La deposizione chimica da vapore (CVD) è un processo utilizzato per creare rivestimenti solidi di alta qualità e ad alte prestazioni su substrati utilizzando vapori chimicamente reattivi.
Il processo prevede la reazione di uno o più gas, noti come gas precursori, in una camera di reazione per depositare un materiale solido sulla superficie di un substrato.
I gas precursori reagiscono tra loro o con la superficie del substrato per formare un film solido, la cui composizione può variare a seconda dei requisiti del progetto.
5 fasi chiave spiegate
1. Diffusione del gas di reazione sulla superficie del substrato
I gas precursori vengono introdotti nella camera di reazione e si diffondono sulla superficie del substrato.
2. Adsorbimento del gas di reazione sulla superficie del substrato
I gas precursori si adsorbono sulla superficie del substrato, formando uno strato di specie reattive.
3. Reazione chimica sulla superficie del substrato per formare un deposito solido
Le specie reattive sulla superficie del substrato subiscono una reazione chimica, formando un deposito solido.
4. Rilascio dei sottoprodotti della fase vapore dalla superficie del substrato
I sottoprodotti di questa reazione vengono rilasciati sotto forma di vapore e rimossi dalla camera.
5. Formazione di un film solido
Il film solido si forma sulla superficie del substrato, la cui composizione può variare a seconda dei requisiti del progetto.
La CVD presenta numerosi vantaggi, tra cui la possibilità di depositare un'ampia varietà di materiali, come pellicole metalliche, pellicole non metalliche, pellicole di leghe multicomponente e strati ceramici o composti.
Il processo può essere eseguito a pressione atmosferica o a basso vuoto, consentendo buone proprietà avvolgenti e un rivestimento uniforme di superfici di forma complessa o di fori profondi o sottili nel pezzo.
Inoltre, i rivestimenti CVD hanno un'elevata purezza, una buona densità, basse tensioni residue e una buona cristallizzazione.
Esistono diversi tipi di processi CVD, tra cui CVD a filamento caldo, deposizione di strati atomici (ALD) e deposizione di vapori chimici metalorganici (MOCVD).
Queste tecniche offrono un'ampia gamma di funzionalità di funzionalizzazione superficiale che superano quelle di altre tecnologie di rivestimento.
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