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Le attrezzature per la preparazione dei campioni di KinTek comprendono la frantumazione, la macinazione e la setacciatura dei campioni, mentre le attrezzature per la pressatura idraulica comprendono la pressa manuale, la pressa elettrica, la pressa isostatica, la pressa a caldo e la macchina per il filtraggio della pressa.
KinTek fornisce un'ampia gamma di forni ad alta temperatura, tra cui forni da laboratorio, per la produzione pilota e per la produzione industriale, con una gamma di temperature fino a 3000 ℃. Uno dei vantaggi di KinTek è la capacità di creare forni su misura per funzioni specifiche, come metodi e velocità di riscaldamento differenti, vuoto extra alto e dinamico, atmosfere controllate e circuiti di gas, strutture meccaniche automatizzate e sviluppo di software e hardware.
KinTek offre una gamma di materiali di consumo per il laboratorio, tra cui materiali per l'evaporazione, target, metalli, parti per l'elettrochimica, nonché polveri, pellet, fili, strisce, lamine, piastre e altro ancora.
Le apparecchiature biochimiche di KinTek comprendono evaporatori rotanti, reattori in vetro e acciaio inossidabile, sistemi di distillazione, riscaldatori e refrigeratori a circolazione, nonché apparecchiature per il vuoto.
Target di sputtering/polvere/filo/blocco/granulo di boruro di alluminio (AlB2)
Numero articolo : LM-AlB2
Bersaglio di sputtering in carburo di titanio (TiC) / polvere / filo / blocco / granulo
Numero articolo : LM-TiC
Carburo di boro (BC) bersaglio sputtering / polvere / filo / blocco / granulo
Numero articolo : LM-BC
Bersaglio di sputtering in carburo di silicio (SiC) / polvere / filo / blocco / granulo
Numero articolo : LM-SiC
Titanato di litio (Li2TiO3) target di sputtering / polvere / filo / blocco / granulo
Numero articolo : LM-Li2TiO3
Tantalato di litio (LiTaO3) target di sputtering / polvere / filo / blocco / granulo
Numero articolo : LM-LiTaO3
Solfuro di antimonio (Sb2S3) target di sputtering / polvere / filo / blocco / granulo
Numero articolo : LM-Sb2S3
Seleniuro di indio (In2Se3) target di sputtering / polvere / filo / blocco / granulo
Numero articolo : LM-In2Se3
Seleniuro di indio (II) (InSe) Target di sputtering / Polvere / Filo / Blocco / Granulo
Numero articolo : LM-InSe
Titanato di litio (LiTiO3) Target sputtering / Polvere / Filo / Blocco / Granulo
Numero articolo : LM-IiTiO3
Cobalto di litio (LiCoO2) Target di sputtering / Polvere / Filo / Blocco / Granulo
Numero articolo : LM-LiCoO2
Titanato di bario (BaTiO3) bersaglio sputtering / polvere / filo / blocco / granulo
Numero articolo : LM-BaTiO3
Obiettivo di sputtering al fluoruro di lantanio (LaF3) / Polvere / Filo / Blocco / Granulo
Numero articolo : LM-LaF3
Target di sputtering al fluoruro di sodio (NaF) / polvere / filo / blocco / granulo
Numero articolo : LM-NaF
Bersaglio di sputtering al fluoruro di calcio (CaF2) / Polvere / Filo / Blocco / Granulo
Numero articolo : LM-CaF2
Bersaglio di sputtering al fluoruro di bario (BaF2) / Polvere / Filo / Blocco / Granulo
Numero articolo : LM-BaF2
Obiettivo di sputtering / polvere / filo / blocco / granulo di fluoruro di magnesio (MgF2)
Numero articolo : LM-MgF2
Obiettivo di sputtering al fluoruro di potassio (KF) / polvere / filo / blocco / granulo
Numero articolo : LM-KF
Obiettivo di sputtering del fluoruro di cerio (CeF3) / polvere / filo / blocco / granulo
Numero articolo : LM-CeF3
Fluoruro di stronzio (SrF2) Target sputtering / Polvere / Filo / Blocco / Granulo
Numero articolo : LM-SrF2
Target di sputtering al fluoruro di neodimio (NdF3) / Polvere / Filo / Blocco / Granulo
Numero articolo : LM-NdF3
Bersaglio di sputtering / polvere / filo / blocco / granulo di lisprosium fluoride (DyF3)
Numero articolo : LM-DyF3
Obiettivo di sputtering al fluoruro di samario (SmF3) / Polvere / Filo / Blocco / Granulo
Numero articolo : LM-SmF3
Fluoruro di itterbio (YbF3) target di sputtering / polvere / filo / blocco / granulo
Numero articolo : LM-YbF3
Il fluoruro di ittrio (YF3) è un bersaglio sputtering / polvere / filo / blocco / granulo
Numero articolo : LM-YF3
Bersaglio di sputtering del fluoruro di erbio (ErF3) / polvere / filo / blocco / granulo
Numero articolo : LM-ErF3
Bersaglio di sputtering di seleniuro di zinco (ZnSe) / polvere / filo / blocco / granulo
Numero articolo : LM-ZnSe
Barca per l'evaporazione del tungsteno
Numero articolo : LMF-TEB
Lastra di vetro ottico al quarzo resistente alle alte temperature
Numero articolo : KTOM-HTR
Fondo emisferico Barca per evaporazione di tungsteno/molibdeno
Numero articolo : KME-YD
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Immergetevi nella guida completa sulla pressatura isostatica a caldo (WIP), la sua tecnologia, le sue applicazioni e i suoi vantaggi nella lavorazione dei materiali. Scoprite come il WIP migliora le proprietà dei materiali e il suo ruolo nella produzione avanzata.
