I metodi di fabbricazione dei film sottili comprendono la deposizione chimica e la deposizione fisica.
I metodi di deposizione chimica prevedono la reazione di un fluido precursore sul substrato, con conseguente formazione di uno strato sottile sul solido. Tra i metodi di deposizione chimica più diffusi vi sono l'elettroplaccatura, il sol-gel, il dip coating, lo spin coating, la deposizione chimica da vapore (CVD), la CVD potenziata da plasma (PECVD) e la deposizione atomica da strato (ALD). Questi metodi offrono vantaggi quali la semplicità di fabbricazione, l'eccellente uniformità del film, la capacità di coprire superfici di qualsiasi dimensione e su vaste aree e la bassa temperatura di lavorazione. Tuttavia, possono richiedere attrezzature sofisticate e strutture in camera bianca.
I metodi di deposizione fisica comprendono la deposizione fisica da vapore (PVD) e varie tecniche al suo interno. I metodi PVD prevedono la deposizione di atomi o molecole su un substrato attraverso mezzi fisici. Lo sputtering è una tecnica PVD comunemente utilizzata in cui gli ioni di argon, creati da una scarica a bagliore sotto vuoto, spruzzano gli atomi/molecole target, che aderiscono ai substrati e formano un film sottile. Altre tecniche di PVD includono l'evaporazione termica, il rivestimento di carbonio, il fascio di elettroni e la deposizione laser pulsata (PLD). I metodi PVD sono noti per la loro buona precisione e uniformità.
Esistono inoltre metodi di rivestimento a film sottile economicamente vantaggiosi, come il rivestimento per immersione, il rivestimento a rotazione, il rivestimento a spruzzo, il rivestimento a lama e il rivestimento a rullo. Questi metodi presentano vantaggi e svantaggi a seconda dell'applicazione proposta. Possono non essere adatti alla produzione su larga scala a causa di alcune limitazioni. Tuttavia, offrono film sottili con buona omogeneità e bassa rugosità superficiale.
In generale, la scelta del metodo di fabbricazione dei film sottili dipende da fattori quali il tipo e le dimensioni del substrato, i requisiti di spessore e rugosità superficiale, le considerazioni economiche e la disponibilità di attrezzature e strutture.
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