La deposizione di un vapore è il processo di formazione di un film solido su una superficie a partire da materiali vaporizzati.
Questo processo può avvenire con mezzi chimici o fisici.
È fondamentale in diverse applicazioni industriali, soprattutto nella formazione di film sottili per l'elettronica, l'ottica e i dispositivi medici.
Che cos'è la deposizione di un vapore? 5 punti chiave spiegati
1. Deposizione chimica da vapore (CVD)
Nella CVD, la deposizione di un film solido avviene attraverso una reazione chimica in fase di vapore.
Il processo prevede in genere tre fasi principali:
1.1 Evaporazione di un composto volatile
La sostanza da depositare viene prima vaporizzata.
Questo avviene spesso riscaldando un materiale precursore ad alta temperatura, facendolo evaporare in fase gassosa.
1.2 Decomposizione termica o reazione chimica
Il vapore subisce una decomposizione termica in atomi e molecole o reagisce con altri vapori o gas sulla superficie del substrato.
Questa fase è cruciale perché dà inizio alla trasformazione chimica necessaria per la formazione del film.
1.3 Deposizione dei prodotti non volatili della reazione
I prodotti della reazione chimica, ora allo stato solido, si depositano sul substrato, formando un film sottile.
Questa deposizione è influenzata da fattori quali la temperatura e la pressione, tipicamente elevate nei processi CVD.
2. Deposizione fisica da vapore (PVD)
La PVD comporta il trasferimento di materiale dallo stato solido allo stato di vapore e di nuovo allo stato solido su un substrato.
Il processo comprende:
2.1 Vaporizzazione del materiale solidoIl materiale da depositare viene riscaldato fino alla vaporizzazione.Ciò può essere ottenuto con vari metodi, come lo sputtering, l'evaporazione o il riscaldamento con fascio di elettroni.
