Nella deposizione fisica da vapore (PVD), i gas svolgono un ruolo cruciale nella formazione di vari composti che migliorano le proprietà del materiale del substrato.
I 3 principali gas utilizzati nella PVD: Ossigeno, Azoto e Metano
L'ossigeno
L'ossigeno è comunemente utilizzato nel processo PVD.
Reagisce con gli atomi di metallo per formare ossidi metallici.
Questa reazione avviene durante la fase di trasporto.
La formazione di ossidi metallici è essenziale per le applicazioni che richiedono resistenza all'ossidazione e maggiore durezza.
L'azoto
L'azoto è un altro gas chiave utilizzato nella PVD.
È particolarmente importante in processi come lo sputtering.
Il materiale di destinazione è spesso un metallo come il titanio.
La reazione tra azoto e titanio porta alla formazione di nitruro di titanio (TiN).
Il TiN è un composto duro e resistente all'usura.
Questa reazione è potenziata dalla presenza di azoto gassoso nell'ambiente del plasma.
Il metano
Il metano viene utilizzato nei processi PVD per formare carburi.
È particolarmente efficace quando il materiale di destinazione è un metallo in grado di formare carburi stabili.
La reazione tra metano e atomi di metallo porta alla deposizione di carburi metallici.
I carburi metallici sono noti per la loro durezza e resistenza all'usura.
Questo gas è tipicamente utilizzato in applicazioni specifiche in cui la formazione di carburi è vantaggiosa.
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