Quando si tratta di creare rivestimenti o strati sui materiali, due metodi comuni sono la PCD (diamante policristallino) e la CVD (deposizione chimica da vapore).
7 differenze chiave tra PCD e CVD
1. Composizione
Gli utensili PCD sono realizzati mediante brasatura di un wafer di diamante su un corpo di carburo.
Gli utensili CVD, invece, sono frese in carburo con uno strato relativamente spesso di diamante policristallino cresciuto al loro interno.
2. Bordo di taglio
Gli utensili PCD hanno un tagliente affilato.
Gli utensili CVD hanno un tagliente arrotondato grazie allo strato di diamante cresciuto.
3. Processo
Il PCD viene creato brasando un wafer di diamante su un corpo in carburo.
Il processo CVD prevede la crescita di uno strato di diamante su un substrato di carburo mediante deposizione di vapore chimico.
4. Spessore del rivestimento
Nella PCD, lo strato di diamante è relativamente spesso.
Nella CVD, lo strato di diamante è molto più sottile.
5. Metodo di deposizione
La deposizione PCD è un processo fisico in cui il wafer di diamante viene brasato direttamente sul corpo di carburo.
La deposizione CVD è un processo chimico in cui lo strato di diamante viene fatto crescere da una fase gassosa sul substrato di carburo.
6. Reazione chimica
La deposizione PCD non comporta alcuna reazione chimica.
La deposizione CVD si basa su reazioni chimiche che avvengono sulla superficie del substrato.
7. Uniformità di deposizione
Il rivestimento CVD si trova in uno stato gassoso fluente, che porta a una deposizione diffusa e multidirezionale.
La PVD (Physical Vapor Deposition), compresa la PCD, prevede la vaporizzazione di particelle fisiche solide in un plasma, con conseguente deposizione in linea di sito. Ciò significa che i rivestimenti CVD possono essere più uniformi e avere una migliore copertura su superfici irregolari rispetto ai rivestimenti PVD.
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