Esplorate il mondo dei forni ad atmosfera con la nostra guida dettagliata. Scoprite i loro tipi, le applicazioni in metallurgia e non solo, e i vantaggi che offrono per un trattamento termico preciso dei materiali.
Scoprite il funzionamento dettagliato, le applicazioni e i vantaggi delle celle elettrolitiche al quarzo in vari settori industriali. Scoprite come queste celle facilitano reazioni chimiche precise e il loro ruolo nella produzione di metalli di elevata purezza.
Scoprite le migliori pratiche e tecnologie per la misurazione dello spessore dei rivestimenti con misuratori portatili. Ideale per la galvanotecnica, la verniciatura automobilistica e i rivestimenti in polvere.
Precauzioni per l'installazione di stic in carburo di silicio.
Imparate a conoscere il principio scientifico della setacciatura, compreso il processo di separazione delle particelle in base alle dimensioni, i tipi di setacci da laboratorio. Scoprite come la setacciatura influisce sui vari settori industriali e sull'accuratezza delle misure di dimensionamento delle particelle.
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Addentratevi nel mondo delle lastre di quarzo ottico, esplorando le loro eccezionali proprietà e le diverse applicazioni in settori quali l'ottica, l'elettronica e altri ancora. Scoprite i loro vantaggi, tra cui la bassa espansione termica, la resistenza alle alte temperature e la precisa chiarezza ottica.
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Scoprite le notevoli caratteristiche e le diverse applicazioni delle lastre di quarzo ottico, tra cui la loro superiore trasmissione ultravioletta, la stabilità termica e l'uso nelle lenti, nei dispositivi di illuminazione e nella produzione di semiconduttori.
L'analisi XRF è una tecnica potente utilizzata da ricercatori e scienziati per determinare la composizione elementare di vari materiali. Una delle fasi più importanti dell'analisi XRF è la preparazione dei campioni da analizzare, che spesso comporta la creazione di pellet da campioni in polvere.
La pressatura isostatica a freddo (CIP) e la pressatura isostatica a caldo (HIP) sono due tecniche di metallurgia delle polveri utilizzate per produrre componenti metallici densi e di alta qualità.
L'apparecchiatura Warm Isostatic Press (WIP), nota anche come Warm Isostatic Laminator, è una tecnologia all'avanguardia che combina la pressatura isostatica con un elemento riscaldante. Utilizza acqua calda o un mezzo simile per applicare una pressione uniforme ai prodotti in polvere da tutte le direzioni. Il processo consiste nel modellare e pressare il materiale in polvere utilizzando materiali flessibili come stampo a camicia e la pressione idraulica come mezzo di pressione.
La pressatura isostatica a caldo (HIP) è una tecnologia utilizzata per densificare i materiali ad alte temperature e pressioni. Il processo prevede l'inserimento di un materiale in un contenitore sigillato, che viene poi pressurizzato con un gas inerte e riscaldato ad alta temperatura.
La pressatura isostatica è un processo di produzione versatile, ampiamente utilizzato in vari settori industriali. Consiste nel sottoporre un materiale a una pressione uguale in tutte le direzioni per ottenere una densità e una forma uniformi. La pressatura isostatica offre numerosi vantaggi, come la capacità di produrre forme complesse, l'uniformità delle proprietà del materiale e l'elevata precisione. Questa guida completa approfondisce i diversi tipi di pressatura isostatica, tra cui quella a freddo, a caldo e a caldo. Esploreremo i processi, le caratteristiche e le applicazioni di ciascun tipo, fornendovi una comprensione approfondita di questa tecnica di produzione essenziale. Quindi, tuffiamoci!
L'analisi a fluorescenza di raggi X (XRF) è una tecnica comunemente utilizzata per analizzare le polveri in vari settori. Per quanto riguarda la preparazione dei campioni di polvere per l'analisi XRF, esistono due metodi principali: il metodo della polvere pressata e il metodo della polvere sciolta. Il metodo della polvere pressata prevede la compressione del campione in una pallina o in un disco, mentre il metodo della polvere sciolta prevede il semplice inserimento del campione in una tazza o in un contenitore. Ogni metodo presenta vantaggi e svantaggi e la scelta del metodo dipende dai requisiti specifici dell'analisi.
L'evaporatore rotante, noto anche come rotavapor, è un'apparecchiatura di laboratorio comunemente utilizzata per rimuovere i solventi da un campione. Funziona ruotando il matraccio del campione per creare una sottile pellicola di solvente, che viene poi fatta evaporare.
La pressatura isostatica a freddo (CIP) è un processo utilizzato per compattare le polveri in una forma o dimensione specifica. Questo metodo prevede che le polveri siano sottoposte a una pressione elevata, in genere compresa tra 100 e 200 MPa, in un mezzo liquido.
La pressatura isostatica a freddo (CIP) è una tecnica di compattazione delle polveri che prevede l'applicazione di una pressione uniforme su un contenitore pieno di polvere da tutte le direzioni.