Quando si tratta di creare film sottili, due metodi comuni sono l'evaporazione termica e quella a fascio di elettroni.
Questi metodi differiscono principalmente per il modo in cui vaporizzano il materiale.
1. Metodo di riscaldamento
Evaporazione termica: Questo metodo utilizza una corrente elettrica per riscaldare un crogiolo.
Il crogiolo contiene il materiale che deve essere vaporizzato.
Quando il crogiolo si riscalda, il materiale al suo interno si scioglie e poi evapora.
Evaporazione a fascio di elettroni: Questo metodo utilizza un fascio di elettroni ad alta energia per riscaldare direttamente il materiale.
Gli elettroni ad alta energia riscaldano il materiale a una temperatura elevata, facendolo evaporare.
2. Idoneità del materiale
Evaporazione termica: Questo metodo è ideale per i materiali che hanno un punto di fusione più basso.
Ad esempio, metalli e non metalli.
Evaporazione a fascio di elettroni: Questo metodo può trattare materiali con punti di fusione più elevati.
È particolarmente indicato per i metalli refrattari come tungsteno, tantalio o grafite.
3. Purezza e impurità
Evaporazione termica: Questo metodo può produrre rivestimenti a film sottile meno densi.
Il rischio di impurità è maggiore perché il crogiolo viene riscaldato.
Evaporazione a fascio di elettroni: Questo metodo produce generalmente film di maggiore purezza.
Il riscaldamento localizzato e l'assenza di riscaldamento del crogiolo riducono il rischio di impurità.
4. Velocità di deposizione
Evaporazione termica: La velocità di deposizione è generalmente inferiore rispetto all'evaporazione a fascio di elettroni.
Evaporazione a fascio di elettroni: Questo metodo offre tassi di deposizione più elevati.
5. Complessità e costi
Evaporazione termica: Questo metodo è più semplice e meno costoso.
Evaporazione a fascio di elettroni: Questo metodo richiede un'elettronica complessa e costosa.
Richiede inoltre funzioni di sicurezza avanzate.
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