Un reattore per la deposizione chimica da vapore (CVD) è un sistema complesso progettato per depositare film sottili su substrati.
8 parti essenziali spiegate
1. Sistema di erogazione del gas
Questo sistema fornisce i precursori alla camera del reattore.
2. Camera del reattore
È il luogo in cui avviene la deposizione del film sottile.
3. Meccanismo di caricamento del substrato
Questo sistema introduce e rimuove i substrati all'interno e all'esterno della camera del reattore.
4. Fonte di energia
Fornisce il calore o l'energia necessari per le reazioni chimiche.
5. Sistema di vuoto
Mantiene un ambiente controllato rimuovendo i gas indesiderati.
6. Sistema di scarico
Rimuove i sottoprodotti volatili e i gas in eccesso.
7. Sistemi di trattamento dei gas di scarico
Trattano i componenti nocivi o tossici presenti nei gas di scarico.
8. Apparecchiature di controllo del processo
Include manometri, controlli e sistemi di monitoraggio di parametri quali pressione, temperatura e tempo.
Ogni componente è fondamentale per il funzionamento efficiente ed efficace di un reattore CVD.
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