Una macchina sputtering è un dispositivo specializzato utilizzato per depositare film sottili di materiale su vari substrati. Questo processo comporta l'espulsione di atomi da un materiale di partenza, noto come bersaglio di sputtering, grazie al bombardamento di particelle energetiche. Gli atomi espulsi viaggiano e si depositano su un substrato, formando un film sottile con proprietà specifiche. Le macchine sputtering sono versatili e possono essere utilizzate in diversi settori, tra cui la produzione di semiconduttori e la scienza dei materiali.
Come funziona lo sputtering:
Lo sputtering è un processo sotto vuoto che prevede la creazione di un flusso di adatomi (atomi pronti a formare un nuovo strato) da una sorgente solida. Il materiale di partenza viene posto in una camera a vuoto riempita con un gas inerte. Quando il materiale di partenza è carico negativamente, diventa un catodo e vengono emessi elettroni liberi. Questi elettroni entrano in collisione con gli atomi del gas, che si ionizzano e formano un plasma. Gli atomi di gas ionizzati accelerano quindi verso il bersaglio con carica negativa, staccando gli atomi dalla superficie del bersaglio. Gli atomi polverizzati attraversano il vuoto e si depositano su un substrato, formando un film sottile.Tipi di macchine sputtering:
Esistono diversi tipi di macchine per lo sputtering, tra cui lo sputtering a fascio ionico e lo sputtering a magnetron. Lo sputtering a fascio ionico prevede la focalizzazione di un fascio di ioni-elettroni direttamente sul bersaglio per spruzzare il materiale su un substrato. Il magnetron sputtering utilizza un campo magnetico per migliorare la ionizzazione del gas e aumentare la velocità di sputtering.
Applicazioni e innovazioni:
Le macchine sputtering sono utilizzate per diverse applicazioni, come il rivestimento di campioni biologici con platino per la microscopia elettronica a scansione, il deposito di film sottili nell'industria dei semiconduttori e l'incisione di strati superficiali per analizzare la composizione chimica. Il processo è altamente adattabile e consente di creare film con proprietà diverse, come la riflettività, la conducibilità elettrica e altro ancora. Le innovazioni nella tecnologia di sputtering hanno portato a oltre 45.000 brevetti statunitensi dal 1976, evidenziando la sua importanza nella produzione di materiali e dispositivi avanzati.
Apparecchiature e manutenzione:
