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Preparazione del campione
Le attrezzature per la preparazione dei campioni di KinTek comprendono la frantumazione, la macinazione e la setacciatura dei campioni, mentre le attrezzature per la pressatura idraulica comprendono la pressa manuale, la pressa elettrica, la pressa isostatica, la pressa a caldo e la macchina per il filtraggio della pressa.
Stampa isostatica
Manuale Laboratorio Stampa
Pressa elettrica da laboratorio
Pressa da laboratorio manuale riscaldata
Pressa da laboratorio automatica riscaldata
Stampa su misura per il cliente
Stampi e accessori
Macchina per la frantumazione
Macchina per setacciare
Macchine per la fresatura
Punzonatrice per compresse
Analizzatori XRF portatili
Rubber processing machine
Apparecchiature termiche
KinTek fornisce un'ampia gamma di forni ad alta temperatura, tra cui forni da laboratorio, per la produzione pilota e per la produzione industriale, con una gamma di temperature fino a 3000 ℃. Uno dei vantaggi di KinTek è la capacità di creare forni su misura per funzioni specifiche, come metodi e velocità di riscaldamento differenti, vuoto extra alto e dinamico, atmosfere controllate e circuiti di gas, strutture meccaniche automatizzate e sviluppo di software e hardware.
Materiali e materiali di laboratorio
KinTek offre una gamma di materiali di consumo per il laboratorio, tra cui materiali per l'evaporazione, target, metalli, parti per l'elettrochimica, nonché polveri, pellet, fili, strisce, lamine, piastre e altro ancora.
Apparecchiature bio-chimiche
Le apparecchiature biochimiche di KinTek comprendono evaporatori rotanti, reattori in vetro e acciaio inossidabile, sistemi di distillazione, riscaldatori e refrigeratori a circolazione, nonché apparecchiature per il vuoto.
Prodotti
Ossido di tungsteno di elevata purezza (WO3) Sputtering Target / Polvere / Filo / Blocco / Granulo
Numero articolo : LM-WO3
Numero articolo : LM-Nb2O5
Numero articolo : LM-Ta2O5
Numero articolo : LM-Al2O3
Bersaglio di sputtering di elevata purezza/polvere/filo/blocco/granulo di ossido di bismuto (Bi2O3)
Numero articolo : LM-Bi2O3
Numero articolo : LM-Cr2O3
Bersaglio/polvere/filo/blocco/granulo di sputtering di ossido di nichel (Ni2O3) di elevata purezza
Numero articolo : LM-Ni2O3
Numero articolo : LM-CeO2
Numero articolo : LM-Er2O3
Numero articolo : LM-Sm2O3
Numero articolo : LM-Fe3O4
Tantalio lega di tungsteno (TaW) Sputtering Target / polvere / filo / blocco / granulo
Numero articolo : LM-TaW
Lega di titanio e silicio (TiSi) Obiettivo di sputtering / Polvere / Filo / Blocco / Granulo
Numero articolo : LM-TiSi
Tungsteno lega di titanio (WTi) Sputtering Target / Polvere / Filo / Blocco / Granulo
Numero articolo : LM-WTi
Numero articolo : LM-TiNiAg
Lega di alluminio silicio ittrio (AlSiY) Sputtering Target / polvere / filo / blocco / granulo
Numero articolo : LM-AlSiY
Obiettivo di sputtering in lega di alluminio e litio (AlLi) / polvere / filo / blocco / granulo
Numero articolo : LM-AlLi
Lega di alluminio e cromo (AlCr) Obiettivo di sputtering / Polvere / Filo / Blocco / Granulo
Numero articolo : LM-AlCr
Obiettivo di sputtering in lega di nichel e cromo (NiCr) / Polvere / Filo / Blocco / Granulo
Numero articolo : LM-NiCr
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