La deposizione fisica da vapore (PVD) è un processo utilizzato per rivestire un metallo con un film sottile di un altro materiale.
Questa tecnica prevede il trasferimento di materiale a livello atomico.
Il materiale passa dalla fase condensata alla fase gassosa per poi tornare alla fase condensata sotto forma di film sottile sul substrato.
I rivestimenti PVD sono in genere più duri e resistenti del materiale che rivestono.
Questo migliora le prestazioni del metallo sottostante.
5 passi fondamentali per comprendere la deposizione fisica da vapore
1. Vaporizzazione dei materiali di rivestimento
Si tratta dell'evaporazione, della separazione o dello sputtering dei materiali di rivestimento.
Il materiale viene riscaldato finché non vaporizza, trasformandosi da solido in gas.
2. Migrazione di atomi, molecole o ioni
Dopo la vaporizzazione, gli atomi, le molecole o gli ioni migrano attraverso una regione di bassa pressione dalla sorgente al substrato.
Questa fase comprende tutte le reazioni che si verificano dopo la collisione delle particelle.
3. Deposizione sul substrato
Il materiale vaporizzato si condensa sulla superficie del substrato, formando un film sottile.
La deposizione avviene ad alta temperatura, mentre il substrato viene mantenuto a una temperatura inferiore per evitare danni.
4. Caratteristiche del PVD
La PVD si caratterizza per la capacità di creare rivestimenti difficilmente ottenibili con altri metodi.
Questi rivestimenti includono rivestimenti ceramici o compositi con elevata durezza e resistenza all'usura.
5. Vantaggi della PVD
La PVD è una tecnologia di scarica ad arco a bassa tensione e alta corrente che opera in condizioni di vuoto.
Questo riduce al minimo l'inquinamento ambientale.
Questa tecnologia è particolarmente vantaggiosa per le applicazioni su utensili e stampi.
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