Il processo di deposizione a fascio prevede l'interazione di un fascio di particelle, come ioni o elettroni, con un materiale bersaglio per depositare film sottili su un substrato. Questo processo è fondamentale per diverse applicazioni, tra cui la creazione di rivestimenti densi e di alta qualità, con un'adesione superiore e meno difetti. Esistono diversi metodi chiave di deposizione a fascio, ciascuno con caratteristiche e vantaggi unici.
Deposizione a fascio di ioni:
La deposizione a fascio ionico (IBD) prevede l'uso di un fascio di ioni altamente collimato per interagire con un materiale di destinazione, dando luogo a processi quali l'impiantazione, lo sputtering e la diffusione. Nella deposizione sputter a fascio ionico, gli ioni del fascio colpiscono un bersaglio vicino al substrato, provocando l'espulsione di particelle del materiale bersaglio e il loro deposito sul substrato. Questo metodo offre flessibilità e precisione nel controllo dei parametri di deposizione, ottenendo depositi di alta qualità con un impatto minimo sul campione.Deposizione a fascio di elettroni:
La deposizione a fascio di elettroni (E-Beam) utilizza un fascio di elettroni focalizzato per riscaldare e vaporizzare i materiali di partenza, che poi si condensano su un substrato per formare un film sottile. Questo processo può essere controllato con precisione utilizzando sistemi computerizzati per gestire parametri quali il riscaldamento, i livelli di vuoto e il posizionamento del substrato. L'aggiunta dell'assistenza del fascio ionico durante la deposizione E-Beam migliora l'adesione e la densità dei rivestimenti, consentendo di ottenere rivestimenti ottici più robusti e meno sollecitati.
Meccanismo di deposizione:
Sia nella deposizione a fascio ionico che in quella a fascio elettronico, l'energia delle particelle del fascio viene trasferita al materiale target, provocandone la vaporizzazione. Il materiale vaporizzato si deposita quindi su un substrato, formando un film sottile. La scelta del metodo di deposizione dipende dalle proprietà desiderate del film e dai requisiti specifici dell'applicazione.
Vantaggi e applicazioni:
