento per evaporazione a fascio di elettroni Crogiolo di rame senza ossigeno

Rivestimento per evaporazione a fascio di elettroni Crogiolo di rame senza ossigeno

Il crogiolo di rame senza ossigeno per il rivestimento per evaporazione a fascio di elettroni consente una precisa co-deposizione di vari materiali. La temperatura controllata e il raffreddamento ad acqua garantiscono una deposizione di film sottili pura ed efficiente.

Diamante CVD per la gestione termica

Diamante CVD per la gestione termica

Diamante CVD per la gestione termica: Diamante di alta qualità con conduttività termica fino a 2000 W/mK, ideale per diffusori di calore, diodi laser e applicazioni GaN on Diamond (GOD).


Lascia il tuo messaggio