La deposizione chimica da vapore (CVD) è un metodo sofisticato utilizzato per sintetizzare le gemme, in particolare i diamanti, depositando un sottile strato di materiale su un substrato attraverso reazioni chimiche in un ambiente controllato. Questa tecnica non solo è efficiente, ma produce anche gemme fisicamente e chimicamente identiche alle loro controparti naturali, rendendole una scelta popolare per la loro alta qualità e convenienza.
Panoramica del processo:
Il processo CVD inizia posizionando un sottile seme di diamante in una camera sigillata e riscaldandolo a temperature fino a 800°C. La camera viene quindi riempita con una miscela di gas ricchi di carbonio, in genere idrogeno e metano. Attraverso la ionizzazione, i legami molecolari di questi gas vengono spezzati, permettendo al carbonio puro di attaccarsi al seme di diamante. Man mano che il carbonio si accumula, forma legami atomici con il seme, accumulandosi gradualmente per creare un diamante più grande. Questa crescita avviene strato per strato, imitando la formazione naturale dei diamanti, ma in un arco di tempo significativamente più breve, in genere da due a quattro settimane.Dettagli tecnici:
Il metodo CVD prevede diversi percorsi tecnici, con la Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition (MPCVD) che è la più diffusa grazie alla sua maturità e al suo utilizzo. Nel processo MPCVD, l'energia delle microonde viene utilizzata per generare una scarica a bagliore nella camera di reazione, che ionizza le molecole di gas e crea un plasma. Questo plasma facilita la crescita di piccoli semi di diamante in diamanti monocristallo più grandi, depositando atomi di carbonio strato per strato a livello atomico.
Confronto con l'HPHT:
