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Le attrezzature per la preparazione dei campioni di KinTek comprendono la frantumazione, la macinazione e la setacciatura dei campioni, mentre le attrezzature per la pressatura idraulica comprendono la pressa manuale, la pressa elettrica, la pressa isostatica, la pressa a caldo e la macchina per il filtraggio della pressa.
KinTek fornisce un'ampia gamma di forni ad alta temperatura, tra cui forni da laboratorio, per la produzione pilota e per la produzione industriale, con una gamma di temperature fino a 3000 ℃. Uno dei vantaggi di KinTek è la capacità di creare forni su misura per funzioni specifiche, come metodi e velocità di riscaldamento differenti, vuoto extra alto e dinamico, atmosfere controllate e circuiti di gas, strutture meccaniche automatizzate e sviluppo di software e hardware.
KinTek offre una gamma di materiali di consumo per il laboratorio, tra cui materiali per l'evaporazione, target, metalli, parti per l'elettrochimica, nonché polveri, pellet, fili, strisce, lamine, piastre e altro ancora.
Le apparecchiature biochimiche di KinTek comprendono evaporatori rotanti, reattori in vetro e acciaio inossidabile, sistemi di distillazione, riscaldatori e refrigeratori a circolazione, nonché apparecchiature per il vuoto.
Solfuro di stagno (SnS2) target di sputtering / polvere / filo / blocco / granulo
Numero articolo : LM-SnS2
Solfuro di tungsteno (WS2) Sputtering Target / Polvere / Filo / Blocco / Granulo
Numero articolo : LM-WS2
Obiettivo di sputtering in solfuro di cadmio (CdS) / polvere / filo / blocco / granulo
Numero articolo : LM-CdS
Bersaglio/polvere/filo/blocco/granulo di carburo di boro (B4C) per sputtering
Numero articolo : LM-B4C
Carburo di afnio (HfC) target di sputtering / polvere / filo / blocco / granulo
Numero articolo : LM-HfC
Carburo di tungsteno (WC) Target sputtering / Polvere / Filo / Blocco / Granulo
Numero articolo : LM-WC
Carburo di molibdeno (Mo2C) Target sputtering / Polvere / Filo / Blocco / Granulo
Numero articolo : LM-Mo2C
Target di sputtering/polvere/filo/blocco/granulo di boruro di alluminio (AlB2)
Numero articolo : LM-AlB2
Bersaglio di sputtering in carburo di titanio (TiC) / polvere / filo / blocco / granulo
Numero articolo : LM-TiC
Carburo di boro (BC) bersaglio sputtering / polvere / filo / blocco / granulo
Numero articolo : LM-BC
Bersaglio di sputtering in carburo di silicio (SiC) / polvere / filo / blocco / granulo
Numero articolo : LM-SiC
Titanato di litio (Li2TiO3) target di sputtering / polvere / filo / blocco / granulo
Numero articolo : LM-Li2TiO3
Tantalato di litio (LiTaO3) target di sputtering / polvere / filo / blocco / granulo
Numero articolo : LM-LiTaO3
Solfuro di antimonio (Sb2S3) target di sputtering / polvere / filo / blocco / granulo
Numero articolo : LM-Sb2S3
Seleniuro di indio (In2Se3) target di sputtering / polvere / filo / blocco / granulo
Numero articolo : LM-In2Se3
Seleniuro di indio (II) (InSe) Target di sputtering / Polvere / Filo / Blocco / Granulo
Numero articolo : LM-InSe
Titanato di litio (LiTiO3) Target sputtering / Polvere / Filo / Blocco / Granulo
Numero articolo : LM-IiTiO3
Cobalto di litio (LiCoO2) Target di sputtering / Polvere / Filo / Blocco / Granulo
Numero articolo : LM-LiCoO2
Titanato di bario (BaTiO3) bersaglio sputtering / polvere / filo / blocco / granulo
Numero articolo : LM-BaTiO3
Target di sputtering al fluoruro di sodio (NaF) / polvere / filo / blocco / granulo
Numero articolo : LM-NaF
Bersaglio di sputtering al fluoruro di calcio (CaF2) / Polvere / Filo / Blocco / Granulo
Numero articolo : LM-CaF2
Bersaglio di sputtering al fluoruro di bario (BaF2) / Polvere / Filo / Blocco / Granulo
Numero articolo : LM-BaF2
Obiettivo di sputtering / polvere / filo / blocco / granulo di fluoruro di magnesio (MgF2)
Numero articolo : LM-MgF2
Obiettivo di sputtering al fluoruro di potassio (KF) / polvere / filo / blocco / granulo
Numero articolo : LM-KF
Fluoruro di stronzio (SrF2) Target sputtering / Polvere / Filo / Blocco / Granulo
Numero articolo : LM-SrF2
Bersaglio di sputtering di seleniuro di zinco (ZnSe) / polvere / filo / blocco / granulo
Numero articolo : LM-ZnSe
Barca per l'evaporazione del tungsteno
Numero articolo : LMF-TEB
Lastra di vetro ottico al quarzo resistente alle alte temperature
Numero articolo : KTOM-HTR
Fondo emisferico Barca per evaporazione di tungsteno/molibdeno
Numero articolo : KME-YD
Piastra ottica al quarzo JGS1 / JGS2 / JGS3
Numero articolo : KTOM-OQP
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Esplora le origini, i principi e le applicazioni della pressatura isostatica a caldo in vari campi dei materiali.
Esplora l'uso della pressatura isostatica a caldo per la produzione di target di sputtering di alta qualità e le applicazioni della tecnologia di sputtering PVD.
Questo articolo tratta la produzione e l'ottimizzazione dei target di sputtering PVD, concentrandosi su tecniche come la pressatura isostatica a caldo e il trattamento termico ad alta pressione.
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Precauzioni per l'installazione degli elementi riscaldanti MoSi2
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Scoprite le notevoli caratteristiche e le diverse applicazioni delle lastre di quarzo ottico, tra cui la loro superiore trasmissione ultravioletta, la stabilità termica e l'uso nelle lenti, nei dispositivi di illuminazione e nella produzione di semiconduttori.
L'analisi XRF è una tecnica potente utilizzata da ricercatori e scienziati per determinare la composizione elementare di vari materiali. Una delle fasi più importanti dell'analisi XRF è la preparazione dei campioni da analizzare, che spesso comporta la creazione di pellet da campioni in polvere.