La deposizione di vapore nei film sottili è un processo utilizzato per depositare strati sottili di materiale su un substrato.
Questo processo avviene tipicamente in condizioni controllate in un ambiente sotto vuoto.
È fondamentale per la fabbricazione di micro/nano dispositivi.
Il processo prevede l'emissione di particelle da una sorgente, il loro trasporto verso il substrato e la loro condensazione sulla superficie del substrato.
5 metodi chiave spiegati
1. Deposizione fisica da vapore (PVD)
La deposizione fisica da vapore (PVD) e la deposizione chimica da vapore (CVD) sono i due metodi principali utilizzati per la deposizione da vapore.
La PVD comprende tecniche come lo sputtering, l'evaporazione e la sublimazione.
Nella PVD, il materiale viene fisicamente vaporizzato da una sorgente e poi depositato sul substrato.
2. Deposizione chimica da vapore (CVD)
La CVD, invece, prevede reazioni chimiche dalla fase di vapore.
I precursori gassosi reagiscono per formare un film sottile solido sul substrato.
La CVD è particolarmente efficace per produrre film e rivestimenti solidi di alta qualità.
3. Evaporazione termica
L'evaporazione termica è un tipo di PVD.
Utilizza un riscaldamento resistivo per far evaporare il materiale solido in una camera ad alto vuoto, creando un'elevata pressione di vapore.
Il materiale evaporato riveste quindi la superficie del substrato.
Questa tecnica è ampiamente utilizzata nell'industria per creare strati di legame metallico in celle solari, transistor a film sottile, wafer di semiconduttori e OLED a base di carbonio.
4. Applicazioni della deposizione a film sottile
Le applicazioni della deposizione di film sottili sono numerose.
Vanno dai film meccanici super duri e resistenti alla corrosione ai film funzionali come quelli per la registrazione magnetica, l'archiviazione delle informazioni, i film fotosensibili, termosensibili, superconduttori e per la conversione fotoelettrica.
Inoltre, con questa tecnologia si possono preparare anche rivestimenti decorativi.
5. Scelta tra PVD e CVD
La scelta tra PVD e CVD dipende dai requisiti specifici del film.
Questi requisiti includono la composizione, la purezza, la morfologia, lo spessore, la microstruttura e altre proprietà funzionali.
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